杨朝初
- 作品数：29 被引量：64H指数：5
- 供职机构：南京理工大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中国博士后科学基金国家教育部博士点基金更多>>
- 相关领域：动力工程及工程热物理理学机械工程文化科学更多>>
- 电子芯片冷却用微管道散热器的换热性能分析被引量：12
- 2003年
- 在对电子芯片内部冷却用的微管道散热器进行传热性能分析时 ,现有分析方法大都仅能在假设微管道下壁上的热载荷处于均匀分布时适用 .当微管道下壁上的热载荷处于任意分布情况时 ,利用文中设计的有限元分析法可对微管道散热器的传热性能进行分析 .在微管道下壁上的热载荷处于不同的分布情况下 ,利用伽辽金有限元公式计算了微管道散热器中的微管道表面温度分布、流体温度分布及散热器总热阻等 ;通过与现有的分析方法所得结果进行对比 :在对热载荷均匀分布状态下的微管道散热器进行传热性能分析时 ,有限元方法完全可作为CFD(CalculatedFluidDynamics)法的一种替代 ,且使用有限元方法对微管道散热器进行传热分析时的运算更为快捷 .当微管道下壁上的热载荷处于任意非均匀分布状态时 ,利用文中设计的有限元分析法仍可有效地对微管道散热器的传热性能进行分析 ;
- 董涛侯丽雅朱丽章维一杨朝初
- 关键词：微系统散热器有限元
- 一种单电容相关双采样非制冷红外读出电路
- 本发明公开了一种单电容相关双采样非制冷红外读出电路，包括M×N像素探测单元阵列、CTIA型积分电路、单电容相关双采样电路、行列逻辑控制信号产生模块和输出缓冲电路：M×N像素探测单元阵列对采集到的信号进行光电转换，并输入至...
- 苏岩董涛何勇周同杨朝初王开鹰
- 文献传递
- 应用硅锗薄膜的非制冷红外焦平面阵列像元制造方法
- 本发明公开了一种应用硅锗薄膜的非制冷红外焦平面阵列像元制造方法，包括将硅锗薄膜由SOI晶圆转移至CMOS晶圆，对薄膜刻蚀形成沟道，用lift-off法形成金属顶电极，对薄膜刻蚀形成敏感区块，PECVD法沉积氮化硅支撑薄膜...
- 何勇苏岩方中董涛王开鹰杨朝初
- 文献传递
- 应用于非制冷红外焦平面的硅锗薄膜平行转移方法
- 本发明公开了一种应用于非制冷红外焦平面的硅锗薄膜平行转移方法，包括清洗晶圆，对晶圆进行涂胶和前烘，用夹具固定晶圆形成晶圆对，对晶圆对进行热压键合，去除SI支撑层和BOX层等步骤，本发明无需考虑敏感材料沉积条件与CMOS晶...
- 王开鹰董涛方中何勇杨朝初苏岩
- 文献传递
- 仿蜂巢结构分形微管道网络换热器
- 本实用新型涉及一种仿蜂巢结构分形微管道网络换热器。包括硅衬底，盖板，绝热玻璃盖板上设工质入口、工质出口、温度传感器接口，压力传感器接口，其特征在于：硅衬底上设有仿生分形微管道网络，微管道网络两端分别设有工质入口蓄液槽、出...
- 董涛杨朝初陈运生陈强杨国来翟立奎
- 文献传递
- 非制冷红外探测阵列用自掺杂硅锗/硅多量子阱热敏材料
- 本发明公开了一种非制冷红外探测阵列用自掺杂硅锗/硅多量子阱结构并具有较高温度电阻系数的热敏材料。材料包括底部接触层、底部隔离层、硅锗/硅多量子阱结构、顶部隔离层和顶部接触层。当隔离层厚度为35~100？nm，硼粒子由接触...
- 董涛王开鹰姜波何勇杨朝初苏岩
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- 微/小通道内非牛顿流体多相流动与传热研究展望被引量：2
- 2007年
- 概述了微/小尺度非牛顿流体多相流动与传热现象。在评述国内外已有文献的基础上,从实验研究与数值模拟二方面介绍了非牛顿流体管内多相流动与传热研究的现状、存在的问题。总结了微小通道内非牛顿流体多相流动与传热研究领域中若干值得探索的研究切入点,提出了若干值得探索的研究内容。讨论了非圆截面微通道试验器件的设计与加工、流动可视化与流型采集、流动参数测量、数值模拟等关键技术解决思路,给出了微/小通道内非牛顿流体的绝热气液二相流动可视化实验、流动沸腾传热及可视化实验设计方案,可为深入探索微/小尺度非牛顿流体管内多相流动与传热特性提供参考和借鉴。
- 杨朝初毕勤成林宗虎
- 关键词：非牛顿流体传热
- 一种单电容相关双采样非制冷红外读出电路
- 本发明公开了一种单电容相关双采样非制冷红外读出电路，包括M×N像素探测单元阵列、CTIA型积分电路、单电容相关双采样电路、行列逻辑控制信号产生模块和输出缓冲电路：M×N像素探测单元阵列对采集到的信号进行光电转换，并输入至...
- 苏岩董涛何勇周同杨朝初王开鹰
- 文献传递
- 三维复杂微系统的微立体光刻成型工艺被引量：2
- 2004年
- 介绍了一种具有更高加工分辨率且可直接成型 3维复杂微系统的一次曝光型微立体光刻成型样机 Micro SL er,及其配套专用光敏树脂 Micro SL5 2 2 0。重点给出了 Micro SL er中经薄膜晶体管阵列编址的液晶显示光阀表盘 ,也即可控透光模板的构造、性能及其对 Micro SL er层面加工分辨率和截面曝光尺寸的影响。对比了 Micro SL er的国产配套光敏树脂 Mi-cro SL5 2 2 0与国外同类产品 DSM7110型光敏树脂的各项技术指标。为证明一次曝光型微立体光刻工艺在成型 3维复杂微结构时的优越性 ,给出了经 Micro SL er成型出的微机械部件、微型件浇铸模、微流体系统部件等实物的扫描电子显微照片及相关的加工参数。探讨了现阶段的传统立体光刻工艺、小光斑立体光刻工艺及微立体光刻工艺在加工分辨率方面的差异 ,分别指出了影响这
- 董涛杨朝初Paul Bernhard侯丽雅
- 关键词：立体光刻微机械光敏树脂
- 应用硅锗薄膜的非制冷红外焦平面阵列像元制造方法
- 本发明公开了一种应用硅锗薄膜的非制冷红外焦平面阵列像元制造方法，包括将硅锗薄膜由SOI晶圆转移至CMOS晶圆，对薄膜刻蚀形成沟道，用lift-off法形成金属顶电极，对薄膜刻蚀形成敏感区块，PECVD法沉积氮化硅支撑薄膜...
- 何勇苏岩方中董涛王开鹰杨朝初
- 文献传递
