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潘磊

作品数：3 被引量：9H指数：2
供职机构：同济大学更多>>
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共 11 条 记 录，以下是 1-10
王占山
供职机构：同济大学
研究主题：多层膜 极紫外 软X射线 反射率 磁控溅射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
朱京涛
供职机构：同济大学
研究主题：多层膜 磁控溅射 极紫外 反射率 周期多层膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈玲燕
供职机构：同济大学
研究主题：多层膜 软X射线 磁控溅射 反射率 气凝胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王晓强
供职机构：同济大学
研究主题：多层膜 面形误差 反射率 极紫外 超光滑表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐敬
供职机构：同济大学理学院精密光学工程技术研究所
研究主题：原子力显微镜 方解石 磁控溅射 反射率 碳酸钙
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张众
供职机构：同济大学
研究主题：多层膜 极紫外 磁控溅射 X射线 反射率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
蒋励
供职机构：同济大学
研究主题：多层膜 反射率 极紫外 MO/SI多层膜 衍射效率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
蒋晖
供职机构：同济大学理学院精密光学工程技术研究所
研究主题：纳米多层膜 自相关函数 磁控溅射 SIC 反射率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李浩川
供职机构：同济大学
研究主题：多层膜 极紫外 硬X射线 LAUE 透镜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
谭默言
供职机构：上海应用技术学院理学院
研究主题：反射率 多层膜 高反射率 软X射线 直流磁控溅射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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