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赵培

作品数:20 被引量:6H指数:1
供职机构:武汉工程大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学自动化与计算机技术电气工程更多>>

文献类型

  • 15篇专利
  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 4篇一般工业技术
  • 2篇理学
  • 1篇电气工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 9篇化学气相
  • 9篇化学气相沉积
  • 7篇气相沉积
  • 5篇陶瓷
  • 5篇超导
  • 4篇激光化学气相...
  • 4篇SUB
  • 3篇真空泵
  • 3篇陶瓷材料
  • 3篇陶瓷材料制备
  • 3篇腔体
  • 3篇激光
  • 3篇高温超导
  • 3篇超导薄膜
  • 2篇单质
  • 2篇挡板
  • 2篇雕刻机
  • 2篇钉扎
  • 2篇形貌
  • 2篇异形件

机构

  • 20篇武汉工程大学
  • 3篇教育部
  • 1篇东北大学

作者

  • 20篇赵培
  • 9篇王莹
  • 7篇苏轼
  • 4篇徐源来
  • 4篇张琼
  • 2篇赵培
  • 1篇张博

传媒

  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇武汉工程大学...

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2023
  • 3篇2022
  • 1篇2021
  • 2篇2020
  • 5篇2018
  • 1篇2017
  • 3篇2016
  • 3篇2015
20 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
不同形貌MnOx/CeO2催化剂的制备及其催化燃烧氯苯的性能研究
含氯挥发性有机化合物(CVOCs)是在工业生产过程中产生的一种高毒性、持久性的空气污染物。所以,开发可行的处理CVOCs技术是亟需解决的问题。到目前为止,催化燃烧法以其操作温度低效率高等特点,已经是人们消除 CVOCs的...
赵培
关键词:不同形貌催化剂催化燃烧氯苯
一种化学气相沉积设备专用挡板装置
本发明公开了一种化学气相沉积设备专用挡板装置,包括真空转接法兰、挡板、挡板连接杆、支撑杆和手柄,真空转接法兰设置于沉积腔体的壳体上,支撑杆通过固定杆与沉积腔体连接,挡板设置于沉积腔体内,挡板与挡板连接杆一端连接,挡板连接...
赵培苏轼王莹
文献传递
一种化学气相沉积设备专用挡板装置
本发明公开了一种化学气相沉积设备专用挡板装置,包括真空转接法兰、挡板、挡板连接杆、支撑杆和手柄,真空转接法兰设置于沉积腔体的壳体上,支撑杆通过固定杆与沉积腔体连接,挡板设置于沉积腔体内,挡板与挡板连接杆一端连接,挡板连接...
赵培苏轼王莹
文献传递
一种激光微波磁场共同增强的化学气相沉积设备
本发明公开了一种激光微波磁场共同增强的化学气相沉积设备,腔体的上端面开设双层原料混合喷管接口,双层原料混合喷管竖直穿过腔体的上端面,加热台设置在腔体内部,固定在双层原料混合喷管的下方,腔体的上端面还设置开口处并以透明的激...
赵培王莹
文献传递
激光化学气相沉积法制备多层氧化铈缓冲层薄膜被引量:4
2022年
为了增强第二代高温超导薄膜的载流性能,通过激光化学气相沉积法在镀有LaMnO_(3)/MgO/Gd_(2)Zr_(2)O_(7)复合涂层的哈氏C276合金基板上制备了2、3、4、5和6层氧化铈缓冲层薄膜。研究了氧化铈薄膜层数对薄膜相组成、结晶度、薄膜微观形貌和晶粒尺寸的影响。实验结果表明,制备出了单相(100)氧化铈薄膜。随着薄膜层数的增加,其面内取向变好。薄膜结晶度在2层时最低,在5层时最高。随着氧化铈薄膜层数从2层增加到6层,氧化铈薄膜的平均晶粒尺寸从28.98 nm增加到86.10 nm。氧化铈晶粒形状从大部分正方金字塔形变为相互正交的矩形棱台形并且晶粒间出现10~50 nm的孔洞。通过引入激光加速前驱体分解,2层氧化铈薄膜的厚度达到136 nm,薄膜沉积速率高达2.45μm·h^(-1)。
陈志杰潘天宇徐源来赵培
关键词:激光化学气相沉积晶粒尺寸
基于CVD技术在异形件表面制备三维金属单质薄膜的设备及方法
本发明涉及一种基于CVD技术在异形件表面制备三维金属单质薄膜的设备及方法。该设备包括反应室腔体、喷液雾化系统、气体供给系统、真空系统、温控系统、数据采集系统以及计算机控制系统,其中反应室腔体分别与喷液雾化系统、真空系统、...
赵培刘莎徐源来
前驱体温度对激光化学气相沉积YBa2 Cu3 O7δ超导薄膜结构及性能的影响
2020年
采用激光化学气相沉积法在Al2O3基底上以49μm·h-1的沉积速率高速制备了c-轴取向的YBa2Cu3O 7-δ薄膜,其中,激光功率为133 W,沉积温度1103 K,腔体压强800 Pa。研究了前驱体蒸发温度及薄膜退火温度对薄膜电学性能的影响。研究表明,Ba、Cu、Y前驱体加热温度分别为603、478、459 K时制备的薄膜在经813 K高温热处理12 h后,临界温度可达83 K。
张琼赵培吴慰戴武斌GOTO Takashi徐源来
关键词:激光化学气相沉积YBA2
一种ReBa<Sub>2</Sub>Cu<Sub>3</Sub>O<Sub>7-x</Sub>超导薄膜上制备钉扎层的方法
本发明提供一种ReBa<Sub>2</Sub>Cu<Sub>3</Sub>O<Sub>7‑x</Sub>超导薄膜上制备钉扎层的方法,涉及陶瓷材料制备技术领域。本发明为一种ReBa<Sub>2</Sub>Cu<Sub>3<...
赵培张琼
一种快速制备超薄陶瓷片的方法
本发明涉及一种快速制备超薄陶瓷片的方法,该方法利用激光化学气相沉积技术以相应的金属有机源作为前驱体原料,通过激光的活化作用在特定基板上沉积均匀的陶瓷层,然后通过烧蚀或研磨等手段将基板与制得的陶瓷层分离,最终得到单一、高致...
赵培吴慰
文献传递
沉积速率对激光化学气相沉积法制备YBa2Cu3O7-δ超导薄膜取向、形貌及电学性能的影响
本实验采用智能喷液雾化-多元共析激光化学气相沉积法在CeO2/LaMnO3/MgO/Gd2Zr2O7/Hastelloy C276 金属基板上制备了a-轴及c-轴取向的的YBCO 薄膜.薄膜的沉积速率范围为10-55 μ...
赵培苏轼王莹
关键词:第二代高温超导带材
共2页<12>
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