2024年11月8日
星期五
|
欢迎来到营口市图书馆•公共文化服务平台
登录
|
注册
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
黄建
作品数:
1
被引量:3
H指数:1
供职机构:
贵州师范学院物理与电子科学学院
更多>>
相关领域:
理学
更多>>
合作作者
邓伟
贵州师范学院物理与电子科学学院
王维
贵州师范学院物理与电子科学学院
周筑文
贵州师范学院物理与电子科学学院
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
1篇
中文期刊文章
领域
1篇
理学
主题
1篇
等离子体
1篇
笑气
1篇
化学沉积
1篇
PECVD
1篇
SIH
1篇
SIO2薄膜
机构
1篇
贵州师范学院
作者
1篇
周筑文
1篇
黄建
1篇
王维
1篇
邓伟
传媒
1篇
贵州师范学院...
年份
1篇
2014
共
1
条 记 录,以下是 1-1
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
模拟分析SiH_4和N_2O产生等离子体加强化学沉积制备SiO_2薄膜
被引量:3
2014年
通过等离子体粒子模拟实验(PIC),成功模拟了硅烷(SiH4)和笑气(N2O)的等离子体加强化学沉积(PECVD)制备SiO2薄膜的过程。模拟实验过程分析了电离后各种离子的动能、以及鞘层的空间和能量分布。分析这些物理参量,对比SiH4和N2O的等离子体加强化学沉积实验中的化学反应式,模拟实验结果从动能、能量空间分布的角度都能合理地解释等离子体加强化学沉积制备SiO2薄膜的实验过程,通过这些粒子模拟实验(PIC),从理论上合理地解释了使用SiH4和N2O形成SiO2薄膜的一些形成机制。
陈心园
黄建
邓伟
王维
周筑文
关键词:
笑气
SIO2薄膜
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张