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方志丹

作品数:9 被引量:9H指数:2
供职机构:北京工业大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:理学电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文
  • 1篇专利

领域

  • 5篇理学
  • 2篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 6篇量子
  • 5篇量子点
  • 4篇分子束
  • 4篇分子束外延
  • 4篇INAS
  • 4篇INAS/G...
  • 3篇INAS/G...
  • 2篇单光子
  • 2篇单光子源
  • 2篇低密度
  • 2篇原子力显微镜
  • 2篇砷化铟
  • 2篇砷化镓
  • 2篇自组织
  • 2篇光子
  • 2篇光子源
  • 2篇分子束外延生...
  • 2篇GAAS
  • 1篇导体
  • 1篇低维结构

机构

  • 8篇中国科学院
  • 3篇北京工业大学
  • 1篇山西大同大学

作者

  • 9篇方志丹
  • 8篇牛智川
  • 6篇龚政
  • 5篇倪海桥
  • 3篇苗振华
  • 3篇黄社松
  • 3篇吴东海
  • 3篇赵欢
  • 2篇彭红玲
  • 2篇韩勤
  • 2篇张石勇
  • 2篇吴荣汉
  • 1篇李树深
  • 1篇崔碧峰
  • 1篇邢艳辉
  • 1篇孙征
  • 1篇沈光地
  • 1篇孙彦
  • 1篇詹峰
  • 1篇夏建白

传媒

  • 1篇Journa...
  • 1篇物理
  • 1篇红外
  • 1篇红外与毫米波...
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇第十四届全国...

年份

  • 2篇2008
  • 4篇2006
  • 2篇2005
  • 1篇2004
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
单光子源低密度InAs量子点的制备
近年来,随着制备高质量自组织量子点技术的发展,半导体量子点在量子光学、量子通信、量子密码术和固态量子调控等领域的研究越来越引起人们的兴趣。本文利用分子束外延设备成功制备出了低密度长波长InAs量子点,并对其微区谱进行了测...
方志丹
关键词:INAS量子点分子束外延自组织单光子源
文献传递
In_(0.2)Ga_(0.8)As-GaAs复合应力缓冲层上的1.3μm InAs/GaAs自组织量子点
2005年
用光荧光谱和原子力显微镜测试技术系统研究了在2 nm In0.2Ga0.8As和xML GaAs的复合应力缓冲层上生长的InAs/GaAs自组织量子点的发光特性和表面形貌.采用In0.2Ga0.8As与薄层GaAs复合的应力缓冲层,由于减少了晶格失配度致使量子点密度从约1.7×109cm-2显著增加到约3.8×109cm-2.同时,复合层也有利于提高量子点中In的组份,使量子点的高宽比增加,促进量子点发光峰红移.对于x=10 ML的样品室温下基态发光峰达到1350 nm.
方志丹龚政苗振华牛智川沈光地
关键词:INAS/GAAS量子点光荧光原子力显微镜
新奇半导体低维结构的自组织生长被引量:6
2006年
文章介绍了自组织生长半导体量子线、量子点和量子环的进展,同时介绍了这些低维半导体材料在光电子和通信等领域应用情况.此外,对这些材料的一些测试方法也进行了介绍.
牛智川黄社松龚政方志丹倪海桥孙宝权李树深夏建白
关键词:自组织量子线量子环
单光子源低密度长波长InAs/GaAs量子点的制备
2008年
通过优化分子束外延生长条件,得到室温发光在1300nm低密度的自组织InAs/GaAs量子点。使用极低的InAs生长速率(0.001单层/秒)可以把量子点的密度降低到4×106cm-2。这些结果使得InAs/GaAs量子点可以作为单光子源应用在未来的光纤基量子密码、量子通信中。
方志丹崔碧峰黄社松倪海桥邢艳辉牛智川
关键词:单光子源低密度量子点
利用两步生长法制备均匀高密度InAs/GaAs量子点
本文利用分子束外延系统,应用两步生长方法制备出高密度且尺寸分布比较均匀的InAs/GaAs量子点(QDs).原子力显微镜图像表明制备出密度约6.0×1010cm-2且尺寸分布比较均匀的QDs.很强的光致荧光和窄的半高宽表...
黄社松詹峰赵欢吴东海方志丹倪海桥牛智川
关键词:分子束外延量子点INAS
文献传递
分子束外延生长的InAs/GaAs自组织量子点发光特性被引量:1
2005年
研究了分子束外延生长的覆盖了1nm的InxAl1 xAs(x=0. 2, 0. 3 )和3nm的In0. 2Ga0. 8As复合应力缓冲层InAs/GaAs自组织量子点(QD)光致发光(PL)特性。加InAlAs层后PL谱红移到1. 33μm,室温下基态和第一激发态间的跃迁能级差增加到86meV。高In组份的InAlAs有利于获得较长波长和较窄的半高宽(FWHM)。对于覆盖复合应力缓冲层的QD不会使波长和FWHM发生显著变化,但可以使基态和第一激发态间的能级差进一步增大。这些结果归因于InAlAs能够有效的抑制In的偏析,减少应力,使QD保持较高的高度。同时,由于InAlAs具有较高的限制势垒,可以增加基态和第一激发态间的能级差。
孙彦方志丹龚政苗振华牛智川
关键词:分子束INASGAAS发光特性量子点
1.3微米高密度量子点结构及其制备方法
一种1.3微米高密度量子点结构,其特征在于,包括:一砷化镓过渡层;一第一砷化镓势垒层,该第一砷化镓势垒层制作在砷化镓过渡层上;一砷化铟自组织量子点,该砷化铟自组织量子点制作在第一砷化镓势垒层上;一铟镓砷覆盖层,该铟镓砷覆...
牛智川方志丹倪海桥韩勤龚政张石勇佟存柱彭红玲吴东海赵欢吴荣汉
文献传递
1.3μm InGaAs/InAs/GaAs Self-Assembled Quantum Dot Laser Diode Grown by Molecular Beam Epitaxy被引量:2
2006年
The growth of multi-layer InGaAs/InAs/GaAs self-assembled quantum dots (QDs) by molecular beam epitaxy (MBE) is investigated,and a QD laser diode lasing at 1.33μm in continuous operation mode at room temperature is reported. The full width at half maximum of the band edge emitting peaks of the photoluminescence (PL) spectra at room temperature is less than 35meV for most of the multi-layer QD samples,revealing good,reproducible MBE growth conditions. Moreover,atomic force microscopy images show that the QD surface density can be controlled in the range from 1×10^10 to 7 ×10^10 cm^-2 . The best PL properties are obtained at a QD surface density of about 4×10^10cm^-2. Edge emitting lasers containing 3 and 5 stacked QD layers as the active layer lasing at room temperature in continuous wave operation mode are reported.
牛智川倪海桥方志丹龚政张石勇吴东海孙征赵欢彭红玲韩勤吴荣汉
关键词:INAS
GaAs(331)A衬底上分子束外延生长自组织InAs纳米结构形貌演化机制
2004年
采用分子束外延方法在GaAs(331)A高指数衬底上制备自对齐InAs量子线(QWR)或者三维(3D)岛状结构。InAs量子线(QWR)选择性生长在GaAs层的台阶边缘。通过原子力显微镜(AFM)仔细研究了InAs纳米微结构的表面形貌,发现不同的生长条件如衬底温度、生长速率和InAs层厚度等,对InAs表面形貌有很大的影响。低温更容易导致线状纳米微结构的形成,而高温更利于3D岛状结构形成。表面形貌的转变归结于表面能同应变能之间的竞争。
苗振华龚政方志丹倪海侨牛智川
关键词:分子束外延砷化镓砷化铟原子力显微镜
共1页<1>
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