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张丽

作品数：14 被引量：19H指数：3
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学电子电信自动化与计算机技术一般工业技术更多>>

合作作者

领域

  • 17个电子电信
  • 14个理学
  • 10个一般工业技术
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  • 7个金属学及工艺
  • 7个机械工程
  • 6个电气工程
  • 3个自动化与计算...
  • 2个轻工技术与工...
  • 1个建筑科学
  • 1个医药卫生

主题

  • 16个单晶
  • 16个晶体
  • 14个ALN
  • 13个碳化硅
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  • 12个PVT
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机构

  • 16个中国电子科技...
  • 2个中华人民共和...
  • 1个河北工业大学
  • 1个天津大学
  • 1个电子工业部
  • 1个中国电子科技...
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  • 1个天津电子材料...

资助

  • 10个国家自然科学...
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  • 2个国家重点基础...
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传媒

  • 14个微纳电子技术
  • 13个半导体技术
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  • 8个硅酸盐学报
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  • 3个现代仪器
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  • 2个波谱学杂志
  • 2个兵器材料科学...
  • 2个微波学报

地区

  • 16个天津市
  • 1个北京市
共 17 条 记 录，以下是 1-10
史月增
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：PVT ALN 籽晶 单晶 X射线双晶衍射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
齐海涛
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：籽晶 PVT ALN 碳化硅 单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
程红娟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：晶体 HVPE 氮化镓 单晶 DAST
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
金雷
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：籽晶 PVT ALN 碳化硅 衬底温度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐永宽
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：HVPE GAN 氮化镓 氢化物气相外延 DAST
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐世海
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 晶片 GASB CMP工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
洪颖
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：SIC 碳化硅 籽晶 半绝缘 4H-SIC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高飞
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 表面粗糙度 4H-SIC SIC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李宝珠
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：高功率光纤激光器 光纤激光器 高功率 半导体 宽禁带半导体
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘金鑫
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：碳化硅 CVD TAC涂层 高温化学 气相沉积法
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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