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李缙

作品数：4 被引量：5H指数：2
供职机构：上海材料研究所更多>>
相关领域：理学电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 4篇激光
  • 2篇淀积
  • 2篇形貌分析
  • 1篇碳60
  • 1篇气相淀积
  • 1篇准分子
  • 1篇准分子激光
  • 1篇硫化
  • 1篇硫化铅
  • 1篇脉冲激光
  • 1篇脉冲激光淀积
  • 1篇刻蚀
  • 1篇化学气相淀积
  • 1篇激光淀积
  • 1篇激光技术
  • 1篇激光刻蚀
  • 1篇光技术
  • 1篇光刻
  • 1篇分子
  • 1篇富勒烯

机构

  • 4篇中国科学院上...
  • 2篇上海材料研究...

作者

  • 4篇李缙
  • 3篇吴正亮
  • 2篇武四新
  • 2篇席明霞
  • 2篇郑隽
  • 2篇赵国珍
  • 1篇楼祺洪
  • 1篇宁东

传媒

  • 1篇量子电子学报
  • 1篇中国激光
  • 1篇光学学报
  • 1篇’94秋季中...

年份

  • 2篇1997
  • 1篇1995
  • 1篇1994
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
反应脉冲激光淀积硫化铅膜的SEM和XPS研究
1997年
以扫描电镜（SEM）和X射线光电子能谱（XPS）等多种测试手段研究分析了用反应脉冲激光淀积技术制备的PbS薄膜。分析结果表明，利用该淀积方法可以得到附着力好、符合化学计量比的硫化铅薄膜。在环境气压p＝1．33×103Pa，靶与基片间距d＝20mm，基片温度t＝100℃时淀积膜的质量较好。另外，本文对其淀积机制也作了较为详细的阐述。
席明霞武四新郑隽吴正亮李缙赵国珍曹基文
关键词：激光淀积
Ｃ<,60>薄膜的准分子激光刻蚀及形貌分析
谢燕燕李缙
关键词：碳激光技术
准分子激光化学反应淀积硫化物薄膜被引量：3
1997年
提出了一种新的激光光化学三元反应体系，用于制备硫化铅薄膜。应用吸收光谱、扫描电镜和Ｘ射线光电子能谱等测试手段研究了膜的性质和组成，指出了该方法淀积硫化物薄膜的可行性。
席明霞武四新郑隽郑隽李缙吴正亮曹基文
关键词：化学气相淀积
C_（60）薄膜的准分子激光刻蚀及形貌分析被引量：2
1995年
报道了准分子ＸｅＣｌ（３０８ｎｍ）紫外激光刻蚀Ｃ６０膜的实验研究及对刻蚀薄膜的形貌分析。基于形貌分析的结果提出其刻蚀机理。
谢燕燕吴正亮宁东楼祺洪李缙曹基文
关键词：富勒烯激光刻蚀碳60
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