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文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇直流特性
  • 2篇SIC
  • 2篇4H-SIC
  • 2篇MESFET
  • 1篇瞬态
  • 1篇瞬态特性

机构

  • 2篇电子科技大学

作者

  • 2篇周春华
  • 2篇陈壮梁
  • 2篇邓小川
  • 2篇罗小蓉
  • 2篇黄何
  • 1篇张波
  • 1篇李肇基

传媒

  • 1篇微电子学
  • 1篇实验科学与技...

年份

  • 1篇2007
  • 1篇2006
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
4H-SiC MESFET表面陷阱效应研究被引量:1
2007年
借助ISE TCAD,对4H-SiC MESFET进行二维数值模拟,研究分析了表面陷阱对直流和瞬态特性的影响。数值模拟表明,在直流特性上,由于表面陷阱电荷引入附加耗尽层,器件饱和电流下降,输出电阻增加,夹断电压向右偏移,跨导降低;在瞬态特性上,表面陷阱电荷的缓慢变化引起了栅延迟的出现。能级靠近价带、密度较高时,表面陷阱效应越明显。
陈壮梁罗小蓉邓小川周春华黄何张波李肇基
关键词:MESFET直流特性
4H-SiC MESFET表面陷阱效应研究
2006年
分析了表面陷阱对4H-SiCMESFET直流和瞬态特性的各种影响。在直流特性上,由表面陷阱引入的附加耗尽层使得饱和电流降低和夹断电压偏移;在瞬态特性上,引起栅延迟以及跨导和输出电导的频散。表面陷阱能级和密度的变化也会影响表面陷阱效应。该文还对栅延迟现象进行了分析,并给出了电子浓度分布随时间的变化。
陈壮梁罗小蓉邓小川周春华黄何
关键词:MESFET直流特性瞬态特性
共1页<1>
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