方玲
- 作品数：24 被引量：72H指数：6
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- 相关领域：理学电气工程电子电信环境科学与工程更多>>
- Cu-In膜成分偏析对CIS膜结构的影响被引量：7
- 2004年
- 为了研究Cu-In薄膜中的局部偏聚现象及其对硒化后CuInSe2(CIS)薄膜中各元素分布和组织结构的影响,采用中频磁控溅射工艺,溅射Cu-In合金靶,制备了总体Cu/In原子数比接近1的Cu-In预制膜,并在硒气氛下硒化制备了CIS太阳能电池吸收层。采用扫描电子显微镜和能量弥散X射线分析技术对Cu-In预制膜及CIS薄膜的表面形貌、成分进行了观察和分析,采用X射线衍射和Raman散射谱表征了薄膜的组织结构。结果表明:Cu-In预制膜主要由Cu11In9相组成,但存在豆状的富In区;在总体Cu/In原子数比接近1时,硒化后可得到各元素分布均匀、具有化学计量比的CIS,且晶体结构为单一的黄铜矿相。CIS薄膜的导电类型为P型,电阻率达到1.2kΩ.cm。
- 方玲张弓庄大明赵明郑麒麟丁晓峰吴敏生
- 关键词：太阳能电池CIS
- 绒面氧化锌透明导电薄膜及其制备方法
- 绒面氧化锌透明导电薄膜及其制备方法涉及用于太阳电池的光电材料技术领域，特别涉及到用于太阳电池的透明导电薄膜设计技术领域。其特征在于，这种薄膜是一种绒面的氧化锌透明导电薄膜。制备该薄膜的方法是磁控溅射方法，其特征在于，溅射...
- 张弓庄大明付恩刚方玲王超赵方红
- 文献传递
- 一种锌镓氧化物陶瓷靶材及其制备方法和应用
- 一种锌镓氧化物陶瓷靶材及其制备方法和应用，属于光电材料技术领域。本发明用氧化锌粉末与氧化镓粉末相互混均匀；采用冷压方法成型；用常压、常气氛烧结成密实的块体，作为溅射靶材，并应用于锌镓氧化物透明导电薄膜的制备。该发明制作工...
- 庄大明张弓方玲侯亚奇杨波赵方红
- 文献传递
- 一种具有红外反射性能的汽车风挡玻璃及其制备方法
- 一种具有红外反射性能的汽车风挡玻璃及其制备方法涉及汽车风挡玻璃设计及制造技术领域，特别涉及具有节能隔热、防结雾功能的高档汽车风挡玻璃的设计及制造技术领域。其特征在于，在外层玻璃和PVB薄膜之间或在内层玻璃和PVB薄膜之间...
- 庄大明张弓赵方红方玲杨波
- 文献传递
- 中频反应磁控溅射TiO_2薄膜对敌敌畏的光催化降解性能被引量：2
- 2003年
- 作者利用中频反应磁控溅射技术制备了厚度低于 4 0 0nm的TiO2 薄膜 ,并对其在紫外线作用下对敌敌畏 (DDVP)的光催化降解性能进行了系统的研究。实验结果显示 :敌敌畏的降解速率与光照时间和紫外辐照强度成正比 ,在TiO2 薄膜催化下 ,12 5W紫外灯辐照 4h后降解率可达 97%。 30 0℃下退火处理有利于提高薄膜的催化能力。
- 赵明庄大明张弓方玲吴敏生刘家浚
- 关键词：TIO2薄膜敌敌畏光催化降解性能光催化剂二氧化钛
- Cu-In膜的相结构对CuInSe_2薄膜性能的影响被引量：12
- 2004年
- 为考察溅射功率对Cu-In薄膜中相结构以及相应的CuInSe2(简称CIS)薄膜性能的影响,采用中频交流磁控溅射方法沉积Cu-In薄膜,并采用固态硒化方法形成CIS薄膜。采用SEM和EDX观察和分析了它们的表面形貌和成分,采用XRD表征了薄膜的组织结构,并分析了硒化中的反应动力学过程。结果表明,在不同的溅射功率条件下,Cu-In预制膜以Cu11In9相或Cu11In9和CuIn的混合相存在。由Cu11In9和CuIn混合相薄膜形成的CIS薄膜具有单一的CuInSe2相黄铜矿相结构,且其成分接近CuInSe2化学计量比。而由Cu11In9相Cu-In预制膜形成的CIS薄膜中除了CuInSe2相以外,还出现了Cu2Se相,且其成分远离CuInSe2化学计量比。因此,具有Cu11In9和CuIn混合相结构的Cu-In薄膜更适合制备CIS太阳电池吸收层。
- 方玲张弓庄大明赵明郑麒麟丁晓峰吴敏生
- 关键词：太阳能电池磁控溅射
- 一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池及其制备方法
- 一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池及其制备方法,涉及半导体薄膜的制备和半导体薄膜器件的结构设计。本发明的特点是以n型硫化锌(ZnS)为窗口层,以铜铟镓硒P型半导体薄膜为吸收层,与ZnS形成ZnS/Cu(In,Ga)Se<Sub>...
- 庄大明张弓方玲杨波
- 文献传递
- 溅射和硒化工艺对CIS薄膜性能的影响
- 采用中频交流磁控溅射方法在镀Mo玻璃衬镀上沉积铜铟(CI)预测薄膜,然后在硒气氛下硒化形成CIS薄膜.对薄膜的成分、结构、形貌及电学性能进行了表征和检测.测试结果表明,CIS薄膜的Cu、In含量主要取决于CI薄膜的Cu、...
- 方玲庄大明张弓赵方红吴敏生杨伟方
- 关键词：CIS薄膜太阳能电池磁控溅射法
- 文献传递
- ITO薄膜组织结构与光电性能的关系研究
- 用磁控溅射技术在玻璃衬底上制备出ITO透明导电薄膜,对不同温度(150～350℃)条件下制备薄膜的组织结构、成分和光电特性进行了研究。从X射线光电子能谱(XPS)和X射线衍射谱(XRD)结果提出了新的观点:低温条件下制备...
- 方玲庄大明吴敏生赵大庆
- 关键词：X射线衍射方阻磁控溅射ITO薄膜
- 文献传递
- 反应溅射TiO_(2-x)N_x膜的可见光吸收性能被引量：13
- 2004年
- 用中频交流反应磁控溅射方法制备了N掺杂的TiO2薄膜.利用光电子能谱(XPS)对薄膜的成分进行了分析,并研究了薄膜的可见光吸收性能.结果表明:反应气体中N2的质量分数是影响薄膜中Ti-N键的主要因素;在N2气氛中380℃退火有利于提高N掺杂的含量;厚度的增加使薄膜的吸收性能在紫外到可见光区都有提高;含N量为1.5％的TiO2-xNx薄膜吸收限由TiO2薄膜的387 nm红移至441 nm.
- 赵明方玲张弓庄大明
- 关键词：无机非金属材料TIO2薄膜N掺杂
