张磊
- 作品数:9 被引量:0H指数:0
- 供职机构:北京京东方光电科技有限公司更多>>
- 相关领域:电子电信环境科学与工程一般工业技术更多>>
- 薄膜表面平坦化的方法、阵列基板及其制备方法和显示装置
- 本发明公开了一种薄膜表面平坦化的方法、阵列基板及其制备方法和显示装置,涉及显示领域,可解决现有干法刻蚀对被刻蚀膜层下方的其它膜层表面平整度损伤大的技术问题,从而提高液晶显示器的显示性能。本发明所述阵列基板的制备方法,包括...
- 陈磊夏子祺代伍坤李嘉鹏金秀洪王凤国张磊仇淼
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- 显示基板及其制造方法、以及显示装置
- 本发明的实施例涉及显示基板及其制造方法、以及显示装置。该显示基板包括显示区域和环绕显示区域的非显示区域,所述非显示区域包括:位于衬底基板上的第一信号线、绝缘层和多条平行设置的第二信号线,所述第一信号线和所述第二信号线在所...
- 董宜萍张磊郭海波
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- 显示器件的对位检测设备及曝光工艺系统
- 本实用新型提供的显示器件的对位检测设备及曝光工艺系统,其包括用于承载显示器件的承载架、控制装置、检测装置和分析装置,其中,控制装置用于在承载架处于工艺间的空闲时间时,根据预先存储的显示器件的对中位置的坐标信息,向检测装置...
- 张磊代伍坤陈磊李嘉鹏董宜萍
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- 电子纸的2W2D工艺改善研究
- 2020年
- 在电子纸行业中,为了减少光刻次数、降低成本,部分产品的TFT基板会采用半色调掩膜工艺,传统的一次湿刻一次干刻(1W1D)方法要求半色调掩膜光刻胶厚度与均一性同时满足较高要求,管控难度大,导致曝光多次返工浪费产能;而且,1W1D的刻蚀均一性很差,使玻璃四周沟道a-Si过薄,影响良率。为了改善这两方面的问题,我们参考了非电子纸产品的两次湿刻两次干刻(2W2D)工艺。然而非电子纸的2W2D工艺会产生较长的a-Si拖尾现象,导致较大的寄生电容,造成良率损失;此外,a-Si残留和沟道特性问题也阻碍了电子纸良率的进一步提升。因此,我们通过降低两次湿刻时间,改善灰化条件,减小a-Si拖尾长度;建立a-Si处理工序,消除a-Si残留;调整a-Si成膜条件和钝化层成膜前处理条件,改善沟道特性。实验结果表明:采用改善后的2W2D工艺可以完全满足电子纸的特性要求,并且相比于1W1D方法,得到的沟道厚度均一性提升50%,阵列检测良率提升4%~10%;同时无需管控半色调掩膜光刻胶的均一性,仅满足光刻胶厚度的管控要求即可,使曝光返工比例降低60%。改善后的2W2D工艺有效改善了电子纸产品的沟道特性与刻蚀均一性,提升了产品良率,减少了产能浪费,降低了成本,对4次光刻电子纸产品具有重要指导意义。
- 佟月佟硕王凤涛曹洪韬刘艳葵耿红帅李森张鹏曲卢凯孙亮张磊陈思王威
- 关键词:电子纸
- 薄膜表面平坦化的方法、阵列基板及其制备方法和显示装置
- 本发明公开了一种薄膜表面平坦化的方法、阵列基板及其制备方法和显示装置,涉及显示领域,可解决现有干法刻蚀对被刻蚀膜层下方的其它膜层表面平整度损伤大的技术问题,从而提高液晶显示器的显示性能。本发明所述阵列基板的制备方法,包括...
- 陈磊夏子祺代伍坤李嘉鹏金秀洪王凤国张磊仇淼
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- 浅谈液晶面板行业中的环境管理
- 2019年
- 液晶面板生产工序伴随着一系列化学反应,在玻璃基板清洗、阵列工艺、滴成盒工艺等工序中会产生废水、废气等;生产中使用的化学品和特气大都具有一定的腐蚀性、毒性和易燃易爆性等特点;生产中产生的废液也都具有毒害性。一旦发生排放超标、生产化学品和特气泄漏、生产废液泄漏,将会产生严重的环境事故。本着对环境保护的原则,根据液晶面板行业的现状,本文对液晶行业中的环境管理进行讨论。
- 龙志强全京田海旺张磊
- 关键词:液晶面板环境管理
- 阵列基板的制造方法、阵列基板、灰度掩膜板和显示装置
- 本发明公开了一种阵列基板的制造方法、阵列基板、灰度掩膜板和显示装置,属于显示技术领域。该方法包括:在衬底基板上依次形成透明导电层和金属层;在形成有透明导电层和金属层的衬底基板上形成光刻胶图案;去除无光刻胶区对应的透明导电...
- 董宜萍张磊高天佑
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- 显示基板及其制造方法、以及显示装置
- 本发明的实施例涉及显示基板及其制造方法、以及显示装置。该显示基板包括显示区域和环绕显示区域的非显示区域,所述非显示区域包括:位于衬底基板上的第一信号线、绝缘层和多条平行设置的第二信号线,所述第一信号线和所述第二信号线在所...
- 董宜萍张磊郭海波
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- 一种阵列基板、显示面板及显示装置
- 本发明提供一种阵列基板、显示面板及显示装置,其公共电极只位于像素区域内,并通过连接电极连接相邻像素区域的公共电极,且连接电极在基底上的投影不完全覆盖数据线对应的区域,减少数据线上方的电极的面积,即设置一条面积相对较小的连...
- 陈磊张磊关跃征
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