范欢欢
- 作品数：7 被引量：14H指数：3
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- 利用原子层沉积制备高精度光学宽带抗反射多层膜的方法
- 本发明公开了一种利用原子层沉积制备高精度光学宽带抗反射多层膜的方法，包括：1）利用原子层沉积技术，在基材上沉积第一折射率层，测得不同循环次数下的第一折射率层的厚度，并计算相应的生长速率，绘制成速率曲线；2）通过速率曲线确...
- 沈伟东李旸晖章岳光刘旭郝翔范欢欢
- 文献传递
- 基于白光干涉测量色散补偿薄膜的群延迟色散被引量：5
- 2012年
- 为精确测量超快激光色散补偿薄膜的群延迟色散,提出了一种基于窗口傅里叶变换和样条插值去噪算法的新型白光干涉测量方案。计算机模拟表明此方法测试精度可达0.58fs2。分析了高斯噪声和光强平均效应对测试精度的影响,并使用此方法对实验制备的Gires-Tournois干涉反射镜和啁啾镜进行了测试,在宽光谱范围内测试误差小于10fs2。该方法相比其他算法可以更快速、更精确地实现薄膜相位信息的提取,具有更高的测试精度和实用性。
- 李承帅沈伟东章岳光范欢欢刘旭
- 关键词：白光干涉
- 一种利用原子层沉积技术制备褶皱负滤光片的方法
- 本发明公开了一种利用原子层沉积技术制备褶皱负滤光片的方法，包括：设计一种褶皱负滤光片，得到折射率随着厚度的分布曲线，将设计的褶皱负滤光片划分成若干个折射率层；采用对称膜系等效层的方法，将每个折射率层的折射率等效为一个恒值...
- 沈伟东李旸晖章岳光刘旭郝翔范欢欢
- 文献传递
- 原子层沉积制备Ta_2O_5薄膜的光学特性研究被引量：6
- 2011年
- 以乙醇钽[Ta(OC2H5)5]和水蒸气为前驱体,采用原子层沉积(ALD)方法分别在基板温度为250℃和300℃的K9和石英衬底上制备了Ta2O5光学薄膜。采用分光光度计、X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)等手段对薄膜的光学特性、微结构和表面形貌进行了研究。结果表明,用ALD方法制备的Ta2O5薄膜在刚沉积和350℃退火后均为无定形结构,而250℃温度下沉积的薄膜其表面粗糙度低,聚集密度很高,光学均匀性优,在中紫外到近红外均表现出很好的光学特性,可以作为高折射率材料很好地应用于光学薄膜中。
- 范欢欢章岳光沈伟东李旸晖李承帅何俊鹏刘春亮刘旭
- 关键词：原子层沉积光学特性
- 原子层沉积制备氧化物光学薄膜的特性研究
- 原子层沉积(ALD)技术以其出色的工艺稳定性，制备薄膜复形性优越等特点，已经在微电子领域得到了广泛的研究和应用。但是目前对其在光学薄膜应用方面的研究还十分有限。与传统光学薄膜制备技术相比，原子层沉积制备的薄膜纯度高、复形...
- 范欢欢
- 关键词：原子层沉积光学特性微结构表面形貌
- 文献传递
- 一种利用原子层沉积技术制备褶皱负滤光片的方法
- 本发明公开了一种利用原子层沉积技术制备褶皱负滤光片的方法，包括：设计一种褶皱负滤光片，得到折射率随着厚度的分布曲线，将设计的褶皱负滤光片划分成若干个折射率层；采用对称膜系等效层的方法，将每个折射率层的折射率等效为一个恒值...
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- 文献传递
- 利用原子层沉积制备高精度光学宽带抗反射多层膜的方法
- 本发明公开了一种利用原子层沉积制备高精度光学宽带抗反射多层膜的方法，包括：1）利用原子层沉积技术，在基材上沉积第一折射率层，测得不同循环次数下的第一折射率层的厚度，并计算相应的生长速率，绘制成速率曲线；2）通过速率曲线确...
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