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陈继超

作品数:4 被引量:7H指数:2
供职机构:中国科学院电子学研究所更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 3篇压力传感器
  • 3篇力传感器
  • 3篇键合
  • 3篇共晶
  • 3篇感器
  • 3篇传感
  • 3篇传感器
  • 2篇气密封装
  • 2篇共晶键合
  • 2篇封装
  • 2篇
  • 2篇MEMS压力...
  • 1篇压阻
  • 1篇压阻式
  • 1篇压阻式压力传...
  • 1篇应变式
  • 1篇气密性封装
  • 1篇锡合金
  • 1篇金属
  • 1篇键合技术

机构

  • 4篇中国科学院电...
  • 2篇中国科学院研...

作者

  • 4篇杜利东
  • 4篇赵湛
  • 4篇陈继超
  • 4篇肖丽
  • 2篇方震
  • 2篇刘启明
  • 2篇刘启民

传媒

  • 1篇仪表技术与传...
  • 1篇纳米技术与精...

年份

  • 3篇2013
  • 1篇2012
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
压阻式压力传感器及其制造方法
本发明公开了一种压阻式压力传感器及其制造方法。该压阻式压力传感器,由上而下包括:压力传感SOI硅片,其下表面包括第一键合种子金属层;真空键合封接片,其上表面包括第二键合种子金属层,该第二键合种子金属层与压力传感SOI硅片...
杜利东赵湛方震肖丽陈继超刘启明
文献传递
利用银锡共晶键合技术的MEMS压力传感器气密封装被引量:5
2013年
为了提高MEMS压力传感器的气密封装效果,利用银锡(Ag-Sn)焊片共晶键合的方法实现封装.首先介绍了工艺流程,然后利用X射线能谱(EDX)和剪切强度分析对共晶键合的温度和时间参数进行了优化,接着对9组静载荷下的剪切强度、Ag-Sn合金分布和键合层断面做了对比分析,最后做了X光检测、氦泄漏率对比测试及MEMS压力传感器实际效果测试.实验结果表明,在温度为230℃、加热时间为15 min、静载荷范围为0.003 9 MPa~0.007 8 MPa时,MEMS压电传感器的平均剪切强度达到14.22 MPa~18.28 MPa,X光检测无明显空洞,氦泄漏率不超过5×10-4Pa.cm3/s,测试曲线表明线性度较好.
陈继超赵湛杜利东刘启民肖丽
关键词:共晶键合气密封装
银锡共晶真空键合金属应变式MEMS压力传感器及其制造方法
本发明属于传感器技术领域,具体公开了一种银锡共晶真空键合金属应变式MEMS压力传感器及其制造方法,所述传感器包括压力检测片(1)、焊片(2)和封接片(3),所述压力检测片(1)、焊片(2)和封接片(3)由上至下依次叠置,...
杜利东赵湛方震肖丽陈继超刘启明
文献传递
基于Ag-Sn焊片共晶键合的MEMS气密性封装被引量:2
2012年
研究了在MEMS气密性封装中基于Ag-Sn焊片的共晶键合技术。设计了共晶键合多层材料的结构和密封环图形,在221℃实现了良好的键合效果,充N2保护的键合环境下,平均剪切强度达到9.4 MPa.三个月前后气密性对比实验表明氦泄漏不超过5×10-4Pa.cm3/s,满足GJB548B—2005标准规定,验证了Ag-Sn共晶键合技术在MEMS气密封装中应用的可行性。
陈继超赵湛刘启民肖丽杜利东
关键词:共晶键合气密封装
共1页<1>
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