王新星
- 作品数：6 被引量：1H指数：1
- 供职机构：广东工业大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>
- 一种大面积TFT光刻装置
- 本实用新型属于激光微加工应用的光刻技术领域，涉及一种大面积TFT光刻装置，本实用新型大面积TFT光刻装置包括准分子激光光源，照明光学系统，投影光学系统、光刻对位系统和扫描工作台。准分子激光光源能应用于市场上主流的光刻胶的...
- 周金运王新星雷亮林清华裴文彦
- 文献传递
- 一种大面积TFT光刻装置及其光刻方法
- 本发明属于激光微加工应用的光刻技术领域，涉及一种大面积TFT光刻装置及其光刻方法，本发明大面积TFT光刻装置包括准分子激光光源，照明光学系统，投影光学系统、光刻对位系统和扫描工作台。准分子激光光源能应用于市场上主流的光刻...
- 周金运王新星雷亮林清华裴文彦
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- 一种大面积投影光刻系统及其对准方法
- 本发明是一种大面积投影光刻系统及其对准方法。本发明大面积投影光刻系统，包括准分子激光器、照明系统、平移台、掩模板、投影系统、硅片基板，其中掩模板及硅片基板分别装设在平移台的两端，准分子激光器通过照明系统进行光路调制与光束...
- 雷亮周金运林清华陈丽施颖王新星
- 文献传递
- 基于准分子激光投影扫描系统的大面积ITO及TFT光刻的研究
- 光刻工艺为平板显示制造业中的核心工艺。平板显示发展的趋势是大面积和高分辨率。本文针对平板显示制造业,基于激光投影扫描系统的优势,对大面积ITO和TFT的光刻进行研究。主要研究内容如下： 在不影响生产效率的前提下,对现有的...
- 王新星
- 关键词：投影物镜
- 文献传递
- 激光光刻大面积扫描投影成像光学系统测试及评价被引量：1
- 2012年
- 基于351nm XeF激光大面积投影成像光刻系统,通过对其光学系统包括光学照明系统和折叠投影系统进行光学性能测试。由激光经过柱面透镜、微透镜阵列均束器以及投影折叠物镜之后产生的能量及光束质量变化,将准分子激光光束均匀性评价指标部分运用到光学系统的评价之中,得到光学系统在不同关键位置的能量分布曲线以及平顶因子关系图,表明微透镜阵列均束器虽保证了整个光学系统各处光斑的均匀性,但衍射却造成了能量利用率的降低。同时,通过对印制电路板(PCB)和玻璃(ITO)进行曝光和显影实验,表明该双远心共焦投影光学系统,只要控制使均匀输出的能量符合曝光剂量,就能够满足分辨率的要求。
- 梅龙华周金运雷亮林清华王新星施颖
- 关键词：成像系统准分子激光光刻光束均匀性
- 一种大面积投影光刻系统及其对准方法
- 本发明是一种大面积投影光刻系统及其对准方法。本发明大面积投影光刻系统，包括准分子激光器、照明系统、平移台、掩模板、投影系统、硅片基板，其中掩模板及硅片基板分别装设在平移台的两端，准分子激光器通过照明系统进行光路调制与光束...
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