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孙圆圆

作品数:2 被引量:5H指数:2
供职机构:北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室更多>>
发文基金:国家科技重大专项更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇紫外光刻
  • 2篇物镜
  • 2篇极紫外
  • 2篇极紫外光刻
  • 2篇公差
  • 2篇公差分析
  • 2篇光刻
  • 2篇光刻物镜
  • 1篇定位精度分析
  • 1篇数值孔径
  • 1篇光学
  • 1篇光学设计
  • 1篇补偿器
  • 1篇大数值孔径

机构

  • 2篇北京理工大学

作者

  • 2篇李艳秋
  • 2篇曹振
  • 2篇孙圆圆

传媒

  • 1篇激光与光电子...
  • 1篇光学学报

年份

  • 2篇2015
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
超大数值孔径极紫外光刻物镜的公差分析被引量:3
2015年
超大数值孔径极紫外光刻物镜(NA>0.45)能够满足11 nm光刻技术节点的需求,而高分辨率成像对物镜系统的公差要求非常严格。针对一套数值孔径为0.50的极紫外投影物镜进行了补偿器选择和制造公差分析。通过对系统敏感元件结构参量构成的灵敏度矩阵进行奇异值分解(SVD)来选择像质补偿器。物镜系统的结构参量数目较多,而奇异值分解法要求灵敏度矩阵中结构参量数不多于像差数。为了满足奇异值分解法的要求,首先确定系统的敏感元件并选择敏感元件对应的结构参量构造灵敏度矩阵。再通过对该灵敏度矩阵进行奇异值分解确定有效的补偿器组合,从而弥补公差造成的像质恶化。采用上述方法确定了8个补偿器,并利用CODE V软件进行了公差分配。结果表明,系统波像差均方根值在97.7%的置信概率下小于0.5 nm,且最严公差控制在微米及微弧度量级。
孙圆圆李艳秋曹振
关键词:光学设计公差分析极紫外光刻
极紫外光刻物镜补偿器的选择及定位精度分析被引量:3
2015年
极紫外(EUV)光刻物镜设计不仅要在系统优化阶段尽可能减小残余像差,还必须选择像质补偿器合理分配各项公差,从而在保证系统可制造性的前提下实现预期性能。针对一套数值孔径0.33的极紫外光刻物镜,进行了补偿器的优选和定位精度分析。根据结构参量对系统波像差的灵敏度并结合各结构参量之间的相关性选择了6个像质补偿器,并分析了非补偿器结构参量的公差。在此基础上,提出了基于蒙特卡罗法的补偿器定位精度分析方法。利用蒙特卡罗法模拟实际装调过程,通过分析补偿器定位精度对像质的影响,确定满足统计像质要求的补偿器定位精度。结果显示,当物镜系统最严间隔公差、偏心公差、倾斜公差分别在±2μm、±3μm、±5μrad范围内,间隔和偏心补偿器的定位精度为±0.1μm时,系统波像差均方根(RMS)值在97.7%的置信概率下小于1 nm。
曹振李艳秋孙圆圆
关键词:公差分析补偿器极紫外光刻
共1页<1>
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