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罗炳威

作品数:1 被引量:1H指数:1
供职机构:北京航空航天大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇英文
  • 1篇输运
  • 1篇热电薄膜
  • 1篇热电性能
  • 1篇溅射
  • 1篇半导体
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇北京航空航天...

作者

  • 1篇王瑶
  • 1篇曹丽莉
  • 1篇邓元
  • 1篇林桢
  • 1篇史永明
  • 1篇罗炳威
  • 1篇祝薇

传媒

  • 1篇无机材料学报

年份

  • 1篇2014
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
铜对双靶共溅制备热电薄膜输运性能的影响(英文)被引量:1
2014年
采用双靶共溅法制备了铜掺杂的碲化铋锑热电薄膜,铜与碲化铋锑共溅的方法有利于形成沿c轴方向择优生长的碲化铋锑薄膜。结果表明,铜原子均匀的掺杂在碲化铋锑薄膜材料中。由于铜原子有利于提高载流子迁移率,薄膜材料的电导率随着铜掺杂比例的提高得到了极大的提升。当铜靶的溅射功率为20 W时,可以得到最高的电导率,同时功率因子的最佳值可提升到20μW/(cm·K2)。
曹丽莉王瑶邓元罗炳威祝薇史永明林桢
关键词:半导体热电性能磁控溅射
共1页<1>
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