范永涛
- 作品数：39 被引量：15H指数：2
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程自动化与计算机技术更多>>
- 无掩模激光直写纳米光刻机
- 自21世纪以来，由半导体微电子技术引发的微型化革命进入了一个新的时代，这就是“纳米技术”时代。微纳米技术依赖于微纳米尺度的功能结构与器件，实现功能结构微纳米化的基础是先进的微纳米加工技术。激光直写光刻技术作为一种先进的微...
- 范永涛
- 关键词：激光直写无掩模光刻微纳加工自动聚焦
- 高速多光束并行激光直写装置
- 一种适用于微纳加工的高速多光束并行激光直写装置，由刻写光源调制模块、刻写光头、离焦检测模块、照明与监控模块、样品位移台和主控模块组成，本实用新型提供多光束激光并行高速刻写，大大提高了刻写速度。可根据实际应用需要，将多光束...
- 徐文东范永涛
- 文献传递
- 大型环抛机抛光胶盘平面度的测量装置及其测量方法
- 一种大型环抛机抛光胶盘平面度的测量装置，包括激光器底座、激光器、直线导轨、滑块、位置传感器和位置传感器底座。测量时，激光器和直线导轨一起放置在待测工件之上，二者不发生接触。滑块仅与直线导轨垂直面接触，位置传感器随滑块沿直...
- 徐学科范永涛邵建达王哲顿爱欢杨明红
- 文献传递
- 可控的制备光纤探针的装置和方法
- 一种可控的制备光纤探针的装置和方法，该装置由光纤探针位置控制装置、可编程控制电路板和电机控制程序构成：所说的电机控制程序是指烧写在可编程微处理器芯片内存中的根据制作光纤探针的工艺过程编制的控制驱动旋转电机和直流电机的转速...
- 罗继全徐文东范永涛杨金涛
- 文献传递
- 模块化的激光直刻装置
- 一种模块化的激光直刻装置，整套装置采用模块化设计，由激光调制模块、光点扫描模块、激光功率检测模块、自动聚焦模块、控制和检测模块构成。系统将激光器发出的平行激光会聚成光点聚焦在待刻写的样品表面，利用计算机控制射向样品表面的...
- 范永涛徐文东
- 文献传递
- 基于二元光学元件的艾里光束光片照明显微成像装置
- 一种基于二元光学元件的艾里光束光片照明显微成像装置，包括激光器，沿激光器的激光输出方向依次是扩束准直镜组、二元光学元件、柱面镜和待测样品，在待测样品的正上方是显微镜，该显微镜的输出端接计算机的输入端，本发明采用艾里光束光...
- 孙彦华范永涛
- 文献传递
- 近红外光谱分析中温度影响的修正被引量：7
- 2020年
- 样品温度变化会对模型预测结果产生影响,为解决这个问题,首先,对同一样品不同温度下的光谱与同一样品相同温度的光谱进行了比较。结果显示,不同温度下的光谱差异较大。然后研究了样品温度对玉米粗蛋白模型的预测结果的影响,对随机选取的粗蛋白含量为6.04%的样品不同温度采集光谱,对这些光谱进行预处理消除温度之外的因素对光谱的影响,将预处理后的光谱代入已建立好的模型中进行预测,结果显示,预测结果与实测值之间的差别随着光谱温度与建模温度相之间差别的增大而增大,最大的误差为1.12%。为了解决温度对模型预测结果的影响,进而分析了温度与不同温度下的光谱数据之间的关系,发现在去除了光谱两端噪声较严重的区域后,不同温度下,同一波长点处的光谱数据之间存在一定的线性关系。依据这一发现,文中提出了温度修正理论,以建模时的光谱为基准光谱,然后根据温度与光谱之间的线性关系使用线性回归算法对不同波长点的光谱进行一元线性回归,求出不同温度下的光谱与基准光谱之间的差,最后将不同温度下的光谱校正为基准光谱,通过该理论对光谱进行校正之后,不同温度下的同一样品的光谱之间的差别和修正之前相比已经有了很大改善,将修正后的光谱代入模型,大部分预测结果得到了提高,符合国家标准±0.5%以下的要求。最后使用和建模无关的34个不同含量的样品对该温度修正理论进行验证,光谱修正前后粗蛋白的模型预测值与标准理化值决定系数分别为0.910和0.982,均方根误差分别为0.558和0.172,平均相对误差分别为6.05%和1.75%。该温度修正理论从近红外光谱分析的本质上进行了温度修正,为其他样品的温度修正提供了参考,有利于手持式近红外光谱仪使用的推广。
- 孙彦华范永涛
- 关键词：近红外光谱法
- 高速多光束并行激光直写装置
- 一种适用于微纳加工的高速多光束并行激光直写装置，由刻写光源调制模块、刻写光头、离焦检测模块、照明与监控模块、样品位移台和主控模块组成，本发明提供多光束激光并行高速刻写，大大提高了刻写速度。可根据实际应用需要，将多光束的刻...
- 徐文东范永涛
- 文献传递
- 大型环抛机蜡盘平面度的测量被引量：8
- 2016年
- 针对大口径平面光学元件全频谱面形技术指标的高效率、高精度收敛,研究了环形抛光技术。考虑环抛机沥青蜡盘的平面度直接影响工件面形的收敛效率,本文利用准直激光束作为参考,设计研制了测量精度高,重复性精度达到±1μm的大型环抛机抛光蜡盘平面度测量专用装置。分析了环抛过程中蜡盘表面平面度和工件面型PV值之间的变化规律和相关性,根据测量数据得出了蜡盘平面度数据和工件面形的对应关系。实验显示:当平面度和面形曲线相差较大时,工件面形可快速收敛至1λ左右,并由粗抛向精抛工序快速过渡。提出的大型环抛机抛光蜡盘平面度监测装置实现了对湿滑胶体平面的高精度、快速测量,为环抛的确定性抛光工艺提供了重要的技术支持。
- 王哲徐学科邵建达顿爱欢杨明红范永涛方媛媛高文兰刘方
- 关键词：平面度测量
- 光栅高速直写装置
- 一种光栅高速直写装置，其构成包括刻写光源、光束偏转器、fθ透镜组、离焦检测模块、光谱分光镜、调焦位移器、物镜、待刻样品、二维样品台和总控制器，本发明具有刻写速度快、面积大、可控性好的特点，能直接刻写出变占空比、变强度分布...
- 范永涛徐文东郝春宁
- 文献传递
