窦瑞芬
- 作品数：9 被引量：14H指数：2
- 供职机构：太原理工大学更多>>
- 发文基金：山西省青年科技研究基金山西省自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学更多>>
- 网状阴极法在碳钢表面合成Ta和TaN薄膜的组织及其性能的研究
- 该文介绍一种在普通碳钢基体上合成量和氮化钽薄膜的新方法——网状阴极溅射法.其基本原理是利用双层辉光离子渗金属技术,将纯钽制成网状阴极,它既是合成元素的溅射供给源,又是反应气的离解源.通过对沉积的各种参数:基体偏压、工作气...
- 窦瑞芬
- 关键词：辉光放电结合力
- 文献传递
- 网状阴极法在碳钢表面沉积氮化钽薄膜的研究
- 2002年
- 介绍了一种在钢铁基体上制备氮化钽薄膜的新方法———网状阴极法。其设备简单、价格低廉。实验中发现 ,在工艺参数调配合适的条件下 ,可制备出结构为面心立方和密排六方结构的氮化钽薄膜。薄膜较致密且均匀 ,与基体结合良好。分析了优选工艺参数条件下合成的氮化钽膜的成分、组织、表面和断口形貌及结合力。
- 窦瑞芬田林海潘俊德陈飞赵晋香
- 关键词：空心阴极效应
- 网状阴极溅射法在钛合金表面渗镀Ta的耐蚀性研究被引量：1
- 2002年
- 研究设计了一种网状阴极溅射靶 ,它是由多个空心阴极并列交叉组合而成。结构简单 ,溅射率高。将其用于双层辉光离子渗钽中 ,在钛合金TC4(Ti 6Al 4V)表面可形成纯Ta沉积层和合金扩散层的复合层组织 ,进一步提高了钛合金的耐蚀性 。
- 陈飞潘俊德窦瑞芬张跃飞唐宾徐重
- 关键词：钛合金耐蚀性表面处理
- 双辉放电渗镀金属碳氮化合物的装置及工艺
- 本发明双辉放电渗镀金属碳氮化合物的装置及工艺属于金属材料表面改性的范畴，是利用欲渗镀的金属及合金制成格栅状源极，再利用辉光放电及空芯阴极放电效应，从格栅状源极内产生高密度的金属粒子流，同时与通入的反应气氮气、碳氢气体经格...
- 徐重潘俊德高原田林海窦瑞芬陈飞
- 文献传递
- 网状阴极辉光放电法在钛合金表面渗镀Ta的应用被引量：3
- 2003年
- 设计了一种网状阴极溅射靶,它是由多个空心阴极并列交叉组合而成。结构简单,溅射率高。将其用于双层辉光离子渗钽中,在钛合金(Ti-6Al-4V)表面可形成纯Ta沉积层和合金扩散层的复合层组织,进一步提高了钛合金的耐蚀性,是一种高耐蚀合金。
- 陈飞张跃飞潘俊德唐宾窦瑞芬徐重
- 关键词：钛合金阴极溅射
- 双辉放电渗镀金属碳或者氮化合物装置及工艺
- 本发明双辉放电渗镀金属碳或者氮化合物装置及工艺属金属材料表面改性范畴，是利用欲渗镀的金属及合金制成格栅状源极，利用辉光放电及空芯阴极放电效应，从格栅状源极内产生高密度的金属粒子流，同时与通入的反应气氮气、碳氢气体经格栅状...
- 徐重潘俊德高原田林海窦瑞芬陈飞
- 文献传递
- 网状阴极法在碳钢表面沉积钽薄膜被引量：1
- 2001年
- 介绍了一种新型的在钢铁基体上制备钽薄膜的方法。该方法用网状钽片作阴极 ,它既是放电气体的离解源 ,又是沉积钽膜的钽离子供给源 ,其设备简单、价格低廉。实验中发现 ,在各个参数配比合适的条件下 ,可制备出结构为bcc(体心立方 )和tetragonal(四方晶系 )的钽薄膜。薄膜较致密且均匀 ,与基体的结合好。同时分析了在最佳工艺参数条件下合成钽膜的组织结构、表面和断口形貌、结合力等。
- 窦瑞芬田林海潘俊德贺琦
- 关键词：空心阴极效应
- 用网状阴极法在碳钢表面沉积氮化钽薄膜被引量：1
- 2002年
- 介绍了一种新型的在钢铁基体上制备氮化钽薄膜的方法———网状阴极法。其设备简单、价格低廉。实验中发现 ,在各个参数配比合适的条件下 ,可制备出结构为fcc(面心立方 )和hex(密排六方 )的氮化钽薄膜。薄膜较致密且均匀 ,与基体的结合好。同时分析了在最佳工艺参数条件下合成氮化钽膜的成分、组织、表面、断口形貌和结合力等。该方法为氮化钽薄膜作为结构材料使用提供了一种新的途径。
- 窦瑞芬田林海潘俊德陈飞赵晋香
- 关键词：碳钢空心阴极效应
- 金刚石薄膜的研究进展被引量：7
- 2000年
- 介绍了近几年来发展较快的合成金刚石薄膜的几种方法 ,以及合成过程中的成核机理 ,并重点讨论了影响金刚石薄膜质量的几个因素。同时对目前金刚石薄膜的应用领域和其中存在的问题作了简要讨论。
- 窦瑞芬潘俊德
- 关键词：金刚石薄膜成核机理
