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胡大伟

作品数：3 被引量：13H指数：1
供职机构：北京理工大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家科技重大专项更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇投影光刻
  • 3篇投影光刻物镜
  • 3篇光刻
  • 3篇光刻物镜
  • 2篇实验型
  • 2篇相对孔径
  • 2篇光刻分辨率
  • 2篇光刻系统
  • 2篇场曲
  • 1篇深紫外
  • 1篇数值孔径
  • 1篇光学
  • 1篇光学设计
  • 1篇SCHWAR...

机构

  • 3篇北京理工大学

作者

  • 3篇刘晓林
  • 3篇李艳秋
  • 3篇胡大伟

传媒

  • 1篇光学学报

年份

  • 2篇2013
  • 1篇2012
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
一种实验型浸没式投影光刻物镜
本发明公开了一种实验型浸没式投影光刻物镜，通过采用较大的相对孔径的Schwarzschild折反结构和3片弯月透镜组成的折射透镜组，提高系统的数值孔径，并且可使数值孔径达到1.20，提高了光刻分辨率；通过采用弯月透镜来平...
李艳秋胡大伟刘晓林
文献传递
一种实验型浸没式投影光刻物镜
本发明公开了一种实验型浸没式投影光刻物镜，通过采用较大的相对孔径的Schwarzschild折反结构和3片弯月透镜组成的折射透镜组，提高系统的数值孔径，并且可使数值孔径达到1.20，提高了光刻分辨率；通过采用弯月透镜来平...
李艳秋胡大伟刘晓林
文献传递
超高数值孔径Schwarzschild投影光刻物镜的光学设计被引量：13
2013年
针对45nm及以下节点光刻相关技术的研究需求,确定了实验型投影光刻物镜的结构型式及设计指标。依据像差理论在非同心小遮拦的Schwarzschild反射系统中添加折射补偿镜组来进一步减小系统的中心遮拦,扩大像方数值孔径。设计了一套小中心遮拦,数值孔径为1.20的Schwarzschild折反式投影光刻物镜。设计结果表明,该投影光刻物镜工作带宽为100pm,像方视场为50μm,线中心遮拦比为13%,光学分辨力为80nm时(6240lp/mm)的系统调制传递函数大于0.45,全视场最大畸变为6.5nm,满足了45nm深紫外(DUV)浸没光刻实验平台对投影光刻物镜的需求。
胡大伟李艳秋刘晓林
关键词：光学设计投影光刻物镜SCHWARZSCHILD深紫外
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