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王明磊

作品数:4 被引量:0H指数:0
供职机构:辽宁科技大学更多>>
相关领域:理学金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 2篇硬质
  • 2篇硬质涂层
  • 2篇涂层
  • 2篇冷轧
  • 2篇金属
  • 2篇溅射
  • 2篇飞剪
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇等离子体
  • 1篇等离子体增强
  • 1篇数值模拟
  • 1篇碳化物陶瓷
  • 1篇陶瓷
  • 1篇陶瓷表面
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米金
  • 1篇纳米金属
  • 1篇耐冲击
  • 1篇耐冲击性

机构

  • 4篇辽宁科技大学
  • 1篇大连维钛克科...

作者

  • 4篇王明磊
  • 3篇周艳文
  • 2篇吴法宇
  • 2篇李清海
  • 2篇张瑜
  • 2篇孟彪
  • 1篇吴川
  • 1篇王晓明

传媒

  • 1篇真空

年份

  • 2篇2016
  • 2篇2015
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
磁控溅射中电磁场分布二维模拟
2015年
本文采用计算机FORTRAN语言自主编程,通过建立通电线圈磁场的数学模型,对磁控溅射靶附近由通电线圈产生的磁场分布进行了二维数值模拟计算。计算表明当内、外线圈加反向电流,增加内或外线圈电流,可使通电线圈产生的磁场非平衡度增加,其增加强度由电流增加强度所决定。随着内或外线圈电流增加,真空腔内磁场强度分布更均匀。通过调节内、外电线圈电流,控制磁场分布,从而控制其对等离子体密度及能量分布,可使等离子体因磁场的均匀分布而在真空腔内分布均匀化。另外,这种外加的电磁场还会使磁控装置本体磁场增强,因此对磁控溅射产生的等离子体有增强作用。此结果为磁控溅射装置上磁场配置提供重要参考依据。
王晓明吴川周艳文张绪跃王复栋王明磊
关键词:磁场分布磁控溅射数值模拟
一种冷轧圆盘飞剪的硬质涂层及其制备方法
本发明提供了一种冷轧圆盘飞剪的硬质涂层及其制备方法,改善现有冷轧圆盘飞剪的性能指标。硬质涂层分为三层:一层为与基底相接的金属过渡底层,二层为沉积在金属过渡底层顶面的富金属中间过渡层,三层为沉积在富金属中间过渡层顶面上的陶...
周艳文王复栋孟彪吴法宇王明磊李清海张瑜
文献传递
等离子体增强磁控溅射法制备CrN薄膜工艺及其性能的研究
磁控溅射制备技术是近些年来迅速发展的一种材料表面改性的重要手段之一,具有低温、低成本、高效率等特点,并具备实现工业化生产的发展前景和广泛应用于各种化合物薄膜的沉积与制备。随着现代工业的发展,传统工艺制备的涂层不再满足当今...
王明磊
关键词:等离子体磁控溅射CRN薄膜
一种冷轧圆盘飞剪的硬质涂层及其制备方法
本发明提供了一种冷轧圆盘飞剪的硬质涂层及其制备方法,改善现有冷轧圆盘飞剪的性能指标。硬质涂层分为三层:一层为与基底相接的金属过渡底层,二层为沉积在金属过渡底层顶面的富金属中间过渡层,三层为沉积在富金属中间过渡层顶面上的陶...
周艳文王复栋孟彪吴法宇王明磊李清海张瑜
文献传递
共1页<1>
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