何艳
- 作品数：16 被引量：22H指数：3
- 供职机构：沈阳工业大学机械工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中国博士后科学基金国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：金属学及工艺机械工程化学工程电子电信更多>>
- 飞行器蒙皮防腐涂层自动喷涂工艺
- 2018年
- 飞行器蒙皮材料受周围环境的影响,表面会发生一定程度的腐蚀,从而导致材料性能下降甚至损坏。本文提出了一种蒙皮壳体自动喷涂工艺,采用旋转导轨实现工件在各工序之间的自动传送,设计了专用装夹、工件旋转、喷枪移动和输送轨道装置,基本实现了喷涂过程的自动化,并保证了喷涂表面质量。
- 罗和平刘永吉汲军何艳
- 关键词：蒙皮
- 利用光催化氧化作用精密可控切割石墨烯带的方法与装置
- 本发明涉及一种利用光催化氧化作用精密可控切割石墨烯带的方法与装置，其特征在于：步骤一：将带有衬底的石墨烯固定在压电陶瓷驱动的二维微动台上；步骤二：利用磁致伸缩机构并借助电源控制器实现半导体探针的Z向定位；步骤三：使用雾化...
- 苑泽伟何艳郑鹏韩晖
- 文献传递
- 光催化辅助化学机械抛光CVD金刚石抛光液的研制被引量：5
- 2016年
- CVD金刚石因其优越的物理化学特性被应用到许多高科技领域中,但目前的抛光方法存在着效率低、精度差等诸多问题,无法满足高科技领域对金刚石高效超光滑的表面精度要求。我们提出利用二氧化钛光催化辅助化学机械抛光方法实现CVD金刚石的高质量加工,并研制出用于金刚石抛光的二氧化钛光催化氧化原理结合辅助化学机械抛光液。首先,我们根据光催化原理搭建相应的化学机械抛光装置;然后,采用甲基橙溶液氧化变色及溶液氧化还原电位(ORP)表征抛光液的氧化性;最后,对CVD金刚石进行了光催化辅助化学机械抛光。结果表明:P25型二氧化钛光催化活性最高,每100mL纯水中加入1mL的H_2O_2与0.2mL的H_3PO_4对催化剂活性影响最大,氧化还原能力较高,采用其加工CVD金刚石可使抛光表面变得极为光滑。
- 苑泽伟杜海洋何艳张悦
- 关键词：CVD金刚石二氧化钛光催化化学机械抛光抛光液
- 单晶蓝宝石高效超精密加工技术研究被引量：1
- 2018年
- 针对光电子器件、集成电路等应用领域对单晶蓝宝石高质量的表面需求,而单晶蓝宝石自身的硬度和良好的化学稳定性给抛光带来较大的困难。文章在分析、对比直接采用2μm金刚石磨料化学机械抛光蓝宝石基片效果的基础上,提出机械研磨与化学机械抛光相结合的工艺抛光蓝宝石。结果表明,采用10μm的碳化硼磨料机械研磨蓝宝石,材料去除率为8.03μm/h,表面粗糙度Ra由1.18μm迅速降至22.326 nm;采用粒径为2μm和0.5μm的金刚石磨料化学机械抛光蓝宝石晶片,有效的去除机械抛光带来的损伤,最后表面粗糙度Ra可达0.55 nm。此抛光工艺能满足蓝宝石晶体高效、超光滑、低损伤的抛光要求。
- 何艳苑泽伟王坤李树荣
- 关键词：机械研磨化学机械抛光
- 一种带微织构的航空关节轴承及其制造方法
- 本发明属于航空制造领域，公开一种带微织构的航空关节轴承及其制造方法。其特征是航空关节轴承包括外圈和内圈，内圈装在外圈内，且内圈的外球面和外圈的内球面相配合转动，所述内圈外表面和外圈内表面通过超声表面强化的方法形成一层具有...
- 苑泽伟秦悦邓春利何艳杜海洋
- 文献传递
- 光催化辅助抛光单晶碳化硅工艺研究
- 碳化硅具有禁带宽度大、介电常数低、热导率高、临界击穿电场强大、饱和电子漂移速率高、抗辐射能力强以及与氮化镓(GaN)相近的晶格常数和热膨胀系数等优越的物理化学性能,使其成为21世纪极具发展前景的宽禁带半导体材料.但是,作...
- 苑泽伟何艳段振云张幼军温泉
- 关键词：化学机械抛光光催化物理化学性能
- 单晶SiC的电助光催化抛光及去除机理被引量：1
- 2020年
- 为满足电子半导体等领域对SiC超光滑、无损伤和材料高效去除的要求,提出了电助光催化抛光SiC的新方法。研究了光催化剂种类及其pH值对抛光液氧化性和抛光效果的影响,讨论了材料的去除机理。结果表明:以p25型TiO_2为光催化剂配制抛光液所获得的最大氧化还原电位为633.11 mV,材料去除率为1.18μm/h,表面粗糙度Ra=0.218 nm;抛光后SiC表面氧化产物中,Si-C-O、Si-O和Si_4C_4O_4的含量明显增加,SiC表面被氧化并被机械去除是主要的材料去除方式。
- 何艳苑泽伟段振云王雪
- 关键词：SIC抛光液
- 一种固体润滑航空关节轴承及其制造方法
- 本发明属于航空制造领域，介绍了一种固体润滑航空关节轴承及其制造方法。其特征是航空关节轴承包括外圈和内圈，内圈装在外圈内，且内圈的外球面和外圈的内球面相配合转动，所述内圈外表面和外圈内表面具有一层超声滚压强化得到的强化层，...
- 苑泽伟秦悦邓春利何艳
- 文献传递
- 光催化辅助化学机械抛光CVD金刚石抛光液的研制
- CVD金刚石因其优越的物理化学特性被应用到许多高科技领域中,但目前抛光方法存在着效率低、精度差等诸多问题,无法满足高科技领域对金刚石高效超光滑的表面抛光.本文提出利用二氧化钛光催化辅助化学机械抛光方法实现CVD金刚石的高...
- 苑泽伟杜海洋何艳张悦
- 关键词：金刚石化学气相沉积化学机械抛光光催化
- 文献传递
- 利用光催化氧化作用精密可控切割石墨烯带的方法与装置
- 本发明涉及一种利用光催化氧化作用精密可控切割石墨烯带的方法与装置，其特征在于：步骤一：将带有衬底的石墨烯固定在压电陶瓷驱动的二维微动台上；步骤二：利用磁致伸缩机构并借助电源控制器实现半导体探针的Z向定位；步骤三：使用雾化...
- 苑泽伟何艳郑鹏韩晖
- 文献传递
