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钟志亲

作品数:49 被引量:34H指数:4
供职机构:电子科技大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金电子薄膜与集成器件国家重点实验室基础研究开放创新基金更多>>
相关领域:电子电信理学机械工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 25篇专利
  • 22篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 12篇电子电信
  • 8篇理学
  • 7篇机械工程
  • 3篇自动化与计算...
  • 2篇电气工程
  • 2篇文化科学
  • 1篇化学工程

主题

  • 8篇电极
  • 8篇退火
  • 7篇金属
  • 7篇刻蚀
  • 6篇硅薄膜
  • 5篇氮化硅
  • 5篇氮化硅薄膜
  • 5篇离子刻蚀
  • 5篇反应离子
  • 5篇反应离子刻蚀
  • 4篇电路
  • 4篇双极型
  • 4篇半导体
  • 4篇6H-SIC
  • 3篇等离子体
  • 3篇底电极
  • 3篇有限元
  • 3篇势垒
  • 3篇碳化硅
  • 3篇欧姆接触

机构

  • 42篇电子科技大学
  • 7篇四川大学
  • 1篇香港大学

作者

  • 49篇钟志亲
  • 27篇王姝娅
  • 25篇张国俊
  • 17篇戴丽萍
  • 11篇戴丽萍
  • 6篇龚敏
  • 4篇王志明
  • 4篇王文昊
  • 4篇袁菁
  • 4篇余鹏
  • 4篇宋文平
  • 4篇夏万顺
  • 4篇吴鹏飞
  • 3篇王刚
  • 3篇杨治美
  • 3篇束平
  • 2篇林海
  • 2篇余洲
  • 2篇黄俊杰
  • 2篇葛微微

传媒

  • 4篇光散射学报
  • 3篇电子产品世界
  • 3篇压电与声光
  • 2篇半导体光电
  • 1篇电子科技
  • 1篇科学通报
  • 1篇Journa...
  • 1篇电子科技大学...
  • 1篇微电子学
  • 1篇电子元件与材...
  • 1篇科学技术与工...
  • 1篇微纳电子技术
  • 1篇黑龙江教育(...
  • 1篇教育教学论坛

年份

  • 2篇2024
  • 9篇2023
  • 1篇2022
  • 3篇2021
  • 8篇2020
  • 3篇2019
  • 1篇2018
  • 2篇2017
  • 2篇2016
  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 4篇2012
  • 4篇2011
  • 1篇2010
  • 1篇2007
  • 3篇2006
  • 1篇2005
  • 2篇2004
49 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
漂移区覆盖高k薄膜的高压LDMOS器件优化设计被引量:1
2012年
为了获得高耐压、低导通电阻的横向双扩散MOSFET(LDMOS)器件,综合利用高介电常数(高k)薄膜技术和场板技术,设计出一种漂移区表面采用"高k薄膜+氧化层+场板"结构的功率器件,有效降低了PN结弯角高电场和场板边缘峰值电场。使用器件仿真工具MEDICI进行验证,并分析高k薄膜厚度、氧化层厚度、高k薄膜相对介电常数以及栅场板长度对器件性能的影响,最终实现了耐压达到820V、比导通电阻降至13.24Ω.mm2且性能稳定的LDMOS器件。
王伟宾赵远远钟志亲王姝娅戴丽萍张国俊
关键词:LDMOS器件场板击穿电压导通电阻
一种平行双触点接触式开关的制造方法
本发明公开了一种平行双触点接触式开关的制造方法,属于微机械体硅加工技术领域。本发明在沉积极板绝缘层后先刻蚀锚点,其余位置绝缘层保留下来,利用绝缘层将信号电极和驱动电极覆盖起来从而保护信号电极和驱动电极,去除种子层后再进行...
张国俊欧书俊王姝娅戴丽萍钟志亲
文献传递
一种基于反应离子刻蚀的钽酸锂微图形化方法
本发明公开了一种基于反应离子刻蚀的钽酸锂微图形化方法,属于半导体技术领域,具体涉及钽酸锂晶体微图形化,以解决各层材料间应力较大使图案易被破坏的问题,包括:在光刻胶表面依次镀Ti金属掩膜和Cr金属掩膜;用剥离法在钽酸锂基底...
曹明才钟志亲罗文博李茂荣戴丽萍王姝娅
文献传递
CHF_3/Ar等离子体刻蚀BST薄膜的机理研究被引量:1
2011年
采用XPS方法,通过对刻蚀前后BST(钛酸锶钡)薄膜表面成分、元素化合态以及原子相对百分含量分析,探讨了CHF3/Ar等离子刻蚀BST薄膜的RIE(反应离子刻蚀)机理.研究结果表明,在刻蚀过程中,金属Ba,Sr,Ti和F等离子体发生化学反应并生成相应的氟化物且部分残余在薄膜表面,因为TiF4具有高挥发特性,残余物几乎没有钛氟化物.然而,XPS表明Ti-F仍然少量存在,认为是存在于Metal-O-F这种结构中,而O1s进一步证实了Metal-O-F的存在.基于原子的相对百分含量,我们发现刻蚀后薄膜表面富集氟,源于高沸点的氟化物BaF2和SrF2沉积,导致刻蚀速度仅达12.86nm/min.同时并没有发现C-F多聚物的形成,因此去除残余物BaF2和SrF2有利于进一步刻蚀.针对这种分析结果,本文提出对BST薄膜每4min刻蚀后进行1minAr等离子体物理轰击方案,发现残余物得以去除.
戴丽萍王姝娅束平钟志亲王刚张国俊
关键词:钛酸锶钡反应离子刻蚀光电子能谱
覆有BST膜的半导体功率器件结终端研究被引量:4
2012年
通过一系列的工艺步骤,在半导体功率器件含有场限环(FLR)的结终端上覆盖了一层300 nm厚、介电常数高的钛酸锶钡(BST)膜。对该新型结终端和无BST膜的传统FLR结终端的结构与性能进行了研究比较。结果表明,在覆盖BST膜后,FRL结终端的结构击穿电压提高了50%。这证明BST膜能够提高器件的击穿电压。
葛微微张国俊钟志亲王姝娅戴丽萍
关键词:半导体功率器件结终端场限环
一种平行双触点接触式开关的制造方法
本发明公开了一种平行双触点接触式开关的制造方法,属于微机械体硅加工技术领域。本发明在沉积极板绝缘层后先刻蚀锚点,其余位置绝缘层保留下来,利用绝缘层将信号电极和驱动电极覆盖起来从而保护信号电极和驱动电极,去除种子层后再进行...
张国俊欧书俊王姝娅戴丽萍钟志亲
文献传递
一种硅基双区雪崩光电二极管
本发明涉及一种硅基双区雪崩光电二极管,包括:P型衬底、深N阱层、P阱层、N阱区、第一N+区、第二N+区、第三N+区、第一P+区、第二P+区、第三P+区、第四P+区、浅槽隔离区、第一阳极、第二阳极、阴极、衬底电极。其中P型...
钟志亲陈志刚罗翔
一种基于ZnMgO的阻变存储器及其制备方法
本发明公开了一种基于ZnMgO的阻变存储器及其制备方法,解决了现有技术中公开的掺杂的ZnO材料应用到阻变存储器中依然存在工作电压相对较高、开关比和抗疲劳特性不足的问题。本发明中的一种基于ZnMgO的阻变存储器,包括从下到...
戴丽萍申野张国俊王姝娅钟志亲
文献传递
立德树人视角下课程思政建设的实践研究及成效——以“半导体物理”课程为例被引量:2
2022年
为充分发挥课堂教学主渠道育人作用,电子科技大学示范性微电子学院专业核心课“半导体物理”结合课程内容,在专业知识点授课过程中融入思政元素。通过对业界老一辈科学家的介绍、专业知识点的隐喻作用分析等方式,寻找课程思政与专业知识的“撞击点”,引导学生树立正确的“三观”。
钟志亲黄海猛李小红
关键词:半导体物理立德树人爱国主义教育
一种P型碳化硅欧姆接触的制作方法
本发明涉及微电子技术领域,一种P型碳化硅欧姆接触的制作方法,包括以下步骤:(1)使用标准RCA清洗碳化硅片,并用氮气吹干;(2)采用干法刻蚀在碳化硅外延层表面进行刻蚀;(3)在刻蚀后的碳化硅片上依次淀积金属Ti、Ge、A...
许龙来钟志亲余鹏王文昊张国俊戴丽萍王姝娅王志明宋文平夏万顺
共5页<12345>
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