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黄建国

作品数:13 被引量:36H指数:4
供职机构:浙江工业大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金浙江省自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术化学工程建筑科学更多>>

文献类型

  • 10篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 6篇理学
  • 3篇一般工业技术
  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇建筑科学

主题

  • 8篇碳化钨
  • 6篇纳米
  • 6篇纳米晶
  • 5篇电催化
  • 5篇催化
  • 4篇纳米晶薄膜
  • 4篇溅射
  • 4篇磁控
  • 4篇磁控溅射
  • 3篇化学气相
  • 3篇化学气相沉积
  • 2篇等离子增强化...
  • 2篇电催化性能
  • 2篇电极
  • 2篇镀膜
  • 2篇永磁
  • 2篇永磁体
  • 2篇退火
  • 2篇退火处理
  • 2篇氩气

机构

  • 13篇浙江工业大学

作者

  • 13篇黄建国
  • 12篇郑华均
  • 9篇马淳安
  • 3篇赵峰鸣
  • 3篇王伟
  • 2篇朱英红
  • 1篇郑国渠
  • 1篇陈益进
  • 1篇顾正海
  • 1篇张荣强

传媒

  • 1篇高等学校化学...
  • 1篇化工学报
  • 1篇金属热处理
  • 1篇材料保护
  • 1篇无机材料学报
  • 1篇功能材料
  • 1篇浙江工业大学...
  • 1篇材料开发与应...
  • 1篇高校化学工程...
  • 1篇浙江化工

年份

  • 2篇2008
  • 4篇2006
  • 4篇2005
  • 1篇2004
  • 2篇2003
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
化学气相沉积制备纳米结构碳化钨薄膜(英文)被引量:4
2005年
采用氟化钨(WF6)和甲烷(CH4)为前驱体,采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法制备具有纳米结构的碳化钨薄膜。采用SEM、XRD、EDS等方法表征了碳化钨薄膜的形貌、晶体结构和化学组成。通过表征,表明在前驱体混合气体中的甲烷与氟化钨气体的流量比(碳钨比)为20、基底温度为800℃的条件下得到的碳化钨薄膜是由直径为20~35nm的圆球状纳米晶构成。通过分析影响薄膜的晶体结构、化学组成的因素后,认为要得到具有纳米晶结构的碳化钨薄膜,主要应控制前驱体气体中的碳钨比以及基底温度。
郑华均黄建国马淳安赵峰鸣朱英红
关键词:碳化钨等离子增强化学气相沉积
电沉积Fe-Co-Ni三元合金的工艺研究被引量:4
2004年
Fe -Co -Ni合金镀层的硬度、耐蚀性和表面光亮度接近硬铬镀层 ,一定程度上可代替铬镀层以减少环境污染。用恒电位法电沉积Fe -Co -Ni三元合金 ,并运用X射线衍射能谱、扫描电镜等方法观察镀层的形貌 ,同时对镀层的失重率、显微硬度也进行了测定 ,分析了有机添加剂、温度、pH值和阴极控制电位等工艺因素对电沉积的影响。结果表明 :在一定量的有机添加剂下 ,若镀液温度为 5 0~ 6 0℃ ,pH值为 3.0~ 4 .5 ,阴极电位控制在 - 1.2V(vsSCE)时 ,即能得到光亮、耐腐蚀性好、显微硬度高的Fe -Co -Ni三元合金镀层 ,其综合性能接近硬铬镀层。
郑华均马淳安黄建国张荣强陈益进
关键词:电沉积
纳米晶碳化钨薄膜的析氢催化性能被引量:1
2006年
采用等离子体增强化学气相沉积法制备了具有纳米结构的碳化钨薄膜,采用XRD、 EDS、SEM方法表征了薄膜的表面形貌、化学组成和物相结构.这种碳化钨纳米晶薄膜具有巨大的电化学比表面积、很好的电催化活性和电化学稳定性.通过测试和计算表明,几何面积为1cm2碳化钨薄膜/泡沫镍电极、碳化钨薄膜/镍电极的电化学比表面积分别为83.21和 64.13cm2;该薄膜电极材料的a值为0.422-0.452V,接近低超电势材料;析氢交换电流密度为 4.02-4.22×10-4A/cm2;当超电势为263mV时,其析氢反应的活化能为45.62-45.77kJ/mol.
郑华均王伟黄建国马淳安
关键词:等离子体增强化学气相沉积电催化
一种碳化钨催化电极
一种碳化钨催化电极,由磁控溅射镀膜系统通过磁控溅射镀膜法制得,具体方法为:基体经清洗净化处理后置于磁控溅射镀膜系统的真空反应室中,以碳化钨为靶材,以氩气作为保护气氛,各操作参数设置如下:基础真空:4.8×10<Sup>-...
郑华均黄建国
文献传递
碳化钨纳米晶薄膜电极的制备及其对甲醇电氧化性能被引量:11
2005年
Nano-crystalline tungsten carbide thin films were fabricated on graphite substrates by plasma enhanced chemical vapour deposition in H2 and Ar atmosphere, using WF 6 and CH4 as precursors.The crystal phase, structure and chemical components of the films were characterized with X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM) and energy-dispersive spectrometer (EDS),respectively.The results showed that the film prepared at CH4/WF6 concentration ratio of 20,working pressure of 100Pa and temperature of 800℃ were composed of sphere particles with a diameter of 20—35 nm Electrochemical investigations show that the electrochemical surface area of electrode of the film was large.The electrode of the film exhibited higher electro-catalytic activity in the reaction of methanol oxidation,and its catalytic properties were similar to those of Pt or Pt group catalysts.The constant current of the film catalyst was 123.6 mA·cm -2 in the mixture solution of H2SO4 and CH3OH at the concentration of 0.5 mol·L -1 and 2.0 mol·L -1 respectively at 70 ℃, and its constant potential was only 0.306 V( vs .SCE).
郑华均马淳安黄建国
关键词:纳米晶薄膜电催化甲醇电氧化
退火处理对烧结Nd-Fe-B永磁体磁性能的影响
2003年
本文研究了Nd Fe B材料的低温退火处理,普通商品化生产的N35磁体在3Pa真空度、492℃条件下对普通钕铁硼退火处理1h,其矫顽力Hc和最大磁能积(BH)max值均有较大幅度的提高。
郑华均黄建国马淳安
关键词:永磁体钕铁硼退火处理
退火处理对烧结钕铁硼永磁体磁性能的影响被引量:2
2003年
研究了退火处理对烧结钕铁硼磁合金性能的影响 ,发现适当的热处理能提高钕铁硼的综合磁性能 ,在3Pa真空度 4 92℃条件下对普通钕铁硼退火处理 1h ,其矫顽力Hc 由 11 5kOe提高到 14 6 3kOe ,最大磁能积(BH) max值由 35MGOe提高到了 4 3 9MGOe。
郑华均黄建国马淳安郑国渠
关键词:永磁体钕铁硼退火处理
一种碳化钨催化电极
一种碳化钨催化电极,由磁控溅射镀膜系统通过磁控溅射镀膜法制得,具体方法为:基体经清洗净化处理后置于磁控溅射镀膜系统的真空反应室中,以碳化钨为靶材,以氩气作为保护气氛,各操作参数设置如下:基础真空:4.8×10<Sup>-...
郑华均黄建国
文献传递
碳化钨纳米晶薄膜电极在对硝基苯酚电化学还原中的催化性能被引量:4
2006年
采用磁控溅射物理气相沉积和等离子体增强化学气相沉积技术,在金属镍基体上制备具有纳米晶结构的碳化钨薄膜;采用循环伏安、准稳态极化和恒电位阶跃等电化学方法研究了对硝基苯酚(PNP)在碳化钨纳米晶薄膜电极上电化学还原的特性和机理。研究表明,采用磁控溅射物理气相沉积技术制备得到的薄膜是由直径为20nm的WC1-X构成,在这种薄膜电极上,PNP电化学还原在电位为-0.95V(Vs.SCE)时,出现一个电流密度为6.0mA·cm-2还原峰,还原反应的表观活化能为12.0kJ·mol-1;而采用等离子体增强化学气相沉积技术制备得到的薄膜是由直径为35nm的纯相WC构成,PNP在该薄膜电极上电化学还原峰电位为-1.05V(Vs.SCE),还原电流达10.0mA·cm-2,表观活化能为10.9kJ·mol-1。PNP在这两种碳化钨薄膜电极上都经过两步不可逆的电化学反应还原成对氨基苯酚,控制步骤为电极反应的电荷传递过程。
郑华均黄建国王伟马淳安
关键词:碳化钨纳米晶薄膜电催化对硝基苯酚
磁控溅射法制备纳米晶碳化钨及其电催化性能的研究
本文全面综述了国内外在碳化钨催化材料制备、性能及应用方面的研究进展,通过磁控溅射物理气相沉积技术在金属镍基体上制备碳化钨纳米晶薄膜。 采用SEM、XRD表征手段,对碳化钨纳米晶薄膜的表面型貌、物相结构、化学组成...
黄建国
关键词:磁控溅射法碳化钨
文献传递
共2页<12>
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