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机构

  • 8篇中国科学院

作者

  • 8篇武丰煜
  • 4篇张福安
  • 3篇唐文剑
  • 1篇陈建平
  • 1篇顾文琪
  • 1篇安秉谦
  • 1篇彭开武

传媒

  • 5篇电工电能新技...
  • 1篇微细加工技术
  • 1篇第十一届全国...

年份

  • 1篇2001
  • 2篇1996
  • 2篇1995
  • 1篇1994
  • 1篇1989
  • 1篇1986
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
DY-5型亚微米电子束曝光机
1996年
本文介绍了DY-5型亚微米电子束曝光机的主要技术性能:最细特征线宽0.4μm;图形位置精度及拼接精度优于±0.15μm;扫描场尺寸1×1mm2和2×2mm2;最高扫描速度1MHz;可加工100×100mm2掩模版或Φ75硅圆片。给出了部分曝光试验结果。
武丰煜顾文琪
关键词:电子束曝光机光刻曝光机半导体器件
电子束曝光机用背散射电子检测装置的研制及应用
1989年
在电子束曝光系统中,背散射电子检测器是重要部件之一。本文简要地介绍了该装置的工作原理、功能及检测系统概况,并给出了多种应用举例。
武丰煜张福安
关键词:电子束曝光机
DY-5型亚微米电子束曝光机电子光学柱的一些问题被引量:1
1995年
本文概要地比较了扫描电镜和电子束曝光机二者电子光学柱的异同。介绍了把一台AMRAY系列电镜的电子光柱改造成DY-5型电子束曝光机电子光学柱所做的工作。最后给出了一组试验结果。
武丰煜唐文剑张福安安秉谦
关键词:电子束曝光
DY-5型亚微米电子束曝光机偏转系统
1996年
本文将重点介绍DY-5型电子束曝光机的偏转系统的构成、特点及结果。
唐文剑武丰煜唐辉陈建平
关键词:偏转系统亚微米
微机在扫描电子束曝光机中的应用
张福安武丰煜
关键词:计算机控制微型计算机电子束加工程序系统电子束曝光机
电子束曝光系统中的校正技术
1995年
电子束曝光系统中采用了多项校正技术,才得以便之渐臻完善,成为微细加工领域中一种非常重要的工艺装备。本文概要地介绍了这些校正技术的原理、适用范围以及校正方法的要点。
武丰煜
关键词:电子束曝光系统半导体器件
DY-5型亚微米电子束曝光机多座标系重合的调校技术
1994年
在电子束曝光机中,工件传动台、电磁偏转场及标记三者相对应的座标轴是否重合,是影响图形拼接精度的重要因素之一。本文概要地介绍了调校三座标系相互重合的方法,并给出了DY-5型亚微米电子束曝光机调校结果。
武丰煜唐文剑张福安
关键词:电子束曝光机
缩小投影电子束曝光原理论证机工件台
简要介绍在将一台透射电镜改建为缩小投影电子束曝光原理论证机时的工件台方案选择.
彭开武武丰煜
关键词:缩小投影电子束曝光工件台掩模
文献传递
共1页<1>
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