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郭照沛

作品数:5 被引量:8H指数:2
供职机构:大连理工大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:化学工程理学自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇化学工程
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇理学

主题

  • 5篇光刻
  • 5篇光刻胶
  • 3篇动力学
  • 3篇动力学模拟
  • 3篇分子
  • 3篇分子动力学
  • 3篇分子动力学模...
  • 3篇SU-8光刻...
  • 2篇内应力
  • 2篇换能器
  • 2篇胶层
  • 2篇工作台
  • 2篇SU-8胶
  • 2篇超声波换能器
  • 2篇尺寸
  • 2篇尺寸精度
  • 1篇结合能
  • 1篇交联
  • 1篇交联反应
  • 1篇分子模拟

机构

  • 4篇大连理工大学
  • 1篇教育部

作者

  • 5篇郭照沛
  • 4篇杜立群
  • 2篇喻立川
  • 2篇王煜
  • 2篇张晓蕾

传媒

  • 1篇高分子学报
  • 1篇高分子材料科...

年份

  • 1篇2011
  • 2篇2010
  • 1篇2009
  • 1篇2008
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
SU-8胶界面结合性及超声时效的分子模拟研究
随着微机电系统/(MEMS/)的迅速发展,SU-8光刻胶作为制作高深宽比结构的首选胶,已经被广泛地应用于MEMS研究领域。然而SU-8胶在工艺过程中会产生很大的内应力,导致在后续的工艺过程中出现胶体开裂,甚至从基底上脱落...
郭照沛
关键词:SU-8光刻胶分子动力学模拟
文献传递
SU-8光刻胶与Ni基底结合性的分子模拟被引量:5
2010年
运用分子动力学模拟软件Materials Studio针对SU-8胶与Ni基底的结合性进行模拟分析,计算了不同前烘温度下SU-8胶与Ni(100)面的结合能,发现在343K的前烘温度下,光刻胶与基底的界面结合能达到最大,说明此时界面结合最好。通过对SU-8胶与Ni基底的相互作用能分析,发现影响结合能的主要因素是两种分子之间的范德华力,其中色散力起主要作用,其值是排斥力的近两倍。
杜立群郭照沛张晓蕾
关键词:SU-8光刻胶结合能分子动力学模拟
聚合物光刻胶超声时效的装置和方法
聚合物光刻胶超声时效的装置和方法,属于超声波应用领域。其特征是聚合物光刻胶超声时效的装置,包括超声波发生器、超声波换能器、工作台和外壳,其特征在于工作台与超声波换能器相接,外壳支撑工作台和换能器悬空。聚合物光刻胶超声时效...
杜立群喻立川王煜郭照沛
文献传递
聚合物光刻胶超声时效的装置和方法
聚合物光刻胶超声时效的装置和方法,属于超声波应用领域。其特征是聚合物光刻胶超声时效的装置,包括超声波发生器、超声波换能器、工作台和外壳,其特征在于工作台与超声波换能器相接,外壳支撑工作台和换能器悬空。聚合物光刻胶超声时效...
杜立群喻立川王煜郭照沛
文献传递
交联SU-8光刻胶与Ni基底结合性的分子动力学模拟被引量:2
2010年
应用分子动力学模拟软件Materials Studio构建SU-8光刻胶与Ni基底的界面结构,研究后烘温度对界面结合性的影响.结合工艺中所采用的后烘温度,模拟计算了338~368K时Ni基底上SU-8胶的交联反应,在经过反复的能量最小化和分子动力学模拟后,对最终得到的平衡结构进行了界面结合能的计算.计算结果表明界面结合能随着后烘温度的升高而增大,在368K时结合能达到最大值,说明此时界面结合最好.对分子体系进行了能量分析,结果表明界面分子间的范德华力作用能是影响界面结合的主要因素.对体系界面原子间进行了径向分布函数分析,发现范德华力作用范围内(0.31~0.60nm)出现两组Ni—O的强峰,也证实了上述结论。
杜立群郭照沛张晓蕾
关键词:SU-8胶交联反应分子动力学模拟
共1页<1>
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