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胡浩林

作品数:3 被引量:4H指数:1
供职机构:北京科技大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国家教育部博士点基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇等离子体化学...
  • 1篇电场
  • 1篇电场分布
  • 1篇硬质
  • 1篇硬质合金
  • 1篇硬质合金表面
  • 1篇数值模拟
  • 1篇透过率
  • 1篇涂层
  • 1篇重入
  • 1篇微波等离子体
  • 1篇微波等离子体...
  • 1篇微波谐振腔
  • 1篇谐振腔
  • 1篇金刚石
  • 1篇金刚石膜
  • 1篇金刚石涂层
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇合金

机构

  • 3篇北京科技大学
  • 1篇国家安全生产...

作者

  • 3篇唐伟忠
  • 3篇于盛旺
  • 3篇胡浩林
  • 2篇吕反修
  • 2篇许恒志
  • 1篇李晓静
  • 1篇黑鸿君
  • 1篇高春雨
  • 1篇范朋伟
  • 1篇惠大圣
  • 1篇张思凯

传媒

  • 1篇功能材料
  • 1篇真空
  • 1篇人工晶体学报

年份

  • 2篇2011
  • 1篇2010
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
一种用于金刚石膜沉积装置的重入式微波谐振腔
2010年
微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)是制备高品质金刚石膜的重要方法,而MPCVD技术的关键是其设备核心部件谐振腔的设计。本文基于目前广泛应用的圆柱式和椭球式两种MPCVD谐振腔中微波传输的特点和其各自的优点,提出了一种重入式微波谐振腔的设计构想,并利用数值模拟的方法对这一构想进行了验证。模拟的结果表明,微波在重入式微波谐振腔内外壁之间的路径传输后,可在金刚石膜沉积台处形成一最强且相对均匀的电场。在相同的输入功率下,其形成的最大电场强度高于圆柱式和椭球式两种谐振腔时的情况。由于重入式的微波谐振腔具有结构简单、频率易于调节的优点,因而这一构想可为设计制造新型的MPCVD金刚石膜沉积设备提供参考依据。
李晓静唐伟忠高春雨于盛旺许恒志胡浩林
关键词:数值模拟电场分布金刚石膜
不同压力下硬质合金表面微波等离子体化学气相沉积SiC涂层规律性的研究被引量:4
2011年
以氢气和四甲基硅烷作为先驱气体,采用微波等离子体化学气相沉积法,不同沉积压力条件下、在YG6硬质合金表面制备了的SiC涂层。利用SEM、EDS、XRD、划痕测试法对SiC涂层的表面形貌、相组成和附着力进行了分析。实验结果表明,在较低的压力下,SiC涂层为胞状的纳米团聚物,且胞团的尺度随压力的升高而变小;随着压力的升高,胞状SiC开始并最终全部转变为片层状SiC,并在此过程中伴随着颗粒状Co2Si的形成与长大;随着压力的继续升高,片层状SiC开始转变为须状SiC。胞状SiC向片层状SiC的转变会使涂层致密度提高,而涂层对硬质合金衬底的附着力也会随之增强;Co催化作用的上升引起的片层状SiC向须状SiC的转变会导致SiC涂层的附着力明显降低。以具有片层状特征的SiC作为过渡层,可在未经去Co酸蚀预处理的硬质合金衬底上制备出具有较好附着力的金刚石涂层。
于盛旺黑鸿君胡浩林范朋伟张思凯唐伟忠吕反修
关键词:SIC涂层硬质合金金刚石涂层
富氮MeN_x(Me=Ti,Zr,Hf)薄膜的结构与红外光学性能
2011年
用射频反应磁控溅射方法制备了MeNx(Me=Ti、Zr、Hf)薄膜,研究了在富N2条件下不同的N2/Ar流量比对薄膜结构和光学性能的影响。掠角X射线衍射的分析结果表明,所制得的富氮的TiNx薄膜主要由TiN所组成,而富氮的ZrNx、HfNx薄膜则具有非晶态的结构。用分光光度计和傅里叶红外仪对薄膜的光学透过率的测试表明,TiNx薄膜在可见光及红外波段基本上是不透的,而ZrNx、HfNx薄膜在相应的波长范围,特别是在红外波段则有较高的光学透过率。比较不同N2/Ar流量比条件下制备的MeNx(Me=Zr、Hf)薄膜发现,ZrNx、HfNx两种薄膜的结构和光学性能没有发生显著的变化。最后,在ZnS衬底上制备的HfNx薄膜,在不降低ZnS的光学透过率的情况下,显著地提高了ZnS的表面硬度。因此,HfNx薄膜有望成为红外光学窗口的一种新的保护膜材料。
许恒志唐伟忠于盛旺胡浩林惠大圣吕反修
关键词:红外波段透过率
共1页<1>
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