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刘伟

作品数：1 被引量：2H指数：1
供职机构：吉林北方彩晶数码电子有限公司更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电化学腐蚀
  • 1篇氧化锡
  • 1篇化学腐蚀
  • 1篇返修
  • 1篇返修工艺
  • 1篇A-SI
  • 1篇ITO

机构

  • 1篇中国科学院长...
  • 1篇吉林北方彩晶...

作者

  • 1篇林鸿涛
  • 1篇刘伟

传媒

  • 1篇现代显示

年份

  • 1篇2006
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
a-Si TFT-LCD制造工艺中的ITO返修工艺研究被引量：2
2006年
列举了不同的a-SiTFT-LCD制造工艺中的ITO返修工艺,详细分析了在五次光刻工艺中的电化学腐蚀问题的反应机理,并对各种返修工艺的优点和缺点进行了简要地说明。
林鸿涛刘伟
关键词：A-SI电化学腐蚀返修工艺
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共1页<1>
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