张泽芳
- 作品数：8 被引量：17H指数：2
- 供职机构：上海大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金上海市教育委员会重点学科基金上海市自然科学基金更多>>
- 相关领域：机械工程一般工业技术金属学及工艺更多>>
- 氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法
- 本发明涉及一种氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法，属高精密抛光用磨料的制备工艺技术领域。本发明的制备方法是先制备α-Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>分散液：于去离子水中加入一定量的α-Al<Sub>2...
- 雷红张鹏珍卢海参张泽芳肖保其
- 文献传递
- 新型高性能纳米抛光材料及亚纳米级抛光技术研究
- 雷红褚于良金建华张鹏珍卢海参张泽芳肖保其
- 该课题开展了高性能纳米抛光材料及亚纳米级抛光技术研究。通过制备了一系列纳米磨粒及相应的纳米粒子抛光液，在进口SPEEDFAM工业抛光机上直接实验了各种纳米粒子抛光液的抛光性能，研究了计算机铝镁合金硬盘、玻璃光盘基片等的亚...
- 关键词：
- 关键词：抛光液化学机械抛光
- 氧化铝/高分子聚合物复合磨粒的制备及其抛光性能研究
- 张泽芳
- 超细氧化铝表面改性及其抛光特性被引量：12
- 2007年
- 在化学机械抛光(CMP)中,为了提高氧化铝磨料分散稳定性和防止团聚,利用丙烯酰氯对超细氧化铝进行了表面改性,并用XPS、激光粒度仪、SEM对其进行表征,结果表明改性后的超细氧化铝分散性明显提高。研究了改性后超细氧化铝在数字光盘玻璃基片中的化学机械抛光特性,即外加压力、抛光时间和下盘转速对玻璃基片去除量的影响,并对其CMP机制进行了推断。结果表明,材料去除量随下盘转速、压力变化趋势相近,即随着压力的增加或下盘转速的提高,材料去除量先增大后减小;随抛光时间延长,抛光初期材料去除量增加较快,但在后段时间内去除量增加趋势趋于平缓。
- 卢海参雷红张泽芳肖保其
- 关键词：表面改性超细氧化铝
- 氧化铝/聚苯乙烯磺酸接枝共聚物复合磨粒及其制备方法
- 本发明涉及一种氧化铝/聚苯乙烯磺酸接枝共聚物复合磨粒及其制备方法。该复合磨粒的内核为改性α－Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>，并通过接枝共聚形成聚苯乙烯包覆层，最后经磺化反应得到氧化铝/聚苯乙烯磺酸...
- 雷红张泽芳布乃敬刘平褚凤灵
- 文献传递
- 氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法
- 本发明涉及一种氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法，属高精密抛光用磨料的制备工艺技术领域。本发明的制备方法是先制备α－Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>分散液：于去离子水中加入一定量的α－Al<Sub>2...
- 雷红张鹏珍卢海参张泽芳肖保其
- 文献传递
- 氧化铝/聚苯乙烯磺酸接枝共聚物复合磨粒及其制备方法
- 本发明涉及一种氧化铝/聚苯乙烯磺酸接枝共聚物复合磨粒及其制备方法。该复合磨粒的内核为改性α-Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>，并通过接枝共聚形成聚苯乙烯包覆层，最后经磺化反应得到氧化铝/聚苯乙烯磺酸...
- 雷红张泽芳布乃敬刘平褚凤灵
- 文献传递
- 氧化铝/聚甲基丙烯酸复合粒子的抛光性能被引量：5
- 2008年
- 在化学机械抛光(CMP)中,为了提高氧化铝磨料的分散稳定性及减少抛光划痕,通过硅烷偶联剂在其表面接枝了聚甲基丙烯酸(PMAA)制得了一种新型的复合粒子(-αAl2O3-g-PMAA)。SEM结果表明,制得的复合粒子分散稳定性明显提高。进而用SPEEDFAM-16B-4M抛光机研究了其在玻璃基片中的抛光性能。抛光后玻璃基片表面的ZYGO表面形貌仪和AFM分析结果表明,在相同的抛光条件下,与纯Al2O3磨料相比,所制得的复合粒子表现出了低的表面粗糙度及划痕。该复合粒子可望用做新型CMP磨粒。
- 雷红张泽芳
- 关键词：化学机械抛光
