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葛雪莲

作品数：2 被引量：3H指数：1
供职机构：上海大学材料科学与工程学院更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇专利

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇等离子
  • 2篇等离子体喷涂
  • 2篇喷涂
  • 1篇等离子体
  • 1篇性能研究
  • 1篇喷涂工艺
  • 1篇粒径
  • 1篇硅化
  • 1篇ZR
  • 1篇钽
  • 1篇C-SI

机构

  • 2篇中国科学院
  • 1篇上海大学

作者

  • 2篇郑学斌
  • 2篇牛亚然
  • 2篇葛雪莲
  • 1篇李红
  • 1篇丁传贤
  • 1篇赵君
  • 1篇黄山松
  • 1篇王忠

传媒

  • 1篇热加工工艺

年份

  • 1篇2015
  • 1篇2014
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
一种制备二硅化钽涂层的方法
本发明涉及一种制备二硅化钽涂层的方法,所述方法包括：采用粒径范围为10～120微米，纯度大于95wt%的二硅化钽粉，运用真空等离子体喷涂工艺或低压等离子体喷涂工艺将二硅化钽粉喷涂于预处理的耐高温基体材料表面，即得二硅化钽...
牛亚然葛雪莲王忠赵君黄山松郑学斌丁传贤
文献传递
真空等离子体喷涂ZrC-SiC复合涂层及性能研究被引量：3
2015年
用真空等离子体喷涂法制备ZrC-SiC复合涂层,采用机械球磨法和烧结破碎法(机械球磨后在真空炉中热处理再破碎到合适粒径)对ZrC-SiC复合粉体进行喷涂前处理。利用X射线衍射仪、扫描电镜及X射线光电子能谱等分析手段,研究了涂层的形貌结构和基本性能。结果表明,真空等离子体喷涂是一种有效制备ZrC-SiC复合涂层的手段。喷涂前粉体经过烧结破碎法制备得到的涂层较机械球磨法更致密,涂层氧含量、气孔率、表面粗糙度低,同时结合强度、显微硬度较高。
葛雪莲牛亚然李红郑学斌
关键词：等离子体喷涂
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