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娄茁

作品数:6 被引量:27H指数:4
供职机构:沈阳工业大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:辽宁省教育厅高等学校科学研究项目辽宁省博士科研启动基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术理学自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 5篇金属学及工艺
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇理学

主题

  • 3篇电弧离子镀
  • 3篇离子镀
  • 2篇调制周期
  • 2篇硬质
  • 2篇合金
  • 1篇多层膜
  • 1篇硬质膜
  • 1篇韧性
  • 1篇生物相容
  • 1篇生物相容性
  • 1篇铜合金
  • 1篇铝合金
  • 1篇脉冲偏压
  • 1篇耐腐蚀
  • 1篇耐腐蚀性
  • 1篇耐腐蚀性能
  • 1篇耐磨
  • 1篇耐磨性
  • 1篇防护膜
  • 1篇腐蚀性

机构

  • 6篇沈阳工业大学
  • 1篇沈阳大学
  • 1篇中国科学院金...
  • 1篇沈阳市红十字...

作者

  • 6篇娄茁
  • 5篇宋贵宏
  • 4篇陈立佳
  • 3篇李锋
  • 1篇贺春林
  • 1篇张硕
  • 1篇杜昊
  • 1篇熊焰
  • 1篇金弢
  • 1篇熊光连

传媒

  • 2篇沈阳工业大学...
  • 1篇真空
  • 1篇中国有色金属...
  • 1篇Transa...

年份

  • 1篇2015
  • 2篇2012
  • 2篇2011
  • 1篇2010
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
脉冲偏压对铝合金上TiN膜生长的影响被引量:3
2010年
为了研究在铝合金上硬质膜的性能,促进硬质TiN膜在铝合金构件上的应用,利用电弧离子镀在7075铝合金上沉积TiN膜层,并通过改变脉冲偏压幅值研究其对薄膜生长过程的影响.结果表明,生长的TiN膜具有柱状特征,在无偏压或低偏压时,柱状特征明显,但随着负偏压值的增大,柱状特征变得不明显,膜层中Ti和N的原子比率增加,由无偏压、低偏压时近似为1.0增加到-200V偏压时的1.2.在0~-200V偏压范围内,沉积膜的平均生长速率由1.5μm/h增加到11.3μm/h.随着负偏压的增加,TiN膜的(111)方向的择优取向越来越明显,而(200)方向强度越来越小.沉积膜呈柱状生长,具有明显的择优取向,其程度受脉冲偏压影响.
宋贵宏张硕娄茁李锋陈立佳
关键词:TIN膜脉冲偏压薄膜生长硬质膜
电弧离子镀多层膜的工艺及性能研究
为了研究多层膜的力学性能和腐蚀性能,促进多层膜在生产中的应用,本文采用电弧离子镀技术,通过周期性变换环境中N2和Ar气沉积时间,成功地在铜合金和不锈钢上获得不同调制周期的Ti/TiN和Cr/CrN多层膜,并对多层膜的结构...
娄茁
关键词:电弧离子镀调制周期耐磨性
文献传递
铜合金表面Ti/TiN多层膜的制备、结构及其性能被引量:4
2012年
为了研究多层膜的腐蚀性能,促进多层膜在生产中的应用,采用电弧离子镀技术,通过调整环境N2和Ar气的时间比例在铜衬底上成功制备了不同调制周期的Ti/TiN多层膜.利用x-射线衍射谱和交流阻抗谱研究了该多层膜的结构和腐蚀性能.表面形貌显示,沉积的Ti/TiN多层膜具有明显的周期性,环境中N2和Ar气的时间比例决定了多层膜的调制周期,N2气时间越长,多层膜中TiN相层越厚.腐蚀性能测定表明,多层膜的调制周期影响其耐蚀性,当调制周期为550 nm时,沉积膜的耐腐蚀性最好.
宋贵宏娄茁熊光连陈立佳
关键词:电弧离子镀调制周期
Cu丝上沉积Ti/TiN多层膜的研究被引量:4
2011年
铜丝可用于尿毒症患者腹膜透析置管术中的替代导丝。为了减少或消除铜离子对生物组织的损害,增加铜丝表面的生物相容性,同时又保持铜丝较好的塑性变形能力,本文采用电弧离子镀工艺在铜丝上沉积Ti/TiN多层膜。研究结果显示,镀膜铜丝表面光亮呈金黄色。沉积膜有明显的周期性层状特征,TiN相和金属Ti相周期性交替分布。其中,TiN相具有(111)晶面择优取向。沉积膜与铜丝结合良好,弯曲时镀膜铜丝没有出现微裂纹和膜脱落现象。室温消毒液浸泡和高温蒸汽消毒处理后,镀膜铜丝表面没有变化。腹膜透析置管术中使用镀膜铜丝,患者腹膜炎发生率明显降低,镀制Ti/TiN多层膜的铜丝适合应用于腹膜透析手术。
宋贵宏金弢熊焰娄茁杜昊
关键词:生物相容性韧性
电弧离子镀方法制备的Ti/TiN多层膜的结构与耐腐蚀性能被引量:12
2012年
采用电弧离子镀技术,通过周期性变换环境气氛,在7075Al合金上制备了Ti/TiN多层膜,并研究调制周期对多层膜的结构组成和腐蚀性能的影响。结果表明:多层膜与铝合金衬底界面结合较好,基本没有孔洞等缺陷。多层膜具有明显的层状特征,层间界面清晰。多层膜中TiN与单层中TiN薄膜有着相同的晶体结构,并存在(111)择优取向,每个调制周期内的TiN层都呈柱状生长。随着调制周期变小,多层膜阳极极化曲线的腐蚀电位增加,交流阻抗谱的阻抗值增大,容抗弧的半径也增大,即膜层的耐腐蚀性增加。多层膜调制周期的减小使得薄膜中含有的层界面增多,而贯穿至衬底表面的针孔等缺陷的数量将减少,这样,腐蚀性介质经过针孔等缺陷与衬底接触的机会变少,这将使薄膜的抗腐蚀能力得到改善。
宋贵宏娄茁李锋陈立佳
关键词:电弧离子镀耐腐蚀性
Microstructure and indentation toughness of Cr/CrN multilayer coatings by arc ion plating被引量:5
2015年
Cr/CrN multilayer coatings with bilayer periods in the range from 1351 to 260 nm were prepared on 304 stainless steel substrates by arc ion plating to study the microstructure and properties of multilayer coatings and stimulate their application.SEM results confirm the clear periodicity of the Cr/CrN multilayer coatings and the clear interface between individual layers.XRD patterns reveal that these multilayer coatings contain Cr,CrN and Cr_2N phases.Because Cr layer is softer than its nitride layer,the hardness decreases with the shortening of the bilayer period(or increasing volume fraction of Cr layer).The Cr/CrN multilayer coating with 862 nm period possesses the highest indentation toughness due to a proper individual Cr and nitride layer thickness.However,for the Cr/CrN multilayer with the bilayer period of 1351 nm,it possesses the lowest toughness due to more nitride phase.The indentation toughness of Cr/CrN multilayer coatings is related with their bilayer period.A coating with a proper individual Cr and nitride layer thickness possesses the highest indentation toughness.
宋贵宏娄茁李锋陈立佳贺春林
关键词:HARDNESS
共1页<1>
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