贺琦
- 作品数：27 被引量：86H指数：5
- 供职机构：北京科技大学更多>>
- 发文基金：国家教育部博士点基金国家自然科学基金山西省青年科技研究基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺理学化学工程更多>>
- 静电辅助气溶胶化学气相沉积法制备Al_2O_3薄膜
- 2009年
- 以乙酰丙酮铝为前驱体,N,N-二甲基甲酰胺为溶剂,采用静电辅助的气溶胶化学气相沉积(ESAVD)方法,在Si(100)衬底上制备了Al2O3薄膜,并采用场发射扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪和自动划痕仪等设备对制备的薄膜进行了表征。结果表明:采用ESAVD法制备的Al2O3薄膜平整致密而且晶粒细小,薄膜与基体之间及薄膜内部都未出现开裂现象;薄膜与基体的结合力约为5.56 N;沉积得到的薄膜为化学计量比为2∶3的氧化物薄膜;退火前的薄膜为非晶态,在1 200℃退火保温2 h后薄膜转变为-αAl2O3。
- 王耀华贺琦李成明吕反修
- 关键词：氧化铝
- 工艺参数对加弧辉光离子Ni-Cr共渗层的影响被引量：2
- 2002年
- 采用加弧辉光离子渗金属技术,对碳钢进行Ni-Cr共渗,用光学显微镜及扫描电镜对共渗层的组织形貌进行观察,并用能谱仪对共渗层厚度及合金元素(Ni、Cr)分布进行了测定,着重研究了共渗过程中各工艺参数对Ni-Cr共渗层的影响。
- 边洁范本惠潘俊德贺琦郑维能
- 关键词：工艺参数
- 双阴极辉光放电合成金刚石薄膜的研究
- 了一种合成金刚石薄膜的新方法即双阴极辉光放电合成金刚石薄膜法及其基本原理。采用该法在Si、Mo等基片上合成了金刚石薄膜，从其X-射线衍射分析及形貌显示薄膜的品质较为理想。
- 田林海贺琦潘俊德刘俊亮徐重
- 关键词：金刚石薄膜
- HfO2薄膜反应磁控溅射沉积工艺的研究被引量：3
- 2008年
- 采用纯铪(Hf)金属靶,在氧和氩反应气氛中进行了HfO2薄膜反应磁控溅射沉积,研究了电源功率、O2/Ar比例和工作气压对薄膜组成及薄膜沉积过程的影响。对制备的HfO2薄膜进行了退火处理,利用X射线衍射仪(GIXRD)、红外波谱仪(FT-IR)和场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)表征了退火前后HfO2薄膜的显微结构、组织组成及红外透过性能。采用胶带测试测定了HfO2薄膜的附着性能。本研究得到了优化的沉积工艺参数。
- 贺琦王宏斌张树玉吕反修杨海苏小平
- 关键词：HFO2薄膜红外透过率
- 新型双层辉光等离子表面冶金高速钢及其锯切工具被引量：1
- 2011年
- 主要介绍了双层辉光等离子表面冶金技术在普通低碳钢或低合金钢表面形成的等离子表面冶金高速钢及其在手用锯条方面的应用和产业化。以技术、工艺、设备为主线,全面总结和阐述了等离子表面冶金高速钢锯条产业化的过程及艰难历程,对我国发展原创性技术及其产业化也提出了一些意见和建议。
- 徐重王从曾唐宾高原贺志勇刘小萍徐在峰王建明贺琦李成明李忠厚苏永安潘俊德
- 工艺参数对电子浴辅助阴极电弧源法合成AlN薄膜的影响被引量：2
- 2001年
- 介绍了一种应用电子浴辅助阴极电弧源法合成AlN薄膜的新方法 ,研究了N2 流量、阴极偏压、工作气压等工艺参数对合成AlN薄膜质量的影响规律。结果表明 ,随N2 流量的增加 ,AlN薄膜的质量得以提高 ,当N2 流量达到 30mL·min-1时 ,可合成较纯净的AlN薄膜 ;阴极偏压主要影响合成薄膜的结晶状况 ;此外 。
- 潘俊德田林海莘海维贺琦
- 关键词：工艺参数氮化铝
- 加弧辉光离子Ni-Cr共渗层相结构的研究被引量：5
- 2002年
- 采用加弧辉光离子渗金属技术 ,实现了在不同含碳量的普通碳钢表面的Ni Cr共渗 ,对共渗的合金元素 (Ni、Cr、C)分布进行了测定 ,并通过X射线衍射分析及透射电镜分析 ,研究了Ni Cr共渗层的相组成。结果表明 ,普通碳钢表面的Ni Cr共渗层均以γ (Fe,Ni)相为主 (固溶有Cr) ;45和T8钢共渗层在γ相基体上分布着碳化物 (Cr2 3 C6和Cr7C3 ) 3种碳钢在共渗层与基体过渡区均为合金珠光体 (α相和 (Fe,Cr) 3 C)
- 边洁范本惠潘俊德贺琦郑维能
- 关键词：相结构
- 静电辅助的气溶胶化学气相沉积法制备Y_2O_3薄膜被引量：2
- 2009年
- 采用静电辅助的气溶胶化学气相沉积的方法成功地在Si(100)衬底上制备了Y2O3薄膜,利用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、原子力显微镜(AFM)和X射线光电子能谱(XRP)对薄膜进行了表征.SEM分析结果显示,薄膜的颗粒为纳米级的,并且薄膜致密、平整.AFM分析结果表明,薄膜的粗糙度为11nm.由XPS分析可知,薄膜为基本上符合化学计量比的氧化物.附着力测试表明,Y2O3薄膜与Si衬底的附着力为4.2N.X射线衍射分析结果表明,沉积得到的Y2O3薄膜在热处理前为非晶结构,热处理之后薄膜具有立方晶体结构,并且沿(111)面择优生长.
- 王耀华吕反修贺琦李成明唐伟忠
- 关键词：氧化钇粗糙度
- 反应磁控溅射法制备HfO_2金刚石红外增透膜被引量：4
- 2008年
- 采用纯铪(Hf)金属靶,在氧+氩反应气氛中进行了HfO2薄膜直流反应磁控溅射沉积。首先在单晶硅片上沉积薄膜,研究工艺参数改变对薄膜的影响,然后选择较优的工艺在金刚石表面沉积符合光学厚度的薄膜,达到增透减反射效果。利用X射线光电子能谱(XPS)研究了O2/Ar比例对薄膜组成的影响。利用X射线衍射仪(GIXRD)和椭偏仪(Ellipsometer)研究了不同衬底温度对氧化铪薄膜组织结构和光学性能的影响。采用傅立叶红外光谱仪(FTIR)检测了镀膜前后金刚石红外透过性能,发现双面镀制HfO2薄膜能够有效提高金刚石在8～12μm的红外透过性能,在8μm处最大增透可达21.6%,使金刚石红外透过率达到88%;在3～5μm范围,双面镀制了HfO2薄膜的金刚石平均透过率达66.8%,比没有镀膜的金刚石在该处的平均透过率54%高出12.8%。
- 郭会斌王凤英贺琦魏俊俊王耀华吕反修
- 关键词：HFO2薄膜红外透过率增透
- 静电辅助的气溶胶化学气相沉积法制备Y2O3薄膜的研究
- 用静电辅助的气溶胶化学气相沉积的方法成功的在Si(100)衬底上制备了Y2O3薄膜。0.01M乙酰丙酮钇的溶液在高压电场中被雾化为带电小颗粒,在Si(100)衬底上发生一系列的物理化学反应沉积薄膜。X射线衍射结果表明Y2...
- 王耀华吕反修贺琦李成明
- 关键词：气溶胶化学气相沉积
- 文献传递
