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方照蕊

作品数：2 被引量：20H指数：2
供职机构：广东工业大学机电工程学院更多>>
发文基金：国家教育部博士点基金国家自然科学基金广东省自然科学基金更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇金属学及工艺

主题

  • 2篇抛光
  • 2篇化学机械抛光
  • 2篇机械抛光
  • 1篇抛光垫
  • 1篇抛光液
  • 1篇沟槽
  • 1篇CMP
  • 1篇材料去除率

机构

  • 2篇广东工业大学

作者

  • 2篇杨向东
  • 2篇魏昕
  • 2篇方照蕊
  • 2篇邹微波
  • 1篇谢小柱

传媒

  • 2篇金刚石与磨料...

年份

  • 2篇2012
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
化学机械抛光过程抛光液作用的研究进展被引量：14
2012年
化学机械抛光(CMP)已成为公认的纳米级全局平坦化精密超精密加工技术。抛光液在CMP过程中发挥着重要作用。介绍了CMP过程中抛光液的作用的研究进展,综合归纳了抛光液中各组分的作用,为抛光液的研制和优化原则的制定提供了参考依据。
邹微波魏昕杨向东谢小柱方照蕊
关键词：抛光液材料去除率
新型抛光垫沟槽及其在化学机械抛光中的作用研究进展被引量：7
2012年
化学机械抛光过程中,抛光垫性能是影响抛光质量和抛光效率的重要因素之一,而抛光垫的性能又受其表面沟槽结构形状的影响。在介绍几种常见抛光垫沟槽结构形状的特性及其作用研究的基础上,介绍了新型抛光垫沟槽的研究进展,总结了几种新型抛光垫沟槽对抛光效果的影响,为抛光垫沟槽特性的进一步研究提供参考。
方照蕊魏昕杨向东邹微波
关键词：化学机械抛光抛光垫
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