王锋
- 作品数：2 被引量：8H指数：2
- 供职机构：中国科学院大连化学物理研究所更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- 低温等离子体辅助脉冲直流磁控溅射制备TiN薄膜被引量：4
- 2014年
- 采用一种新型的等离子体辅助脉冲直流磁控溅射溅射沉积方法,在低温状态(100℃)下制备了氮化钛薄膜,利用X射线衍射仪、轮廓仪、分光光度计、原子力显微镜对氮化钛薄膜进行了表征,研究了等离子体源在薄膜制备过程中的作用。结果表明采用该方法可在低温环境下制备高温抗氧化性能良好的氮化钛薄膜。当离子源功率为500 W时,制备的氮化钛薄膜表现良好氮化钛(111)择优取向,薄膜表面粗糙度为1.43 nm,红外反射率可达到90%。
- 吕起鹏李刚公发全王锋卢俊孙龙金玉奇
- 关键词：低温等离子体氮化钛薄膜
- 欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al_2O_3薄膜被引量：4
- 2014年
- 为实现高纯度氧化铝薄膜的快速稳定溅射沉积,采用非平衡闭合磁场孪生靶技术,利用脉冲直流磁控溅射方法,首先对溅射电压随氧流量的迟滞现象进行了研究,在此基础上,提出了一种新型的等离子体辅助溅射沉积方法。溅射过程处于迟滞回线的金属模式,保证了高的溅射速率;在真空室内引入一等离子体放电区,沉积在工件上的超薄层非化学计量比氧化铝薄膜,高速通过等离子体放电区时,放电区内解离的氧原子使得氧化铝薄膜被进一步氧化,同时放电区内的氩离子对薄膜进行轰击,增加了薄膜的致密性。利用该方法在不同等离子体功率下进行了氧化铝薄膜的制备,分别利用分光光度计、椭偏仪、原子力显微镜对薄膜的光学特性、表面形貌进行了表征,表征结果说明利用该等离子体辅助磁控溅射方法可获得高纯度的致密氧化铝薄膜。
- 李刚吕起鹏公发权王锋孙龙金玉奇
- 关键词：氧化铝薄膜透过率光学常数表面形貌
