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袁晨

作品数:2 被引量:6H指数:2
供职机构:安徽工业大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇损耗
  • 2篇开关损耗
  • 2篇SIC
  • 1篇电容
  • 1篇氧化物半导体
  • 1篇输出电容
  • 1篇损耗特性
  • 1篇迁移
  • 1篇迁移率
  • 1篇界面态
  • 1篇金属氧化物半...
  • 1篇金属氧化物半...
  • 1篇晶体管
  • 1篇功率MOSF...
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体场效应...
  • 1篇MOSFET
  • 1篇场效应
  • 1篇场效应晶体管

机构

  • 2篇安徽工业大学

作者

  • 2篇袁晨
  • 1篇周郁明
  • 1篇陈涛

传媒

  • 1篇固体电子学研...

年份

  • 2篇2017
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
SiC功率MOSFET损耗特性的研究
随着当今科技的日渐发展,碳化硅功率器件备受人们的关注。以SiC功率MOSFET为例,其低导通电阻、耐高温和高开关频率等特性使之深受高电压大功率开关设备的青睐。SiC功率MOSFET开关损耗的真实估计对于准确预测功率电子器...
袁晨
关键词:开关损耗界面态输出电容
文献传递
SiO_2/SiC界面陷阱对SiC MOSFET开关损耗的影响被引量:3
2017年
位于SiO_2/SiC界面处密度较高的陷阱,不仅俘获SiC MOSFET沟道中的载流子,而且对沟道中的载流子形成散射、降低载流子的迁移率,因而严重影响了SiC MOSFET的开关特性。目前商业化的半导体器件仿真软件中迁移率模型是基于Si器件开发,不能体现SiO_2/SiC界面处的陷阱对沟道中载流子的散射作用。通过引入能正确反映界面陷阱对载流子作用的迁移率模型,利用半导体器件仿真软件研究了界面陷阱对SiC MOSFET动态特性的影响。结果表明,随着界面陷阱密度的增加,SiC MOSFET开通过程变慢,开通损耗增加,而关断过程加快,关断损耗减小;但是由于沟道载流子数量的减少、导通电阻的增加,总损耗是随着界面陷阱密度的增加而增加。
刘航志周郁明袁晨陈涛
关键词:迁移率损耗
共1页<1>
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