贾涛
- 作品数：1 被引量：0H指数：0
- 供职机构：天津师范大学物理与电子信息学院更多>>
- 发文基金：天津市应用基础与前沿技术研究计划更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- 工作气压对溅射沉积铜铟镓硒薄膜形态和光学性能的影响
- 2013年
- 采用射频磁控溅射法,通过直接溅射铜铟镓硒四元合金靶在镀有Mo背电极的soda-lime玻璃衬底上获得铜铟镓硒(CIGS)薄膜.利用X线衍射(X-ray diffraction,XRD)、扫描电子显微镜(scanning electron microscope,SEM)和X线能量色散谱仪(energy dispersive X-ray spectroscopy,EDS)研究薄膜的结构、表面形貌和组织成分的变化,并通过紫外-可见分光光度计(ultraviolet and visible spectrophotometer,UV/VIS)获得薄膜的透过率光谱,研究不同工作气压对CIGS薄膜晶体结构、表面形貌和光学性能的影响.实验结果表明:在工作气压为0.8 Pa时制得的薄膜表面均匀致密,可见光范围内透光率接近于零,nCu/nIn+Ga=0.83,nGa/nIn+Ga=0.3,nSe/nCu+In+Ga=1,证明溅射所得CIGS吸收层薄膜的性能接近高效吸收层的要求.
- 贾涛董磊张志国李德军
- 关键词：射频磁控溅射薄膜形貌工作气压
