陈仙
- 作品数：19 被引量：28H指数：2
- 供职机构：西安交通大学电子与信息工程学院电子物理与器件教育部重点实验室更多>>
- 发文基金：陕西省“13115”科技创新工程重大科技专项中央高校基本科研业务费专项资金中国人民解放军总装备部预研基金更多>>
- 相关领域：理学金属学及工艺一般工业技术电子电信更多>>
- 一种医用不锈钢刀锯表面制备非晶碳涂层的方法
- 本发明公开一种医用不锈钢刀锯表面形成非晶四面体碳薄膜的方法，经过预处理、离子清洗、电弧放电和碳离子沉积完成，采用该方法制备的非晶四面体碳薄膜，结合强度高，生物特性优异，具有良好的耐腐蚀性，盐雾试验48小时，无任何腐蚀斑点...
- 赵玉清韩亮杨立陈仙王晓艳朱克志
- 文献传递
- 氮离子轰击能量对ta-C:N薄膜结构的影响被引量：1
- 2012年
- 利用磁过滤真空阴极电弧技术制备了sp^3键含量不小于80%的四面体非晶碳薄膜(ta-C),然后通过氮离子束改性技术制备了氮掺杂的四面体非晶碳(ta-C:N)薄膜.利用Raman光谱和X射线光电子能谱对薄膜结构的分析,研究了氮离子轰击能量对ta-C:N薄膜结构的影响.氮离子对ta-C薄膜的轰击,形成了氮掺杂的ta-C:N薄膜.氮离子轰击诱导了薄膜中sp^3键向sp^2键转化,以及CN键的形成.在ta-C:N薄膜中,氮掺杂的深度和浓度随着氮离子能量的增大而增大.ta-C:N薄膜中sp^2键的含量和sp^2键团簇的尺寸随着氮离子轰击能量的增大而增加;在ta-C:N薄膜中,CN键主要由C—N键和C=N键构成,C—N键的含量随着氮离子轰击能量的增大而减小,但是C=N键含量随着氮离子轰击能量的增大而增大.在ta-C:N薄膜中不含有C≡N键结构.
- 韩亮邵鸿翔何亮陈仙赵玉清
- 关键词：RAMAN光谱X射线光电子能谱
- 氮化物硬质涂层中Cr、Ti和Al元素对摩擦磨损特性的影响被引量：16
- 2012年
- 利用四靶闭合场非平衡磁控溅射(CFUBMS)技术在石英玻璃和抛光不锈钢片两种基底上制备含有Cr、Ti和Al元素组合的各种氮化物涂层。采用摩擦磨损仪测试涂层摩擦系数,应用金相显微镜对各个涂层磨痕形态进行分析,结果表明TiN、CrN、TiAlN、CrAlN以及CrTiAlN涂层的摩擦系数依次减小,耐磨特性依次提高;结合涂层的X射线光电子能谱分析,可以得到含有Al元素涂层中形成了AlN的结构,提高涂层的硬度,增加耐磨特性;在涂层中含有Cr元素形成了氧化物Cr2O3可以提高涂层自排屑能力,减小摩擦系数,增加耐磨特性,含Ti元素形成的氧化物TiO2则不利于涂层的摩擦磨损特性;由于CrTiAlN本身具有比三元氮化物更高的涂层硬度,且含有Al和Cr元素,因此该涂层具有最好的摩擦磨损性能。
- 韩亮杨立陈仙张颖赵玉清
- 关键词：非平衡磁控溅射摩擦磨损特性
- 离子束轰击改性对基底表面织构形成规律的影响研究被引量：2
- 2015年
- 利用氩离子束对硅基底表面进行轰击,形成了不同规则的纳米织构,对不同织构的变化规律进行系统的研究,采用原子力显微镜分析表面形貌。结果表明,随着氩离子垂直轰击基底表面的时间从0增加到15 min,表面粗糙度由0.205增大到0.490 nm,且当垂直轰击基底15 min时,表面呈现出纳米点阵织构;当氩离子与基底呈一定夹角轰击时,基底表面呈现波纹纳米织构,且随着轰击角度的增加,表面逐渐变得粗糙。当离子束轰击时间继续增加时,基底表面织构基本维持不变。研究结果为进一步探索离子束表面改性技术对不同基底表面形貌产生的影响、提高沉积薄膜附着力、以及离子束刻蚀等工作提供了理论参考。
- 安书董王晓燕陈仙王炎武赵玉清
- 关键词：表面形貌表面粗糙度
- 纳米级ta-C薄膜对二次电子发射抑制的研究被引量：1
- 2013年
- 二次电子倍增引起的微放电效应已经成为制约空间通信技术发展的重要因素。提出采用纳米级四面体非晶碳(ta-C)薄膜抑制二次电子发射的新方法,研究了在镀银铝基材料上制备ta-C薄膜的工艺,以及薄膜中sp2键的含量以及薄膜的厚度对二次电子发射系数的影响。研究结果表明,涂层后的二次电子发射系数减小了35%;且当薄膜厚度超过5 nm,二次电子发射系数显著降低,当厚度大于10 nm,二次电子发射系数会增加,分析主要原因是薄膜厚度在5-10 nm时,sp2键的含量较大,呈现出石墨的弱二次电子发射特性,研究结果表明,ta-C薄膜可以较好地起到抑制二次电子作用。
- 张娜陈仙康永锋
- 一种钛金属加工用丝锥表面制备非晶碳涂层的方法
- 本发明公开了一种钛金属加工用丝锥表面制备非晶碳涂层的方法，包括基体预处理、离子清洗、电弧放电和碳离子沉积；该方法制备的非晶碳薄膜中SP3键结构含量≥80%，摩擦系数约为0.1；与没有镀ta-C膜的样品相比，使用寿命可以提...
- 赵玉清王晓艳陈仙杨鑫朱克志王炎武
- 文献传递
- 硬质合金、高速钢材料表面制备非晶碳复合涂层的方法
- 本发明的目的在于提供一种用于硬质合金、高速钢材料表面制备非晶四面体碳复合涂层的新方法，包括基体预处理、离子清洗、镀制CrTiAlN中间涂层、电弧放电和碳离子沉积；该方法制备的非晶四面体碳薄膜复合涂层，结合强度高，硬度高，...
- 赵玉清韩亮杨立陈仙王晓艳朱克志
- 一种制备非晶碳涂层方法制备的非晶碳涂层的应用
- 本发明公开了一种镀银铝材料表面制备非晶碳涂层的方法，包括基体预处理、离子清洗、电弧放电和碳离子沉积；该方法制备的非晶碳薄膜中SP2键结构含量≥50％，表面二次电子发射系数≤1.39；与没有镀ta-C膜的样品相比，表面二次...
- 赵玉清张娜康永锋陈仙
- 文献传递
- ta-C薄膜物理特性调控的研究
- 陈仙
- 关键词：微放电效应
- 氮化铬过渡层对四面体非晶碳薄膜在高速钢基底上附着特性影响的研究被引量：1
- 2013年
- 利用磁过滤阴极电弧与磁控溅射相结合的薄膜沉积技术在高速钢基底上制备了氮化铬/四面体非晶碳(CrN/ta-C)复合涂层,通过改变过渡层氮化铬(CrN)的制备工艺,研究了四面体非晶碳(ta-C)薄膜在钢基底材料上的附着特性的变化.结果表明,随着氮气流量的增大,CrN/ta-C复合涂层中的氮化铬经过了Cr-Cr2N-CrN的相变过程.同时涂层的附着力也随着氮气流量的增大而增加,但是当氮气流量超过30sccm时,涂层附着力会有所下降;通过改变基片偏压,复合涂层中氮化铬的择优取向与晶粒结构发生改变,随着偏压的增大,涂层附着力也会大大改善,但是当偏压超过200V,涂层附着特性会略微降低.通过涂层耐磨性的测试也表明,在高速钢基底上,CrN涂层能显著提高ta-C薄膜在高速钢基底上的附着力,同时显著提高耐磨特性.
- 韩亮刘德连陈仙赵玉清
- 关键词：附着力X射线衍射拉曼光谱
