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陆卫昌

作品数：6 被引量：3H指数：1
供职机构：同济大学更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：理学电子电信医药卫生一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 2篇科技成果

领域

  • 2篇理学
  • 1篇电子电信
  • 1篇医药卫生
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇损伤阈值
  • 2篇平面显示器
  • 2篇显示器
  • 2篇激光
  • 2篇激光损伤
  • 2篇激光损伤阈值
  • 2篇光存储
  • 2篇光敏
  • 2篇光谱仪
  • 2篇光栅
  • 2篇光栅图形
  • 2篇成像光谱
  • 2篇成像光谱仪
  • 1篇低浓度
  • 1篇气凝胶
  • 1篇热力学
  • 1篇热蒸发
  • 1篇污染
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米复合材料

机构

  • 6篇同济大学

作者

  • 6篇周斌
  • 6篇陆卫昌
  • 4篇徐纪平
  • 3篇徐翔
  • 3篇刘春泽
  • 3篇徐超
  • 3篇张志华
  • 2篇徐平
  • 2篇王珏
  • 2篇吴广明
  • 1篇张勤远
  • 1篇徐律明
  • 1篇徐荣昆
  • 1篇方侃
  • 1篇邓忠生
  • 1篇张妍
  • 1篇李振海
  • 1篇杨建坤
  • 1篇胡中华
  • 1篇陈玲燕

传媒

  • 1篇同济大学学报...
  • 1篇强激光与粒子...

年份

  • 1篇2009
  • 2篇2007
  • 1篇2004
  • 2篇2000
共 6 条 记 录，以下是 1-6
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排序方式：
纳米复合保温材料
周斌吴广明倪星元陆卫昌徐律明徐纪平徐荣昆郭艳芝程银兵孙骐黄耀东
该项目以廉价的多聚硅（E-40）作为硅源，以乙醇为溶剂，以HF为催化剂采用溶胶-凝胶法快速制备了SiO_2气凝胶。具有工艺简单、成本低、可调范围大、重复性好的优点。以三甲基氯硅烷（TMCS）和六甲基二硅醚（简称DMMOS...
关键词：
关键词：气凝胶保温隔热热力学
空气环境低浓度化学物质污染降解纳米复合材料
李振海任杰周斌张旭潘可风陆卫昌徐文华苏剑生顾书英徐纪平胡中华任天斌甘礼华王秦峰李铁生方侃方佑龄杨建坤周新宇叶青诸静张志华王宗生徐翔张妍徐超刘春泽
1.空气环境低浓度化学物质污染降解纳米复合材料及应用研究方面该项目为具有广阔应用前景的应用基础研究，基于该研究成果开发的空气净化器，功能材料简单再生，具有高效、经济、寿命持久等特点，容易为普通居住者所接受，走进千家万户。...
关键词：
关键词：低浓度化学物质污染降解空气环境纳米复合材料
用于X光成像系统像传递函数的Al静态成像靶被引量：1
2000年
介绍用热蒸发结合光刻技术以及离子束刻蚀或热磷酸腐蚀的方法 ,制备用于测量X光成像系统像传递函数的Al静态成像靶的工艺 .对两种腐蚀工艺进行了比较 ,确定离子束刻蚀是获得所需图形的理想方法 .经扫描电镜 (SEM)和台阶仪测量 ,Al静态成像靶的参数满足实验要求 .
徐平陆卫昌周斌王珏
关键词：热蒸发光刻技术
一种制备光敏凝胶薄膜以实现光栅图形转移的方法
本发明属溶胶—凝胶法制备ZrO<Sub>2</Sub>光敏凝胶薄膜及光栅图形的转移方法。采用溶胶—凝胶法，以锆酸丁酯为前驱体、无水乙醇或丙酮为有机溶剂，并加入苯甲酰丙酮，与Zr形成光敏鳌合物溶胶。再以石英、单晶硅或K9玻...
周斌徐翔徐纪平陆卫昌刘春泽徐超张志华
文献传递
驱动光束不均匀性研究中的硅平面薄膜被引量：2
2000年
介绍以氧化、扩散、光刻等现代半导体技术结合化学腐蚀工艺实现对 Si片的定向自截止腐蚀 ,制备获得用于研究驱动光束不均匀性的自支撑 Si平面薄膜的工艺。通过台阶仪测量厚度在 3～ 4 μm的 Si平面薄膜 ,在扫描范围为 1 0 0 0 μm时 ,它的表面粗糙度为几十纳米 ;SEM测量表明 ,Si薄膜表面颗粒度在纳米量级 ;探讨了采用控制扩散、腐蚀参数和表面修饰处理来降低 Si膜表面粗糙度的方法。
周斌韩明陆卫昌徐平赖珍荃沈军邓忠生吴广明张勤远陈玲燕王珏
一种制备光敏凝胶薄膜以实现光栅图形转移的方法
本发明属溶胶—凝胶法制备ZrO<Sub>2</Sub>光敏凝胶薄膜及光栅图形的转移方法。采用溶胶—凝胶法，以锆酸丁酯为前驱体、无水乙醇或丙酮为有机溶剂，并加入苯甲酰丙酮，与Zr形成光敏鳌合物溶胶。再以石英、单晶硅或K9玻...
周斌徐翔徐纪平陆卫昌刘春泽徐超张志华
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