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郑莹

作品数:7 被引量:16H指数:2
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:机械工程理学电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇专利
  • 3篇期刊文章

领域

  • 3篇机械工程
  • 2篇电子电信
  • 2篇理学

主题

  • 4篇倒装
  • 4篇上光
  • 4篇基片
  • 4篇厚膜
  • 3篇调制
  • 3篇空间调制
  • 3篇光谱
  • 3篇傅里叶
  • 2篇多层膜
  • 2篇膜层
  • 2篇控制精度
  • 2篇化学腐蚀
  • 2篇红外
  • 2篇红外光
  • 2篇红外光谱
  • 2篇红外光谱仪
  • 2篇傅里叶变换
  • 1篇微光机电系统
  • 1篇微型光谱仪
  • 1篇误差分析

机构

  • 7篇中国科学院长...
  • 3篇中国科学院研...
  • 1篇暨南大学

作者

  • 7篇梁静秋
  • 7篇梁中翥
  • 7篇郑莹
  • 1篇朱万彬
  • 1篇孔延梅
  • 1篇王波
  • 1篇吕金光
  • 1篇付建国
  • 1篇裴舒
  • 1篇王维彪
  • 1篇张军

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇光学学报
  • 1篇光谱学与光谱...

年份

  • 2篇2014
  • 3篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2010
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
厚膜倒装调整制作多级微反射镜的方法
本发明涉及一种厚膜倒装调整制作多级微反射镜的方法,包括如下步骤:制作2N个原始基片并对其进行清洗处理;在原始基片上光刻出所需掩膜图形,然后沉积薄膜材料,剥离光刻胶,形成膜层结构;在基底上光刻出掩蔽图形,并沉积一层厚度小于...
梁静秋梁中翥郑莹
红外光谱仪多级微反射镜模拟分析及制作研究被引量:6
2011年
随着环境科学、气象监测和空间探测等前沿基础研究领域的发展,可便携、实时监测的光谱仪器的需求变得更加迫切。以多级微反射镜为关键器件的空间调制微型傅里叶变换红外光谱仪体积小、无可动部件,可实现实时检测与在线监测。模拟分析了多级微反射镜的台阶高度及表面粗糙度对复原光谱的影响,得到多级微反射镜的台阶高度允许的最大误差为±0.18μm,反射面表面粗糙度的最大容限为150nm和200nm。根据实验研究及对比分析,选用多次光刻-电镀方法制作了多级微反射镜。测试表明,以此方法制作的多级微反射镜表面粗糙度均方根(RMS)值为90.23nm,台阶高度误差值为±0.1μm,基本满足系统的设计要求。
郑莹梁中翥梁静秋
关键词:傅里叶光学空间调制表面粗糙度
厚膜倒装调整与定位生长多层膜混合制作多级微反射镜的方法
本发明涉及一种厚膜倒装调整与定位生长多层膜混合制作多级微反射镜的方法,包括制作2M个原始基片并对其进行清洗处理;在原始基片上光刻出所需掩膜图形,然后沉积薄膜材料,剥离光刻胶,形成膜层结构;在基底上光刻出掩蔽图形;分别将M...
梁静秋梁中翥郑莹
用于微型光谱仪的硅基多级微反射镜设计与制作研究被引量:10
2010年
提出了一种基于微光机电系统技术实现的空间调制方式的微型傅里叶变换光谱仪,介绍了其分光干涉系统结构及工作原理.对其核心部件多级微反射镜的制作方法进行了研究,采用硅在KOH溶液中的各向异性腐蚀方法制作多级微反射镜,硅腐蚀后形成的(111)反射面的表面粗糙度均方根小于10nm.
王波梁中翥孔延梅梁静秋付建国郑莹朱万彬吕金光王维彪裴舒张军
关键词:傅里叶变换光谱仪微光机电系统空间调制
厚膜倒装调整制作多级微反射镜的方法
本发明涉及一种厚膜倒装调整制作多级微反射镜的方法,包括如下步骤:制作2N个原始基片并对其进行清洗处理;在原始基片上光刻出所需掩膜图形,然后沉积薄膜材料,剥离光刻胶,形成膜层结构;在基底上光刻出掩蔽图形,并沉积一层厚度小于...
梁静秋梁中翥郑莹
文献传递
空间调制傅里叶变换红外光谱仪多级微反射镜倾斜误差分析被引量:2
2012年
空间调制傅里叶变换红外光谱仪无可动部件,系统稳定而紧凑,而且程差可控,可实现在线监测和实时检测。多级微反射镜是光谱仪干涉系统的关键器件,其在系统中的位置精度对光谱仪性能影响很大。本文对多级微反射镜的倾斜误差引起的光程差变化进行了理论计算,并利用光学软件进行了模拟仿真。分析结果表明,随着多级微反射镜倾斜角度的增大,干涉图对比度下降,对应的光谱图脉冲谱线展宽,信噪比下降,严重时会出现波数偏离。以上分析方法对后期系统公差分配及装调有着重要的指导意义。
郑莹梁静秋梁中翥
关键词:傅里叶变换空间调制红外光谱仪误差分析
厚膜倒装调整与定位生长多层膜混合制作多级微反射镜的方法
本发明涉及一种厚膜倒装调整与定位生长多层膜混合制作多级微反射镜的方法,包括制作2M个原始基片并对其进行清洗处理;在原始基片上光刻出所需掩膜图形,然后沉积薄膜材料,剥离光刻胶,形成膜层结构;在基底上光刻出掩蔽图形;分别将M...
梁静秋梁中翥郑莹
文献传递
共1页<1>
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