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文献类型

  • 3篇中文专利

主题

  • 2篇射线
  • 2篇理化性
  • 2篇理化性质
  • 2篇晶型
  • 2篇粉末
  • 2篇I
  • 1篇衍射
  • 1篇用药
  • 1篇硼替佐米
  • 1篇化合物
  • 1篇安全用药

机构

  • 3篇重庆医药工业...

作者

  • 3篇王菲
  • 2篇陈皓
  • 2篇林蒙
  • 2篇张检
  • 2篇唐远富
  • 1篇罗君来
  • 1篇蒋歆
  • 1篇邹春兰
  • 1篇黄强
  • 1篇刘勇

年份

  • 1篇2019
  • 1篇2018
  • 1篇2015
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
一种卡格列净晶型I及其制备方法
本发明公开了一种卡格列净晶型Ⅰ,该晶型的X-射线粉末衍射图谱在2θ值为4.4±0.2°、8.4±0.2°、16.8±0.2°、17.5±0.2°、18.0±0.2°、22.8±0.2°的位置有特征衍射峰。该晶型理化性质稳...
王菲张检林蒙唐远富陈皓雷皇书
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一种硼替佐米的杂质及其制备方法
本发明涉及一种硼替佐米的杂质化合物I及其制备方法,该杂质化合物可以用于硼替佐米生产中杂质的定性及定量分析,从而可以提高硼替佐米的质量标准,为其安全用药提供重要意义。
黄强蒋歆王菲邹春兰邹益品袁珂刘勇罗君来
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一种卡格列净晶型I及其制备方法
本发明公开了一种卡格列净晶型Ⅰ,该晶型的X‑射线粉末衍射图谱在2θ值为4.4±0.2°、8.4±0.2°、16.8±0.2°、17.5±0.2°、18.0±0.2°、22.8±0.2°的位置有特征衍射峰。该晶型理化性质稳...
王菲张检林蒙唐远富陈皓雷皇书
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共1页<1>
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