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赖发春

作品数:68 被引量:151H指数:7
供职机构:福建师范大学更多>>
发文基金:福建省自然科学基金福建省教育厅资助项目国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术电子电信电气工程更多>>

文献类型

  • 44篇期刊文章
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  • 2篇学位论文
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  • 1篇科技成果

领域

  • 34篇理学
  • 6篇一般工业技术
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主题

  • 15篇溅射
  • 15篇光学
  • 14篇磁控
  • 14篇磁控溅射
  • 13篇光学性
  • 13篇光学性质
  • 11篇发光
  • 10篇纳米
  • 9篇发光特性
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  • 8篇磁控溅射制备
  • 5篇电路
  • 5篇电学
  • 5篇电学性质
  • 5篇退火
  • 5篇气相沉积
  • 5篇热蒸发
  • 5篇结构和光学性...
  • 5篇光电
  • 5篇ZNO纳米

机构

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  • 7篇中国科学技术...
  • 6篇宁德师范学院
  • 2篇华侨大学
  • 2篇三明学院
  • 2篇中国科学院福...
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  • 1篇福州第一中学

作者

  • 67篇赖发春
  • 32篇林丽梅
  • 19篇瞿燕
  • 18篇黄志高
  • 9篇刘金养
  • 6篇侯建国
  • 6篇王兵
  • 6篇王海千
  • 6篇卢威
  • 6篇林建平
  • 6篇王晓平
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传媒

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  • 3篇福建师大福清...
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  • 1篇仪器仪表学报
  • 1篇物理学报
  • 1篇Chines...
  • 1篇无机材料学报
  • 1篇医疗卫生装备
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  • 1篇集美大学学报...
  • 1篇河北科技师范...
  • 1篇大观周刊

年份

  • 1篇2021
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  • 7篇2010
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  • 4篇2006
  • 3篇2005
  • 4篇2004
  • 3篇2003
  • 1篇2002
  • 1篇2001
  • 1篇2000
68 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
用MCS-51单片机替代自动定标器的定时和计数电路被引量:1
2003年
分析 HW-32 0 4型自动定标器的电路工作原理及存在的故障 .利用 MCS-5 1单片机设计定时和计数电路代替 HW-32 0 4型定标器中原有的定时和计数电路 ,分析设计电路的硬件、软件的组成和工作原理 ,新设计的定时和计数电路具有测量准确及工作性能稳定等优点 .
赖发春瞿燕林发银林旺添
关键词:MCS-51单片机计数电路计数器定时器定时电路
氧分压对射频磁控溅射制备氧化锌薄膜光电学性质的影响被引量:6
2011年
利用射频磁控溅射在石英基片上沉积ZnO薄膜.为了研究氧分压对ZnO薄膜的结构和光电学性质的影响,在氧分压0.00,2.54,5.06,7.57 mPa的条件下制备了4个样品.样品的微结构、表面形貌和光电学性质分别用X射线衍射仪、原子力显微镜、分光光度计和Van der Pauw方法进行测量.结果表明,所有样品的主要衍射峰为(002)峰,随氧分压的增加,(002)峰的强度降低,且出现了(101)面的衍射峰.氧分压的升高,薄膜的表面粗糙度和载流子浓度减小,迁移率增大,电阻率从氧分压为0时的0.2Ωcm增加到7.57 mPa时的1 400Ωcm.所有样品在可见光区的平均透过率都大于83%,薄膜的折射率随氧分压的增加而增大,而消光系数和光学带隙则减小.
彭福川林丽梅郑卫峰盖荣权赖发春
关键词:氧化锌薄膜射频磁控溅射氧分压
ZnO纳米花的制备及其性能被引量:2
2015年
利用化学气相沉积法,在铜箔上成功制备出形似自然界中刺球花的ZnO纳米花结构.实验进一步研究了氧气和氩气流量比例分别为1:150,1:200,1:250和1:400时对ZnO纳米花结构和性能的影响.结果表明,ZnO纳米花上的ZnO纳米棒的长径比随氧气氛的减少而减小;在氧气和氩气流量比例为1:250时制备出的ZnO纳米花尺寸均匀、形貌均一、花型结构最完美.ZnO纳米花的室温光致发光谱表明,随着氧气氛的减少,可见区域的发光从一个波包变成一个宽峰,且与锌空位相关的缺陷发光峰在减弱,与氧空位相关的缺陷发光峰在增强.基于实验结果,提出了一种在铜箔上制备ZnO纳米花结构的生长模型.
吴晓萍刘金养林丽梅郑卫峰瞿燕赖发春
关键词:铜箔化学气相沉积法光致发光
一种六边形双环石墨烯纳米结构的制备方法
本发明公开了一种六边形双环石墨烯纳米结构的制备方法,通过化学气相沉积法,以甲烷、乙烯为碳源,氢气为还原性气体,惰性气体为载气,铜箔作为衬底,在高温下使碳源发生裂解,并在铜箔的催化作用下在铜箔的表面生长出石墨烯,并利用生长...
刘金养徐杨阳左传东林丽梅黄志高赖发春
文献传递
一种微米级定点定位纳米材料转移方法
本发明公开一种微米级定点定位纳米材料转移方法,属于低维纳米材料领域,利用显微镜高空间分辨率的优点,结合三维光学移动平台,应用有机聚合物作为待转移纳米材料的载体,在显微镜下精确地把待转移材料定点定位转移至目标,构建各种纳米...
刘金养杨顺航朱星星蔡宇珊王梦龙黄志高赖发春
低压高温退火对Ag掺杂ZnO薄膜性质的影响被引量:9
2011年
采用电子束蒸发在n-Si(100)衬底上沉积Ag掺ZnO(ZnO:Ag)薄膜,随后在200 Pa的O2气氛下分别在500、600、700和800℃退火4 h。用X射线衍射(XRD)仪、荧光光谱仪以及Van der Pauw方法测量ZnO:Ag薄膜的结构和光电学性质。结果表明,ZnO:Ag薄膜为多晶结构,且随着退火温度的升高,样品的结晶性能不断提高,晶粒尺寸从500℃的12.37 nm增加到800℃的32.36 nm;光致发光(PL)谱的紫外发射峰随着退火温度的增加向短波方向移动;薄膜的载流子浓度随退火温度升高而单调增加,电阻率则降低;迁移率的变化较为复杂,500℃退火的样品迁移率达到最大值58.80 cm2/Vs,800℃样品的最低为3.16 cm2/Vs。
彭福川吕佩伟林林林丽梅瞿燕赖发春
关键词:电子束蒸发退火
退火对TiO_2和Ta_2O_5光学薄膜的结构和光学性质的影响被引量:5
2006年
将反应磁控溅射制备的二氧化钛和五氧化二钽薄膜在温度400℃的条件下退火处理.利用X射线衍射、原子力显微镜和分光光度计等设备对退火后薄膜的结构、表面形貌和光学性质进行研究.实验表明:退火后的T iO2薄膜为多晶结构,薄膜的表面粗糙度、折射率和消光系数都出现增大现象.然而,对于退火后的T a2O5薄膜,它的结构还是非晶态,薄膜的表面粗糙度比退火前小;同时折射率和消光系数均有减小.这些结果说明薄膜退火后的特性与薄膜材料的内部结构及结晶转变温度等有密切相关.
赖发春瞿燕詹仁辉林丽梅盖荣权
关键词:二氧化钛光学薄膜
多孔阳极氧化钛反射光学性质的研究
2010年
利用直流磁控溅射沉积钛膜,以硫酸为电解液进行不同时间的阳极氧化,获得多孔阳极氧化钛(PATO)薄膜.用X射线衍射仪、扫描子显微镜、原子力显微镜分别表征PATO薄膜的结构和形貌特征,用分光光度计测量样品的反射光谱.结果表明,制得的氧化钛薄膜是多晶的Ti10O18;样品的表面有明显的孔洞结构,且粗糙度随着氧化时间的增加而增大.随着氧化时间从10min增加到40,60,90,120min,样品的颜色相应地由蓝色逐渐过渡到黄色、橙色、紫红色和淡紫色.氧化时间为120min的PATO薄膜的在可见光区的折射率低于2.0,孔隙率约为0.32;粗糙的表面及薄膜内部的孔洞增强了光的散射,导致其消光系数大于0.1.
卓红林丽梅吴小春瞿燕赖发春
关键词:阳极氧化反射率光学常数
基于数字PID控制的直流电机控制系统的设计被引量:20
2010年
利用16位微机为控制器,实现直流电机数字PID闭环速度控制.通过实验,给出PID参数的整定与系统动态特性的关系.
王毅王平苏伟达郭福源赖发春
关键词:直流电机数字PID控制计算机控制
铜膜厚度对铜膜结构和光电学性质的影响被引量:4
2010年
采用热蒸发方法在玻璃基片上沉积100 nm以内不同厚度的铜薄膜.利用X射线衍射仪、原子力显微镜和分光光度计分别检测薄膜的结构、表面形貌和光学性质,用Van der Pauw方法测量薄膜的电学性质.结果表明,可以将薄膜按厚度划分为区(0-11.5 nm)的岛状膜、区(11.5-32 nm)的网状膜和区(〉32.0 nm)的连续膜.薄膜的表面粗糙度随膜厚的增加,在、区时增加,区时减小.薄膜电阻在区时无法测量,在区随膜厚的增加急剧下降,而在区时随膜厚增加缓慢减小.薄膜的光学吸收与其表面粗糙度密切相关,其变化规律与表面粗糙度的变化相一致.
肖荣辉郑卫峰郑明志彭福川赖发春
关键词:铜薄膜膜厚光学性质电学性质
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