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陈光良

作品数：25 被引量：119H指数：6
供职机构：中国科学院物理研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家科技重大专项更多>>
相关领域：一般工业技术化学工程理学农业科学更多>>

合作作者

文献类型

  • 15篇期刊文章
  • 6篇专利
  • 2篇学位论文
  • 2篇会议论文

领域

  • 5篇化学工程
  • 5篇一般工业技术
  • 5篇理学
  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇建筑科学
  • 2篇农业科学
  • 1篇电子电信
  • 1篇轻工技术与工...
  • 1篇环境科学与工...

主题

  • 12篇等离子体
  • 7篇改性
  • 6篇表面改性
  • 4篇种子
  • 4篇粉末材料
  • 3篇端口
  • 3篇真空设备
  • 3篇射频等离子体
  • 3篇气口
  • 3篇阻挡放电
  • 3篇介质
  • 3篇介质阻挡
  • 3篇介质阻挡放电
  • 3篇进气
  • 3篇进气口
  • 2篇氮化
  • 2篇氮化钛
  • 2篇等离子
  • 2篇等离子体改性
  • 2篇电极

机构

  • 17篇中国科学院
  • 9篇北京印刷学院
  • 2篇北京科技大学
  • 2篇中国农业大学
  • 1篇长春理工大学
  • 1篇华中科技大学
  • 1篇北京交通大学
  • 1篇河北工业大学
  • 1篇燕山大学
  • 1篇中央民族大学

作者

  • 25篇陈光良
  • 16篇杨思泽
  • 13篇张谷令
  • 11篇冯文然
  • 10篇刘赤子
  • 8篇张广秋
  • 8篇葛袁静
  • 7篇张跃飞
  • 7篇顾伟超
  • 6篇王久丽
  • 5篇范松华
  • 4篇刘元富
  • 3篇王敏
  • 2篇庞华
  • 2篇牛二武
  • 2篇陈青云
  • 2篇陈强
  • 2篇吕国华
  • 1篇江中和
  • 1篇王玉林

传媒

  • 6篇物理学报
  • 2篇包装工程
  • 2篇全国第九届包...
  • 1篇华北农学报
  • 1篇农业工程学报
  • 1篇物理
  • 1篇高电压技术
  • 1篇混凝土
  • 1篇自然科学进展
  • 1篇北京印刷学院...

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2009
  • 1篇2008
  • 5篇2007
  • 2篇2006
  • 9篇2005
  • 4篇2004
  • 2篇2003
共 25 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
大气压等离子体处理对生菜种子萌发和生长发育的影响被引量：26
2007年
利用自制新型大气压等离子体装置对生菜种子进行处理，研究了不同电压的大气压等离子体处理对生菜种子萌发、幼苗生长及产量品质的影响。试验结果表明：不同电压的等离子体处理对生菜种子萌发的影响效果不同。其中，5610和5950V处理对种子的萌发有促进作用，种子的发芽势、发芽率、发芽指数、活力指数与对照相比均有所提高，而6290—7310V处理则抑制了种子的萌发，且电压越高抑制效果越明显。同时，等离子体处理种子a．淀粉酶活性提高，电导率降低，幼苗地上部鲜干质量、地下部鲜干质量、根体积、根活力及过氧化物酶活性也有不同程度的增加。不同电压的等离子体处理促进了生菜定植后的生长发育，产量最高比CK提高12．52％；生菜的维生素c、叶绿素、硝酸盐、亚硝酸盐含量等品质也有所改善。综合来看，5610和5950V的等离子体处理效果较优。
王敏陈青云陈光良杨思泽
关键词：生菜种子萌发
金属管件内壁栅极增强等离子体源离子注入的轴向特性研究被引量：4
2007年
栅极增强等离子体源离子注入(GEPSII)一种新的金属管件内壁处理方法,该方法能够均匀地对金属管件内壁进行离子注入,并且能够生成二元金属化合物.在金属管件内轴向放置三块45号钢样品,利用GEPSII方法在金属管件内壁成功生长金黄色氮化钛(TiN)薄膜.结构分析显示TiN主要沿(111)和(200)晶面生长,深度分析显示膜的厚度大约二十几纳米,膜质地均匀且在基底有一定的嵌入深度.电化学腐蚀、硬度、磨擦学分析表明TiN薄膜很好地改善了45号钢的表面性能,并且表现出很高的轴向均匀性.
张谷令王久丽陈光良冯文然顾伟超牛二武范松华刘赤子杨思泽
关键词：内表面氮化钛
高阻隔非晶炭氢膜制备及性能研究
本课题采用射频等离子体增强化学气相沉积法(PECVD),以甲烷气体为碳源,氩气为稀释气体,在聚酯(PET)上沉积非晶碳氢膜。利用X射线衍射、X射线光电子能谱(XPS)、傅立叶红外光谱(FTIR)、原子力显微镜(AFM)、...
陈光良
关键词：PECVD抗拉强度
脉冲高能量密度等离子体沉积(Ti,Al)N薄膜组织及其性能研究被引量：4
2005年
利用脉冲高能量密度等离子体技术在室温条件下在 4 5 #钢基材表面沉积了高硬度耐腐蚀 (Ti,Al)N薄膜 .利用扫描电子显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱、俄歇电子能谱分析了薄膜的显微组织 .利用纳米压痕仪测试了薄膜的纳米硬度 .测试了薄膜在 0 5mol LH2 SO4 水溶液中的耐蚀性 .测试结果表明 :薄膜主要组成相为 (Ti,Al)N ,同时含有少量的AlN ,薄膜的纳米硬度高达 2 6GPa ,薄膜具有良好的耐蚀性 ,与 1Cr18Ni9Ti奥氏体不锈钢相比 ,耐蚀性提高了一个数量级 .
刘元富韩建民张谷令王久丽陈光良李雪明冯文然范松华刘赤子杨思泽
关键词：(TI,AL)N耐蚀性1CR18NI9TI奥氏体不锈钢俄歇电子能谱室温条件
一种大气压介质阻挡辉光放电等离子体发生方法及装置
本发明涉及一种大气压介质阻挡辉光放电等离子体发生装置及方法，该装置包括导电液电极、惰性气体源，所述导电液电极设置于双层介质材料管的外层中，所述双层介质材料管的里层连接有惰性气体源，并且所述双层介质材料管的里层设有在电压作...
陈光良杨思泽张谷令
两种电极结构等离子体发生器的静态电场计算被引量：1
2007年
鉴于高气压下的沿面介质阻挡放电发生器在工业应用以及等离子体电磁屏蔽技术领域的重要应用前景,在梳状电极结构的沿面介质阻挡放电发生器基础上设计了两种电极结构的等离子体发生器,并通过边界元方法得到两种结构类型沿面放电发生器的静态场强分布。从计算结果来看,相比较于梳状电极结构的沿面放电发生器,改进后的放电发生器在空间的分布更有利于在高气压下产生较厚的等离子体层。实验结果表明:这两种结构形式的发生器放电效果明显优于梳状电极结构的发生器。
江中和胡希伟刘明海孙承志张跃飞陈光良葛袁静张广秋
关键词：边界元方法梳状电极场强分布等离子体层
管状铝质材料的等离子体电解沉积行为研究被引量：3
2007年
对管状铝质材料的等离子体电解沉积行为进行了研究.测试了不同工作电压和不同电极放置模式条件下铝管内部不同位置的电位分布,并通过显微分析观察,对比了不同电极放置模式对铝管内外壁陶瓷沉积层生长情况的影响.结果表明,不同的电极放置模式下,铝管内外壁陶瓷沉积层生长情况有很大差异.这是因为不同的电极放置模式对铝管内的电场分布具有很大影响,进而影响到铝管内外壁陶瓷层的沉积过程.只有外电极时,由于电场屏蔽作用,不能在铝管内壁形成均匀陶瓷层;在铝管内部加入辅助中心电极后,铝管内部产生均匀电场,这有利于在其内壁形成均匀的陶瓷层.
顾伟超吕国华陈睨陈光良冯文然张谷令杨思泽
关键词：铝管表面改性陶瓷层
等离子体方法实现金属管件内表面改性研究进展被引量：2
2006年
综述了近年来国内外利用等离子体方法实现金属管件内表面强化的研究进展．介绍了几种管件内表面等离子体源离子注入和沉积技术,并对其优缺点分别加以分析．详细介绍了中国科学院物理研究所等离子体物理实验室先后提出的几种等离子体源离子注入方法用于金属管件内表面改性的原理、技术特点及最新研究进展．力图展望管件内壁离子注入技术研究的发展前景．
张谷令吴杏芳顾伟超陈光良冯文然牛二武李立吕国华陈皖范松华刘赤子杨思泽
关键词：等离子体源离子注入内表面表面改性
射频等离子体沉积非晶碳氢薄膜及其阻隔性能
采用射频辉光放电等离子体化学气相沉积系统,，以甲烷和氩气作为工作气体在PET（聚对苯二甲酸乙二醇酯）片和玻璃片基上沉积了非晶碳氢薄膜，利用傅立叶变换红外光谱（FTIR）、表面轮廓仪、扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜...
张跃飞张广秋葛袁静陈光良王瑜
脉冲高能量密度等离子体材料表面改性及其应用被引量：5
2005年
脉冲高能量密度等离子体(pu lsed h igh energy density p lasm a,PHEDP)是一项新的材料表面改性技术.它集高电子温度、高能量密度、高定向速度于一身,在制备薄膜时具有沉积薄膜的温度低、沉积效率高、能量利用率高的优点,并兼具表面溅射、离子注入、冲击波和强淬火效应等综合效应;它可以制备纳米晶或非晶硬质薄膜,提高基底材料的表面硬度和耐磨、耐蚀性能;能够实现非金属材料表面金属化,所制备薄膜与基底之间存在很宽的混合过渡区,因此膜/基结合良好.文章主要介绍了作者近年来在该领域的部分研究成果,简要介绍了脉冲高能量密度等离子体的原理、特点及应用.分析了脉冲等离子体与材料相互作用的基本物理现象.
冯文然陈光良顾伟超张谷令范松华刘赤子杨思泽
关键词：等离子体表面改性
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