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王艳梅

作品数：2 被引量：8H指数：1
供职机构：北京化学试剂研究所更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇光刻
  • 2篇光刻胶
  • 1篇微电子

机构

  • 2篇北京化学试剂...

作者

  • 2篇王艳梅
  • 1篇陈昕
  • 1篇黄志齐
  • 1篇文武
  • 1篇焦小明
  • 1篇郑金红
  • 1篇杨澜

传媒

  • 1篇感光科学与光...
  • 1篇2006年特...

年份

  • 1篇2006
  • 1篇2005
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
193nm光刻胶的研制被引量：8
2005年
从主体树脂的结构设计、单体的合成工艺、主体树脂的合成工艺、光致产酸剂的评价、配方研究等多个方面论述了193nm光刻胶的研制工艺,合成出了多种适用的单体及多种结构的主体树脂,进行了大量的配方研究,筛选出了最佳配方.研制出的样品经美国SEMATECH实验室应用评价其最佳分辨率为0.1μm,最小曝光量为26mJ/cm2,不但具有优异的分辨率和光敏性,而且还具有良好的粘附性和抗干法腐蚀性.
郑金红黄志齐陈昕焦小明杨澜文武高子奇王艳梅
关键词：光刻胶
国内外光刻胶现状及发展趋势
本文主要介绍了国内外光刻胶技术现状及发展趋势,分析了国内外光刻胶市场状况及未来走向,并在此基础上阐述了我国光刻胶研发的重点工作,应解决的关键技术及未来的发展方向。
王艳梅
关键词：微电子光刻胶
文献传递
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