吴亮亮
- 作品数:8 被引量:14H指数:3
- 供职机构:华北光电技术研究所更多>>
- 相关领域:电子电信金属学及工艺更多>>
- 低缺陷Si基碲镉汞分子束外延工艺研究被引量:7
- 2018年
- 随着焦平面探测器向超大面阵、小像元方向发展,对盲元率尤其连续盲元、均匀性等要求越来越高。材料表面缺陷已经成为抑制Si基碲镉汞分子束外延(Molecular Beam Epitaxial,MBE)技术在更广范围内应用的一个重要因素。通过解决MBE系统束流稳定性、束流测量的精确性和生长温度控制的稳定性共3个MBE生长碲镉汞材料精确控制的关键问题,以及通过正交试验优化生长参数,将Si基碲镉汞材料缺陷密度控制在500cm^(-2)以内,最优值达到57.83cm-2。
- 高达王经纬王丛吴亮亮刘铭
- 关键词:分子束外延
- CdZnTe(211)B衬底对MBE外延碲镉汞材料的影响分析被引量:3
- 2015年
- 碲锌镉CdZnTe(211)B衬底广泛应用于碲镉汞(HgCdTe)分子束外延生长,其性能参数在很大程度上决定了碲镉汞分子束外延材料的质量。主要讨论了CdZnTe(211)B衬底几个关键性能参数对碲镉汞外延材料的影响,包括Zn组分及均匀性、缺陷(位错、孪晶及晶界和碲沉淀)以及表面状态(粗糙度和化学组成),并且分析了对CdZnTe(211)B衬底进行筛分时各性能参数的评价方法和指标。
- 吴亮亮侯晓敏王丛王经纬刘铭周立庆
- 关键词:碲锌镉碲镉汞分子束外延
- 分子束外延硅基碲镉汞材料技术研究现状被引量:2
- 2019年
- 目前,高性能大面阵中波及短波红外探测器已经得到了越来越多的应用。材料参数控制精确、材料质量良好的碲镉汞材料是获得高质量碲镉汞探测器的先决条件。报道了华北光电技术研究所在分子束外延(Molecular Beam Epitaxy,MBE)生长硅基中波及短波碲镉汞材料方面的最新研究进展,并介绍了现阶段MBE生长碲镉汞材料的研究现状。
- 高达王经纬王丛李震吴亮亮刘铭
- 关键词:分子束外延材料性能
- 中长波双色碲镉汞红外探测器器件模拟与分析
- 2020年
- 利用Crosslight公司的APSYS软件模拟准平面结构中长波双色碲镉汞红外探测器的不同结构的光谱串音。研究表明中波层厚度增加将抑制中波对长波的光谱串音,同时将小幅增大长波对中波的光谱串音;阻挡层组分越大,阻挡层与中波层的导带带阶越大,光生载流子跃迁过带阶势垒的几率减少,使得光谱串音减小;阻挡层厚度越大量子隧穿效应减弱,导致光谱串音减小。通过优化器件结构可使中波对长波的光谱串音以及长波对中波的光谱串音都控制在2.5%以下。
- 吴亮亮高达刘铭王丛王经纬周立庆
- 关键词:碲镉汞
- 分子束外延用碲锌镉(211)B衬底湿化学预处理技术研究被引量:3
- 2019年
- 主要分析了不同溴甲醇溶液腐蚀方法对分子束外延用碲锌镉(211)B衬底表面粗糙度及反射式高能电子衍射(RHEED)图样的影响。实验发现化学抛光后未使用溴甲醇腐蚀的CZT(211)B衬底虽然表面粗糙度较小(小于1.0 nm),但表面RHEED衍射图样无任何衍射点或者条纹;采用0.05%溴体积比的溴甲醇溶液腐蚀CZT(211)B衬底时,即使腐蚀极短的时间,衬底表面粗糙度也达到2.0 nm以上,且表面存在高密度的柱状物,衬底表面RHEED图样呈圆点状或条纹较粗且存在亮点;采用0.01%溴体积比的溴甲醇溶液腐蚀CZT(211)B衬底,表面粗糙度可控制在1.0 nm左右,同时RHEED图样为特征的CZT(211)B晶面短条纹衍射图样,条纹清晰,同时多片衬底重复实验结果一致。同时在其上分子束外延的未优化的中波碲镉汞材料半峰宽为(49.1±5.9)arcsec,组分为0.3083±0.0003,厚度为6.54±0.019μm。
- 吴亮亮王丛高达王经纬刘铭周立庆
- 关键词:碲锌镉表面粗糙度碲镉汞
- 不同腐蚀时间对CZT(211)B衬底的影响
- 本文主要分析不同溴甲醇(溴体积比为0.05%)腐蚀时间对CZT(211)B 衬底表面粗糙度、总厚度偏差(TTV)、红外透过率、Zn 值以及X 射线衍射半峰宽(FWHM)的影响.研究发现即使使用溴体积比为0.05%的溴甲醇...
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- 分子束外延用碲锌镉(211)B衬底表面预处理技术被引量:1
- 2017年
- 本文主要分析了作为分子束外延碲镉汞的碲锌镉衬底的表面预处理工艺。湿化学处理工艺主要目的是去除衬底表面损伤层,0.5%溴甲醇溶液的腐蚀速率为7 nm/s,但腐蚀的同时会形成表面富Te层和氧化层,氧化层的厚度随溴甲醇的浓度增加而增加;高温热处理工艺主要是消除湿化学腐蚀形成的富Te层和氧化层,340℃的高温处理可去除表面氧化层;也可以直接通过回旋共振等离子体处理衬底表面,形成化学计量比正常的干净表面。
- 吴亮亮
- 关键词:碲锌镉
- 不同腐蚀时间对CZT(211)B衬底的影响分析被引量:3
- 2018年
- 主要分析了不同溴甲醇(溴体积比为0. 05%)腐蚀时间对CZT(211) B衬底表面粗糙度、总厚度偏差、红外透过率、Zn值以及X射线衍射半峰宽(FWHM)的影响。研究发现即使使用溴体积比0. 05%的溴甲醇溶液腐蚀5 s,衬底表面粗糙度都会由0. 5 nm增加至1. 5 nm以上。随着腐蚀时间的增加CZT(211) B衬底总厚度偏差逐渐增加。使用溴甲醇作为抛光液的两个样品的Zn值明显低于使用氨水作为抛光液的样品,同时该两样品的X射线衍射半峰宽和红外透过率随腐蚀时间的变化趋势一致,但不同于使用氨水作为抛光液的样品,说明不同的抛光液影响CZT(211) B衬底表面Zn值以及表面损伤层等表面状态。
- 吴亮亮王经纬高达王丛刘铭周立庆
- 关键词:碲锌镉表面粗糙度