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邢启江

作品数:14 被引量:3H指数:1
供职机构:北京大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 8篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 3篇专利

领域

  • 10篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 3篇电阻
  • 3篇异质结
  • 3篇势垒
  • 3篇双异质结
  • 3篇特性参数
  • 3篇特性测试仪
  • 3篇退火
  • 3篇肖特基
  • 3篇肖特基二极管
  • 3篇金属薄膜
  • 3篇光弹效应
  • 3篇二极管
  • 3篇半导体
  • 3篇INGAAS...
  • 3篇变温
  • 3篇波导
  • 3篇测试仪
  • 3篇串联电阻
  • 2篇热稳定
  • 2篇热稳定性

机构

  • 14篇北京大学
  • 1篇中国科学院力...

作者

  • 14篇邢启江
  • 4篇徐万劲
  • 3篇蒋莹莹
  • 3篇王舒民
  • 3篇孙鼎
  • 3篇章蓓
  • 3篇刘国超
  • 3篇陈娓兮
  • 3篇荀坤
  • 3篇贾春燕
  • 3篇冉书能
  • 2篇王若鹏
  • 1篇袁志军
  • 1篇焦鹏飞
  • 1篇唐昕龙
  • 1篇武作兵
  • 1篇高文胜

传媒

  • 4篇半导体光电
  • 2篇Journa...
  • 1篇量子电子学报
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇2000年全...
  • 1篇全国化合物半...

年份

  • 1篇2011
  • 1篇2010
  • 1篇2009
  • 1篇2003
  • 2篇2001
  • 4篇2000
  • 1篇1999
  • 1篇1996
  • 1篇1993
  • 1篇1990
14 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
变温肖特基二极管特性测试仪
本发明提供了一种变温肖特基二极管特性测试仪,属于肖特基二极管测试技术领域。该测试仪包括一变温系统、一数据采集系统和一计算机控制系统,变温系统用于改变肖特基二极管的温度,测得温差电动势信号;数据采集系统用于对肖特基二极管样...
贾春燕刘国超冉书能孙鼎蒋莹莹荀坤邢启江
文献传递
由WNi金属薄膜形成光弹波导结构的研究
邢启江徐万劲
关键词:金属薄膜
文献传递
光弹性波导半导体激光器与电吸收波导调制器
<正>半导体激光器与电吸收波导调制器是光纤通讯和光信息处理关键有源器件之一.光弹性波导半导体激光器与电吸收波导调制具有工艺简单,有利于集成等特点.将金属 WNi 薄膜条淀积到半导体 InP 或 GaAs 为衬底的具有量子...
陈娓兮邢启江焦鹏飞
文献传递
由W_(0.95)Ni_(0.05)金属薄膜形成光弹波导结构的热稳定性
2001年
InGaAsP/InP双异质结构外延片在直流负偏压 12 0V作用下 ,利用射频溅射和光刻剥离技术在样品表面淀积厚为 110nm的W0 .95Ni0 .0 5金属薄膜应变条 ,并在该应变条下的半导体内形成了对InGaAsP/InP双异质结构侧向光具有良好限制作用的光弹波导结构。W0 .95Ni0 .0 5金属薄膜及由其形成的光弹波导器件在氢氮混合气体的保护下 ,分别在 2 50℃、350℃、4 50℃和 60 0℃温度下各退火 30min以后 ,W0 .95Ni0 .0 5金属薄膜中压应变减少了十分之一。光弹波导器件输出椭圆形近场光模长、短轴之比由原来的 2 .0增加到 2 .2 (对 2 μm条宽 )和 2 .5增加到 2 .9(对 4 μm条宽 )。实验结果证明 ,这种波导结构具有很高的热稳定性。
邢启江徐万劲
关键词:光弹效应热稳定性金属薄膜波导结构
高温退火对InGaAsP/InP双异质结光弹波导结构的影响
2000年
光弹效应光电子器件是一种适合光电子集成的新颖平面型器件结构。InGaAsP/InP双异质结外延片在直流负偏压120V作用下,利用射频溅射和光刻刻剥离技术在样品表面沉积110nm厚的W0.95Ni0.05金属薄膜应变条。在W0.95-Ni0.05金属薄膜应变条下的半导体内形成了对InGaAsP/InP双异质结构侧向光具有良好限制作用的光弹波导结构。W0.95Ni0.05金属薄膜及由其形成的光弹波导器件在氢氮混合气体(85%N2,15%H2)的保护下,分别在250℃,350℃,450℃,600℃温度下各退火0.5h以后,W0.95Ni0.05金属薄膜中压应变减少了原来的1/10左右。退火前后光弹波导输出的近场光模没有发生很大的变化。这些实验结果充分证明了由W0.95Ni0.05金属薄膜在InGaAsP/InP双异质结构内形成的光弹波导结构具有很高的热稳定性。
邢启江
关键词:INGAASP/INP高温退火
GaN材料键合技术研究进展被引量:1
2003年
 GaN材料及其有关光电子器件的研制是近年来光电子研究领域内的研究热点之一,而键合技术又是光电子集成研究领域内一项新的制作工艺。利用键合技术也可以研制出一些新型的光电子器件,这些器件用其他生长技术是不可能实现的。概括地介绍了近年来键合技术在GaN光电子器件及其集成领域内的研究进展和应用情况。
袁志军高文胜唐昕龙邢启江
关键词:GAN光电子集成
在InGaAsP/InP双异质结构中的光弹效应及其对侧向光的限制作用
2001年
从理论上计算了厚度为 110 nm的 W0 .95 Ni0 .0 5 金属薄膜应变条在 In Ga As P/ In P双异质结构中形成的应力场分布 ,及由应力场分布引起的折射率变化 .在 W0 .95 Ni0 .0 5 金属薄膜应变条下半导体中 0 .2— 2μm深度范围内 ,由应变引起条形波导轴中央的介电常数 ε相应增加 2 .3× 10 - 1— 2 .2× 10 - 2 (2 μm应变条宽 )和 1.2× 10 - 1— 4.1× 10 - 2(4μm应变条宽 ) .同时 ,测量了由 W0 .95 Ni0 .0 5 金属薄膜应变条所形成的 In Ga As P/ In P双异质结光弹效应波导结构导波的近场光模分布 .从理论计算和实验结果两方面证实了 In Ga As P/ In
邢启江徐万劲武作兵
关键词:光弹效应半导体材料
变温肖特基二极管特性测试仪
本实用新型提供了一种变温肖特基二极管特性测试仪,属于肖特基二极管测试技术领域。该测试仪包括一变温系统、一数据采集系统和一计算机控制系统,变温系统用于改变肖特基二极管的温度,测得温差电动势信号;数据采集系统用于对肖特基二极...
贾春燕刘国超冉书能孙鼎蒋莹莹荀坤邢启江
文献传递
高温退火对InGaAsP/InP双异质结光弹波导结构的影响
光弹效应光电子器件是一种适合光电子集成的新颖平面型器件结构。InGaAsP/InP双异质结外延片在直流负偏压120V作用下,利用射频溅射和光刻刻剥离技术在样品表面沉积110nm厚的W<,0.95>Ni<,0.05>金属薄...
邢启江
关键词:光弹效应热稳定性
文献传递
由WNi金属薄膜形成光弹波导结构的研究
2000年
邢启江徐万劲
关键词:波导结构金属薄膜
共2页<12>
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