李纪宏
- 作品数：3 被引量：18H指数：2
- 供职机构：东南大学材料科学与工程学院江苏省先进金属材料重点实验室更多>>
- 发文基金：江苏省普通高校研究生科研创新计划项目江苏省高校高新技术产业发展项目国家科技支撑计划更多>>
- 相关领域：医药卫生一般工业技术金属学及工艺更多>>
- 基底负偏压对直流磁控溅射CrN薄膜择优取向及表面形貌的影响被引量：12
- 2010年
- 直流磁控溅射法制备不同基底负偏压下的CrN薄膜,采用XRD分析薄膜相结构,EDS分析薄膜表面成分,SEM观察薄膜表面形貌,并对偏压作用机制进行了探讨。结果表明,当Ar流量6ml/min、N2流量30ml/min时,在基底负偏压增大过程中,CrN薄膜始终由CrN相组成,但薄膜生长发生了(111)(-50V)向(200)(-125V)再向无明显择优生长(-225V)的转变。低偏压时,CrN薄膜[111]向[200]取向转变主要是轰击表面氮离子浓度增加导致;高偏压时,薄膜中Ar浓度大幅增长,高能离子长时间轰击破坏晶粒取向性,使薄膜呈无择优取向。同时,负偏压增加使薄膜表面形貌从具有棱角的不规则形状逐渐变为粒状结构,且晶粒逐渐细小。
- 谈淑咏张旭海李纪宏吴湘君蒋建清
- 关键词：表面形貌直流磁控溅射
- 壳聚糖多孔支架电化学辅助沉积羟基磷灰石涂层研究被引量：6
- 2009年
- 采用电化学辅助技术控制阴、阳两极溶液中的钙、磷离子定向迁移,进入壳聚糖多孔支架内部发生反应并在孔隙表面沉积,制备了有机-无机复合多孔支架.应用XRD、SEM、煅烧法、孔隙率测定和压缩实验对支架的组成、形貌、无机物沉积量、孔隙率以及压缩强度进行了表征.研究表明,处理后支架孔隙表面沉积了低结晶度的羟基磷灰石,低倍下沉积层均匀致密,在高的放大倍数下发现,沉积层中存在大量的微孔,沉积层表面存在着球状物,该球状物是由许多小片组成的.沉积6 h时沉积量为支架质量的2.81%,支架孔隙率由96.0%减少到89.8%.与纯壳聚糖支架相比,复合支架的压缩强度由0.0550 MPa提高到0.0998 MPa.
- 黄志海李纪宏林萍华董寅生郭超盛晓波储成林
- 关键词：壳聚糖多孔支架羟基磷灰石涂层
- 壳聚糖多孔支架电化学辅助沉积羟基磷灰石涂层研究
- 2009年
- 采用电化学辅助技术控制阴、阳两极溶液中的钙、磷离子定向迁移,进入壳聚糖多孔支架内部发生反应并在孔隙表面沉积,制备了有机-无机复合多孔支架.应用XRD、SEM、煅烧法、孔隙率测定和压缩实验对支架的组成、形貌、无机物沉积量、孔隙率以及压缩强度进行了表征.研究表明,处理后支架孔隙表面沉积了低结晶度的羟基磷灰石,低倍下沉积层均匀致密,在高的放大倍数下发现,沉积层中存在大量的微孔,沉积层表面存在着球状物,该球状物是由许多小片组成的.沉积6 h时沉积量为支架质量的2.81%,支架孔隙率由96.0%减少到89.8%.与纯壳聚糖支架相比,复合支架的压缩强度由0.0550 MPa提高到0.0998 MPa.
- 黄志海李纪宏林萍华董寅生郭超盛晓波储成林
- 关键词：壳聚糖多孔支架羟基磷灰石涂层
