您的位置: 专家智库 > >

鲁晓东

作品数:6 被引量:21H指数:3
供职机构:青岛大学物理科学学院更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 5篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 6篇晶体
  • 6篇KDP晶体
  • 4篇点状籽晶
  • 4篇籽晶
  • 3篇位错
  • 3篇PH值
  • 2篇位错分布
  • 1篇溶解度
  • 1篇散射
  • 1篇透过率
  • 1篇位错结构
  • 1篇化学腐蚀
  • 1篇光学
  • 1篇光学材料
  • 1篇KDP

机构

  • 6篇青岛大学
  • 2篇济南大学

作者

  • 6篇鲁晓东
  • 5篇钟德高
  • 5篇滕冰
  • 5篇李晓兵
  • 3篇王东娟
  • 3篇王庆国
  • 2篇张国辉
  • 1篇庄严

传媒

  • 4篇人工晶体学报
  • 1篇青岛大学学报...

年份

  • 4篇2007
  • 2篇2006
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
点状籽晶法生长KDP晶体中散射颗粒分布被引量:2
2007年
在不同的溶液pH值条件下进行了点状籽晶法慢速和快速生长KDP晶体实验,发展了观察晶体中散射颗粒分布的激光层析技术,通过图像处理得到了KDP晶体内部(100)面完整的散射颗粒分部图,对不同生长速度、不同pH值条件下点状籽晶法生长的KDP晶体的散射颗粒分部做了对比。利用表面光学投影技术观察了晶体表面宏观形貌,并由此分析了不同生长条件下生长机制对散射颗粒分布的影响。测定了散射颗粒密度不同部位的晶体透过率。
李晓兵滕冰钟德高鲁晓东王东娟王庆国
关键词:KDP晶体
点状籽晶法生长KDP晶体的位错研究
KDP(KH<,2>PO<,4>)晶体是20世纪30-40年代发展起来的优良的电光非线性光学材料广泛应用于激光变频、电光调制和光快速开关等领域。随着KDP晶体的应用,要求晶体有较大的尺寸,高的激光损伤阈值,低的光学吸收,...
鲁晓东
关键词:KDP晶体位错分布光学材料
文献传递
KDP晶体的点状籽晶法生长及其缺陷研究被引量:5
2006年
研究了溶液pH值对KDP晶体生长形态的影响,进行了晶体生长实验和参数对比。以提高溶液pH值为主要手段在低过饱和度下进行KDP晶体点状生长。对点状法生长的晶体进行了缺陷分析,测定了晶体不同区域的金属离子含量并进行了对比分析。实验表明溶液pH值对晶体各向的相对生长速度有显著的影响。在pH=5.0、低过饱和度(σ<0.02)条件下生长出50×50×50mm3的晶体。
李晓兵滕冰钟德高鲁晓东庄严
关键词:KDP晶体点状籽晶PH值
pH值对KDP晶体溶解度和溶液稳定性的影响被引量:10
2006年
测定了不同pH值(2.0—5.5)生长溶液中KDP晶体(KH2PO4)的溶解度曲线,实验结果表明:随着生长溶液pH值的改变,KDP溶解度明显增大。讨论了KDP晶体溶液pH值、溶液组成和溶液饱和点温度三者之间的关系。进行了高pH值(3.8-5.6)KDP生长溶液的稳定性实验,发现高pH值生长溶液中的临界成核半径rc增大,溶液的稳定性提高。在不同pH值溶液中进行了晶体生长实验,探讨了不同pH值生长溶液中配合物对KDP晶体生长习性的影响。
钟德高滕冰张国辉李晓兵鲁晓东
关键词:KDP晶体溶解度PH值
点状籽晶法生长KDP晶体的(100)面位错分布被引量:2
2007年
通过光学显微镜对点状籽晶法生长的KDP晶体(100)面位错蚀坑的观察和分析,发现柱区的位错线走向不同于片状籽晶法生长的晶体。晶体的位错主要来自籽晶的位错。通过籽晶成锥-微溶-生长的过程可以减少籽晶锥区位错向晶体中的延伸,在晶体内部,当两条夹角很小的位错线相交时会合并成一条位错线。
鲁晓东滕冰李晓兵钟德高王东娟王庆国
关键词:点状籽晶位错分布
pH值对KDP晶体位错结构的影响被引量:5
2007年
在一定的过饱和度下,分别用点状和片状籽晶在不同pH值溶液中生长出了KDP晶体。利用化学腐蚀法对KDP晶体的不同晶面进行了腐蚀,得到了清晰的位错蚀坑。应用光学显微镜对位错蚀坑的分布特点和密度做了观察分析,发现很多位错蚀坑成线状排布。pH值对KDP晶体位错密度有较大影响,低pH值条件下生长出的晶体位错密度较大。测试了KDP晶体样本的透过率,结果表明位错密度对KDP晶体的透过率没有明显的影响。
钟德高滕冰张国辉李晓兵鲁晓东王东娟王庆国
关键词:KDP晶体位错化学腐蚀透过率PH值
共1页<1>
聚类工具0