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任小艳

作品数：4 被引量：0H指数：0
供职机构：上海大学更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇中文专利

主题

  • 4篇抛光
  • 4篇抛光液
  • 4篇组合物
  • 4篇磨粒
  • 2篇氧化剂
  • 2篇硬盘
  • 2篇离子
  • 2篇金属
  • 2篇金属离子
  • 2篇计算机
  • 2篇计算机硬盘
  • 2篇表面抛光
  • 2篇存储器
  • 1篇氧化还原体系
  • 1篇引发剂

机构

  • 4篇上海大学

作者

  • 4篇雷红
  • 4篇蒋婷
  • 4篇任小艳
  • 2篇陈入领
  • 2篇张卫涛
  • 2篇赵蓉
  • 1篇王瑶
  • 1篇王莹
  • 1篇黄丽琴
  • 1篇顾倩
  • 1篇马盼

年份

  • 3篇2015
  • 1篇2014
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
用于计算机硬盘基片无磨粒抛光液组合物
本发明涉及一种用于计算机硬盘基片抛光的无磨粒抛光液组合物。本发明的抛光液含有金属离子、氧化剂、分散剂、表面活性剂和水，其特点在于该抛光液不含磨粒，并且同时含有金属离子和氧化剂。本发明的无磨粒抛光液组成及其重量百分比如下：...
雷红赵蓉张卫涛蒋婷任小艳
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含有氧化还原体系的存储器硬盘基片的无磨粒抛光液组合物及其制备方法
本发明公开了一种含有氧化还原体系的存储器硬盘基片的无磨粒抛光液组合物，0.003~1.78%还原剂有机胺类化合物、1.0~6.0%氧化剂双氧水、1.0~4.0%分散剂六偏磷酸钠、1.0~4.0%表面活性剂十六烷基聚氧乙烯...
雷红蒋婷陈入领任小艳顾倩仝开宇黄丽琴
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用于计算机硬盘基片无磨粒抛光液组合物
本发明涉及一种用于计算机硬盘基片抛光的无磨粒抛光液组合物。本发明的抛光液含有金属离子、氧化剂、分散剂、表面活性剂和水，其特点在于该抛光液不含磨粒，并且同时含有金属离子和氧化剂。本发明的无磨粒抛光液组成及其重量百分比如下：...
雷红赵蓉张卫涛蒋婷任小艳
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含引发剂的存储器硬盘基片的无磨粒抛光液组合物及其制备方法
本发明公开了一种含引发剂的存储器硬盘基片的无磨粒抛光液组合物，0.01~0.12%偶氮类引发剂、1.0~6.0%氧化剂双氧水、1.0~4.0%分散剂六偏磷酸钠、1.0~4.0%表面活性剂十六烷基聚氧乙烯醚羧酸盐和余量的去...
雷红任小艳陈入领蒋婷王莹马盼王瑶
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