您的位置： 专家智库 > >

钟晓霞

作品数：3 被引量：2H指数：1
供职机构：复旦大学物理学系三束材料改性国家重点实验室更多>>
发文基金：国家教育部博士点基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇会议论文
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 2篇电子回旋共振
  • 1篇等离子体
  • 1篇等离子体辅助
  • 1篇等离子体鞘层
  • 1篇烧蚀
  • 1篇鞘层
  • 1篇激光
  • 1篇激光烧蚀
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇光致发光特性
  • 1篇发光
  • 1篇发光特性
  • 1篇ECR
  • 1篇衬底

机构

  • 2篇三束材料改性...
  • 1篇复旦大学

作者

  • 3篇吴嘉达
  • 3篇李富铭
  • 3篇钟晓霞
  • 2篇伍长征
  • 2篇孙剑
  • 1篇孙剑

传媒

  • 2篇第三届中国功...
  • 1篇核聚变与等离...

年份

  • 1篇1999
  • 2篇1998
共 3 条 记 录，以下是 1-3
全选 清除 导出
排序方式：
电子回旋共振等离子体辅助的反应脉冲激光沉积方法制备氮化物薄膜
了一种电子回旋共振等离子体辅助的反应脉冲激光沉积方法，这一方法结合了反应脉冲激光沉积和电子回旋共振等离子体的特点。用这一方法尝试进行氮化硅薄膜，得到了成分分布均匀的膜层。这一方法也运用于制备其它化合物薄腰。
吴嘉达钟晓霞孙剑伍长征李富铭
纳米硅颗粒膜的制备及其光致发光特性的研究
于激光烧蚀的沉积方法制备了纳米硅颗粒膜。烧蚀靶材为单晶硅，氩气用作环境气体。颗粒的形状和尺寸用透射电镜观察，得到的颗粒大小为纳米量级，纳米硅颗粒膜具有较强的可见波段的光致发光能力，光发射的强度和光谱分布还与温度有关。
吴嘉达钟晓霞孙剑伍长征李富铭
关键词：光致发光激光烧蚀
衬底偏压对ECR等离子体鞘层和离子行为的影响被引量：2
1999年
介绍电子回旋共振（ＥＣＲ）微波放电等离子体中离子向衬底输运的蒙特卡罗模型，该模型考虑了精确依赖于离子能量的电荷交换和动量转移截面以及中性区与鞘层的衔接。通过模拟氩离子在中性区与鞘层内的输运过程，在碰撞鞘层基础上着重分析了衬底偏压对鞘层内电势、离子能量分布和离子运动的角分布等鞘层特性和离子行为的影响。
钟晓霞吴嘉达孙剑伍长征李富铭
关键词：电子回旋共振鞘层衬底
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0