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曹阳

作品数：12 被引量：23H指数：3
供职机构：河北工业大学更多>>
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合作作者

领域

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主题

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  • 12个CMP
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  • 6个电化学
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机构

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资助

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  • 10个国家中长期科...
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传媒

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  • 3个微细加工技术
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地区

  • 15个天津市
  • 1个河北省
共 16 条 记 录，以下是 1-10
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王辰伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高娇娇
供职机构：河北工业大学电子信息工程学院
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 化学机械抛光 碱性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈蕊
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP 铜布线 抛光液 化学机械抛光 阻挡层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
蔡婷
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP TSV 化学机械平坦化 多胺 络合剂
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘旭
供职机构：河北工业大学
研究主题：混合励磁 间接矩阵变换器 磁阻电机 零电压矢量 共模电压
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘钠
供职机构：河北工业大学
研究主题：超大规模集成电路 集成电路 抛光 CMP技术 硅片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
马锁辉
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP TSV 阻挡层 化学机械平坦化 多胺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张楷亮
供职机构：天津理工大学
研究主题：化学机械抛光 抛光液 存储器 叠层结构 抛光速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张宏远
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP 抛光速率 HCL 钽 盐酸胍
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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