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李玉伟

作品数：1 被引量：3H指数：1
供职机构：杭州电子科技大学理学院材料物理研究所更多>>
发文基金：浙江省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇氮化
  • 1篇氮化硼
  • 1篇前驱物
  • 1篇温度
  • 1篇六方氮化硼

机构

  • 1篇杭州电子科技...

作者

  • 1篇吕燕飞
  • 1篇赵士超
  • 1篇张琪
  • 1篇李玉伟

传媒

  • 1篇杭州电子科技...

年份

  • 1篇2015
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
六方氮化硼原子层薄膜的制备研究被引量：3
2015年
化学气相沉积法制备六方氮化硼原子层薄膜一直是研究的热点和难点,薄膜结晶质量会直接影响到石墨烯晶体管中石墨烯电子迁移率的高低。为提高六方氮化硼原子层薄膜的结晶质量,采用低压化学气相沉积法,以硼烷氨作为前驱物,铜箔作为基底,研究了氢气流量和前驱物温度对六方氮化硼原子层薄膜生长的影响。研究结果发现,较低的氢气流量有助于薄膜的连续生长,而前驱物温度对薄膜生长影响较小。
李玉伟赵士超吕燕飞张琪
关键词：六方氮化硼
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