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李仁豪

作品数：28 被引量：37H指数：3
供职机构：重庆光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术化学工程更多>>

合作作者

领域

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主题

  • 40个CCD
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机构

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资助

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传媒

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地区

  • 46个重庆市
  • 3个四川省
  • 1个江苏省
  • 1个北京市
共 51 条 记 录，以下是 1-10
龙飞
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD TDI 高分辨率 可见光CCD 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
廖乃镘
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：电荷耦合器件 CCD 氢化非晶硅薄膜 非晶硅 A-SI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
雷仁方
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD MPP 电荷耦合器件 光刻 辐照
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向华兵
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD LPCVD 表面光电压 氮化硅 电荷耦合器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
罗春林
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：电荷耦合器件 多晶硅 硅片 CCD 表面光电压
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
向鹏飞
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 刻蚀 选择比 反应离子刻蚀 光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
阙蔺兰
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：多晶硅 LPCVD CCD 电荷耦合器件 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张坤
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：电荷耦合器件 CCD图像传感器 CCD 放大器 仿真
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
蒋志伟
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：非均匀性校正 CCD 非均匀性 红外图像 TDI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李贝
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：表面光电压 铁离子 沾污 电荷耦合器件 硅片清洗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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